JP2013504774A5

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Publication number: JP2013504774A5
Application number: JP2012528247A
Authority: JP
Filing date: 2010-08-28
Publication date: 2013-09-26
Anticipated expiration: 2030-08-28

Claims

投影光を放出する光源（５）と、
少なくとも１つの照明ビーム経路（３，８７，８８）と、
前記投影光の結果的強度分布を物体平面に対して光学的に共役な前記照明ビーム経路（３，８７，８８）の瞳平面（１３５）に生成するためにマスク検査顕微鏡の瞳平面に配置された絞りと、
を含み、物体平面に配置されたレチクル（１４５）の構造（１５０）の像をマスク検査顕微鏡の視野平面に生成するためのマスク検査顕微鏡であって、
絞りが、投影光の結果的強度分布が最小及び最大強度値間に少なくとも１つの更に別の強度値を有するような方法で具現化される、
ことを特徴とするマスク検査顕微鏡。
前記絞りは、光透過ピクセルと光不透過ピクセルで構成される少なくとも１つの領域を有し、そのために前記少なくとも１つの更に別の強度値が、該少なくとも１つの領域によって形成されることを特徴とする請求項１に記載のマスク検査顕微鏡。
前記少なくとも１つの領域は、光不透過ピクセルが配置された光透過領域として具現化されることを特徴とする請求項２に記載のマスク検査顕微鏡。
前記少なくとも１つの領域は、光透過ピクセルが配置された光不透過領域として具現化されることを特徴とする請求項２に記載のマスク検査顕微鏡。
前記ピクセル間の距離が、前記絞りで回折される前記投影光のゼロ次の回折次数のものだけが前記少なくとも１つの更に別の強度値に寄与するような方法で具現化されることを特徴とする請求項２から請求項４のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記絞りで回折されるより高い回折次数の投影光を遮光する視野遮光器を含むことを特徴とする請求項２から請求項５のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記絞り上の前記ピクセルの解像度が、最小構造特徴部当たり少なくとも２ピクセルであることを特徴とする請求項２から請求項６のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記少なくとも１つの更に別の強度値は、前記ピクセルのサイズによって変化することを特徴とする請求項２から請求項７のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記少なくとも１つの更に別の強度値は、前記ピクセル間の距離によって変化することを特徴とする請求項２から請求項８のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記ピクセルは、前記絞り上に確率的に配置されることを特徴とする請求項２から請求項９のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記ピクセルは、正方形方式に具現化されることを特徴とする請求項２から請求項１０のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記絞りは、前記少なくとも１つの更に別の強度値が形成されるように前記投影光に対して位置依存方式で変化する透過率を有することを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記絞りは、前記透過率を変更するための少なくとも１つの吸光剤層を有することを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記絞りは、前記透過率を変更するための少なくとも１つの誘電体反射層を有することを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
少なくとも２つの絞りが、絞り板（４５，４５ａ，６５，６５ａ）上にその個々の該絞りが該絞り板（４５，４５ａ，６５，６５ａ）の移動によって変更されるように配置されることを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記絞り板（４５，４５ａ，６５，６５ａ）は、高速作動圧着デバイス（２４０）によって駆動体（５０，７０，５０ａ，７０ａ）に接続されることを特徴とする請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記絞り板（４５，４５ａ，６５，６５ａ）上の前記絞りの位置に関する情報を有するデータ記録が、各絞り板に関して存在することを特徴とする請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記絞りの性質に関する情報を有するデータ記録が、各絞り板に関して存在することを特徴とする請求項１から請求項１７のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
所定の絞り板（４５，４５ａ，６５，６５ａ）に関して照明設定候補を判断するデータ処理システム（２１０）が設けられることを特徴とする請求項１から請求項１８のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
少なくとも１つの偏光子が、前記照明ビーム経路（３，８７，８８）に配置されることを特徴とする請求項１から請求項１９のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記偏光子の少なくとも１つ（１１０）が、前記投影光を直線偏光することを特徴とする請求項１から請求項２０のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記偏光子の少なくとも１つ（１２０）が、前記直線偏光投影光を前記照明ビーム経路の光軸に関して少なくとも区画的にタンジェンシャルに偏光することを特徴とする請求項１から請求項２１のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記物体平面に対して光学的に共役な前記瞳平面の前記投影光の前記結果的強度分布は、複数の絞りによって影響が及ぼされることを特徴とする請求項１から請求項２２のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
少なくとも２つの絞りが、照明ビーム経路（３）に沿って配置されることを特徴とする請求項２３に記載のマスク検査顕微鏡。
少なくとも２つの絞りが、異なる瞳平面に配置されることを特徴とする請求項２４に記載のマスク検査顕微鏡。
少なくとも２つの絞りが、前記瞳平面のうちの１つに併せて配置されることを特徴とする請求項２３から請求項２５のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記絞りの少なくとも１つの第１の組（４５）が、前記投影光の半径依存強度分布が前記物体平面に対して光学的に共役な前記瞳平面（１３５）内で判断されるような方法で構成され、該絞りの少なくとも１つの第２の組（６５）が、該投影光の角度依存強度分布が該瞳平面（１３５）内で判断されるような方法で構成されることを特徴とする請求項２３から請求項２６のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記少なくとも１つの照明ビーム経路（３）は、前記投影光を分割するために少なくとも区画的に少なくとも２つの照明ビーム経路（８７，８８）に分割され、少なくとも１つの絞りが、該照明ビーム経路（８７，８８）の各々に配置されることを特徴とする請求項２３から請求項２７のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記照明ビーム経路（８７，８８）は、前記物体平面の上流で再度組み合わされることを特徴とする請求項２８に記載のマスク検査顕微鏡。
前記投影光の望ましくない偏光の除去のための偏光変換器（３５，３５ａ）が、前記照明ビーム経路の少なくとも１つに配置されることを特徴とする請求項２８又は請求項２９のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記絞りの少なくとも２つが、異なる位置で前記瞳平面（１３５）の前記強度分布に影響を及ぼすことを特徴とする請求項２８から請求項３０のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
少なくとも１つの偏光子（１１０，１２０）が、前記照明ビーム経路の各々に配置されることを特徴とする請求項２８から請求項３１のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
前記投影光は、前記照明ビーム経路（８７，８８）の間で各場合に同一部分の程度まで分割されることを特徴とする請求項２８から請求項３２のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
減衰器（２５，２５ａ）が、前記照明ビーム経路（８７，８８）の少なくとも１つに配置されることを特徴とする請求項２８から請求項３３のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
シャッター（１５）が、前記照明ビーム経路のうちの少なくとも１つに配置されることを特徴とする請求項２８から請求項３４のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。
少なくとも１つのズームレンズ（５５，７５，５５ａ，７５ａ）が、前記少なくとも１つの照明ビーム経路に配置され、該少なくとも１つの照明ビーム経路（３，８７，８８）の瞳平面が、該少なくとも１つのズームレンズによって該照明ビーム経路の少なくとも１つの更に別の瞳平面上に可変サイズで結像されることを特徴とする請求項２３から請求項３５のいずれか１項に記載のマスク検査顕微鏡。