JP6622409B2 - リソグラフィ装置、リソグラフィアライメント方法およびデータ処理システム - Google Patents
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Description
本出願は、2015年8月28日に出願された欧州出願15183058.5号の利益を主張し、その全体が参照により本書に援用される。
本発明は、アライメントセンサを有するリソグラフィ装置およびリソグラフィアライメント方法に関する。
基板を保持するよう構築される基板テーブルと、
基板テーブルにより保持される基板上に設けられるアライメントマークの位置を感知するよう構成されるセンサと、を備え、
センサは、
アライメントマークに放射ビームを照明するよう構成される放射源と、
アライメントマークと相互作用した放射ビームを焦点外光学パターンとして検出するよう構成される検出器と、
焦点外光学パターンを表す画像データを受信するよう構成され、焦点外光学パターンにレンズレス画像化アルゴリズムを適用し、画像データを処理してアライメント情報を決定するよう構成されるデータ処理システムと、を備える。
アライメントマークを有する基板を提供することと、
アライメントマークに放射ビームを出射することと、
アライメントマークと相互作用した放射ビームを検出器により検出することであって、アライメントマークと相互作用した放射ビームが焦点外光学パターンとして検出器に投影されることと、
焦点外光学パターンを表す画像データを検出器から受信することと、
画像データを処理してアライメント情報を決定することであって、焦点外光学パターンにレンズレス画像化アルゴリズムを適用することを含むことと、を備える。
データ処理システムは、
データ入力にて、焦点外光学パターンを表す画像データを受信するよう構成され、
焦点外光学パターンにレンズレス画像化アルゴリズムを適用し、画像データを処理してアライメント情報を決定するよう構成される。
焦点外光学パターンを表す画像データを受信するよう構成され、焦点外光学パターンはアライメントマークと相互作用した放射ビームに由来し、
焦点外光学パターンにレンズレス画像化アルゴリズムを適用し、画像データを処理してアライメント情報を決定するよう構成される。
−放射ビームB(例えばUV放射またはEUV放射)を調整するよう構成される照明システム(イルミネータ)ILと、
−パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するよう構築され、パターニングデバイスを特定のパラメータにしたがって正確に位置決めするよう構成される第1位置決め装置PMに接続されるサポート構造(例えばマスクテーブル)MTと、
−基板(例えばレジストコートされたウェハ)Wを保持するよう構築され、基板を特定のパラメータにしたがって正確に位置決めするよう構成される第2位置決め装置PWに接続される基板テーブル(例えばウェハテーブル)WTと、
−パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されるパターンを基板Wの(例えば一以上のダイを備える)ターゲット部分Cに投影するよう構成される投影システム(例えば屈折型投影レンズシステム)PSと、を備える。
Claims (15)
- 基板を保持するよう構築される基板テーブルと、
前記基板テーブルにより保持される前記基板上に設けられるアライメントマークの位置を感知するよう構成されるセンサと、を備え、
前記センサは、
前記アライメントマークに放射ビームを照明するよう構成される放射源と、
前記アライメントマークと相互作用した放射ビームの空間分布を表す光学パターンを検出するよう構成される検出器であって、前記アライメントマークから前記検出器までの光学経路内に集光光学素子が設けられていない検出器と、
前記光学パターンを表す画像データを受信するよう構成され、前記受信した画像データをソフトウェアで光学系をエミューレートするためのデータに変換してアライメント情報を決定するよう構成されるデータ処理システムと、を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記データ処理システムは、
前記受信した画像データから合成合焦画像を計算し、前記計算された合成合焦画像から前記アライメント情報を決定するよう構成されることにより、前記受信した画像データをソフトウェアで光学系をエミュレートするためのデータに変換するよう構成されることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記放射源は、波長パラメータを受信し、前記波長パラメータに応じて前記放射ビームの波長範囲を制御するよう構成される波長選択素子を備え、
前記データ処理システムは、前記波長パラメータの関数として、前記受信した画像データから合成合焦画像を計算するよう構成されることを特徴とする請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。 - 当該リソグラフィ装置は、前記基板テーブルにより保持される前記基板と前記検出器の間の光学距離が変化するよう前記基板テーブルおよび前記検出器を互いに対して移動させるよう構成され、
前記データ処理システムは、前記受信した画像データから前記アライメント情報を前記光学距離の関数として決定するよう構成されることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記データ処理システムは、逐次再構成アルゴリズムを用いて前記アライメント情報を決定するよう構成されることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサは、参照ビームを提供するよう構成される放射ビーム参照経路をさらに備え、
前記参照ビームは、前記検出器にて前記放射ビームと相互作用し、
前記データ処理システムは、前記受信した画像データから前記アライメント情報を決定するよう構成され、前記受信した画像データは、前記放射ビームと前記参照ビームの相互作用により生じることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記放射ビーム参照経路は、可動の参照構造を備え、
前記センサは、前記参照ビームの伝搬経路の光路長が変化するように前記参照構造を移動させるよう構成され、
前記データ処理システムは、前記受信した画像データから前記アライメント情報を前記光路長の関数として決定するよう構成されることを特徴とする請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 前記放射源は、波長パラメータを受信し、前記波長パラメータに応じて前記放射ビームの波長範囲を制御するよう構成される波長選択素子を備え、
前記データ処理システムは、前記受信した画像データから前記アライメント情報を前記波長パラメータの関数として決定するよう構成されることを特徴とする請求項6または7に記載のリソグラフィ装置。 - 前記データ処理システムは、前記受信した画像データから合成画像を決定することにより前記受信した画像データから前記アライメント情報を決定するよう構成され、前記合成画像から前記アライメント情報を決定するよう構成されることを特徴とする請求項4から8のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記データ処理システムは、合成画像と前記アライメントマークを表す予想画像とを相関させ、および/または、フィルタリングするよう構成され、前記相関および/またはフィルタリングの結果からアライメント情報を導出するよう構成されることを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射源は、一以上の空間的にコヒーレントな放射源を備えることを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射源は、UVからIRまでの波長範囲に及ぶ超広帯域源を備えることを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射源は、波長可変放射源を備えることを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- アライメントマークを有する基板を提供することと、
前記アライメントマークに放射ビームを出射することと、
前記アライメントマークと相互作用した放射ビームの空間分布を表す光学パターンを検出器により検出することであって、前記アライメントマークから前記検出器までの光学経路内に集光光学素子が設けられていないことと、
前記検出器により検出された光学パターンを表す画像データを前記検出器から受信することと、
前記受信した画像データをソフトウェアで光学系をエミュレートするために変換してアライメント情報を決定することと、を備えることを特徴とするリソグラフィアライメント方法。 - 検出器から光学パターンを受信するデータ入力を備えるデータ処理システムであって、
前記光学パターンは、アライメントマークと相互作用した放射ビームの空間分布を表し、前記アライメントマークから前記検出器までの光学経路内に集光光学素子が設けられておらず、
前記データ処理システムは、
前記データ入力にて、前記検出器により検出された光学パターンを表す画像データを受信するよう構成され、
前記受信した画像データをソフトウェアで光学系をエミュレートするためのデータに変換してアライメント情報を決定するよう構成されることを特徴とするデータ処理システム。
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