JP2013503227A - 低分子量水素化ニトリルゴムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
XおよびX’はアニオン性配位子、好ましくはハロゲン、より好ましくはClまたはBrであり;
Lは中性配位子であり;
a、b、c、dは独立してH、−NO2、C1〜12アルキル、C1〜12アルコキシまたはフェニルであり、ここで、フェニルは基C1〜6アルキルおよびC1〜6アルコキシから選択される残基で置換されていてもよく;
R1はC1〜12アルキル、C5〜6シクロアルキル、C7〜18アラルキル、アリールであり;
R2はH、C1〜12アルキル、C5〜6シクロアルキル、C7〜18アラルキル、アリールであり;
R3はH、C1〜12アルキル、C5〜6シクロアルキル、C7〜18アラルキル、アリールである)
のメタセシス触媒が開示されている。
L1は中性配位子であり;
XおよびX’はアニオン性配位子であり;
R1は−C1〜5アルキルまたは−C5〜6シクロアルキルであり;
R2はH、−C1〜20アルキル、−C2〜20アルケニル、−C2〜20アルキニルまたはアリールであり;
R3は−C1〜6アルキル、−C1〜6アルコキシまたはアリールであり、ここで、アリールは−C1〜6アルキルまたは−C1〜6アルコキシで置換されていてもよく;
nは0、1、2または3である)
のメタセシス反応用の(前)触媒としてのルテニウム錯体を開示している。
Mはルテニウムまたはオスミウムであり、
Yは酸素(O)、硫黄(S)、N−R1ラジカルまたはP−R1ラジカルであり、ここで、R1は下に定義される通りであり、
X1およびX2は同一のまたは異なる配位子であり、
R1はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、CR13C(O)R14またはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、
R13は水素またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルもしくはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく;
R14はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく;
R2、R3、R4およびR5は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、有機または無機ラジカルであり、
R6は水素またはアルキル、アルケニル、アルキニルもしくはアリールラジカルであり、
Lは配位子である)
の少なくとも1つの化合物の存在下に反応させる工程を含む水素化ニトリルゴムの製造方法に関する。
R8、R9、R10、R11は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、直鎖もしくは分岐のC1〜C30アルキル、好ましくはC1〜C20アルキル、C3〜C20シクロアルキル、好ましくはC3〜C10シクロアルキル、C2〜C20アルケニル、好ましくはC2〜C10アルケニル、C2〜C20アルキニル、好ましくはC2〜C10アルキニル、C6〜C24アリール、好ましくはC6〜C14アリール、C1〜C20カルボキシレート、好ましくはC1〜C10カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、好ましくはC1〜C10アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、好ましくはC2〜C10アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、好ましくはC2〜C10アルキニルオキシ、C6〜C24アリールオキシ、好ましくはC6〜C14アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、好ましくはC2〜C10アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオ、好ましくはC1〜C10アルキルチオ、C6〜C24アリールチオ、好ましくはC6〜C14アリールチオ、C1〜C20アルキルスルホニル、好ましくはC1〜C10アルキルスルホニル、C1〜C20アルキルスルホネート、好ましくはC1〜C10アルキルスルホネート、C6〜C24アリールスルホネート、好ましくはC6〜C14アリールルスルホネート、またはC1〜C20アルキルスルフィニル、好ましくはC1〜C10アルキルスルフィニルである)
の構造を有する。
M、L、X1、X2、R1、R2、R3、R4およびR5は、前述の好ましい意味だけでなく一般式(I)について与えられた意味を有する)
の化合物である。
X1およびX2が両方ともハロゲン、特に、両方とも塩素であり、
R1が直鎖もしくは分岐のC1〜C12アルキルラジカルであり、
R2、R3、R4、R5が、一般式(I)について与えられた意味および好ましい意味を有し、
Lが、一般式(I)について与えられた意味および好ましい意味を有する
一般式(IV)の触媒が特に好ましい。
X1およびX2が両方とも塩素であり、
R1がイソプロピルラジカルであり、
R2、R3、R4、R5がすべて水素であり、
Lが、式(IIa)または(IIb)
R8、R9、R10、R11は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、直鎖もしくは分岐のC1〜C30アルキル、C3〜C20シクロアルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C6〜C24アリール、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、C6〜C24アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオ、C6〜C24アリールチオ、C1〜C20アルキルスルホニル、C1〜C20アルキルスルホネート、C6〜C24アリールスルホネートまたはC1〜C20アルキルスルフィニルである)
の置換もしくは非置換イミダゾリジンラジカルである
一般式(IV)の触媒が非常に特に好ましい。
M、L、X1、X2、R1、R2、R4およびR5ならびにR6は、一般式(I)について与えられた意味および好ましい意味を有する)
の化合物である。
X1およびX2が両方ともハロゲン、特に両方とも塩素であり、
R1が直鎖もしくは分岐のC1〜C12アルキルラジカルであり、
R2、R4、R5が同一であるかまたは異なり、一般式(I)について与えられた意味および好ましい意味を有し、
Lが、一般式(I)について与えられた意味および好ましい意味を有する
一般式(XIV)の触媒が特に好ましい。
X1およびX2が両方とも塩素であり、
R1がイソプロピルラジカルであり、
R2、R4、R5がそれぞれ水素であり、
Lが、式(IIa)または(IIb)
R8、R9、R10、R11は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、直鎖もしくは分岐の、環式もしくは非環式のC1〜C30アルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C6〜C24アリール、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、C6〜C24アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオ、C6〜C24アリールチオ、C1〜C20アルキルスルホニル、C1〜C20アルキルスルホネート、C6〜C24アリールスルホネートまたはC1〜C20アルキルスルフィニルである)
の置換もしくは非置換イミダゾリジンラジカルである
一般式(XIV)の化合物が非常に特に好ましい。
Mはルテニウムまたはオスミウムであり、
Yは酸素(O)またはN−R1ラジカルであり、
R1はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、
X1およびX2は同一のまたは異なる配位子であり、
R6は水素またはアルキル、アルケニル、アルキニルもしくはアリールラジカルであり、
R2、R3、R4およびR5は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、有機または無機ラジカルであり、
R14はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、
R13は水素またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルもしくはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、
Lは配位子である)
の化合物である。
X1およびX2が両方ともハロゲン、特に、両方とも塩素であり、
R1が水素であり、
R2、R3、R4、R5が、一般式(I)について与えられた意味を有し、
R13、R14が、一般式(I)について与えられた意味を有し、
Lが、一般式(I)について与えられた意味を有する
一般式(XVII)の化合物が特に好ましい。
X1およびX2が両方とも塩素であり、
R1が水素であり、
R2、R3、R4、R5がすべて水素であり、
R13がメチルであり、
R14がメチルであり、
Lが、式(IIa)または(IIb)
R8、R9、R10、R11は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、直鎖もしくは分岐の、環式もしくは非環式のC1〜C30アルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C6〜C24アリール、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、C6〜C24アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオ、C6〜C24アリールチオ、C1〜C20アルキルスルホニル、C1〜C20アルキルスルホネート、C6〜C24アリールスルホネートまたはC1〜C20アルキルスルフィニルである)
の置換もしくは非置換イミダゾリジンラジカルである
一般式(XVII)の化合物が非常に特に好ましい。
M、L、X1、X2、R1、R2、R3、R5およびR6は、一般式(I)について与えられた意味を有するかまたは上述の好ましいもしくは特に好ましい実施形態すべてについて与えられた意味を有することができる)
の構造を有する]
の樹枝状化合物である。
Mはルテニウムまたはオスミウムであり、
Yは酸素(O)、硫黄(S)、N−R1ラジカルまたはP−R1ラジカルであり、ここで、R1は下に定義される通りであり、
X1およびX2は同一のまたは異なる配位子であり、
R1はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、CR13C(O)R14またはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、
R13は水素またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルもしくはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく;
R14はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく;
R2、R3、R4およびR5は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、有機または無機ラジカルであり、
R6は水素またはアルキル、アルケニル、アルキニルもしくはアリールラジカルであり、
Lは配位子である)
の化合物の使用に関する。
Claims (15)
- 水素、任意選択的に少なくとも1つのコオレフィンの存在下に、および一般式(I)
Mはルテニウムまたはオスミウムであり、
Yは酸素(O)、硫黄(S)、N−R1ラジカルまたはP−R1ラジカルであり、ここで、R1は下に定義される通りであり、
X1およびX2は同一のまたは異なる配位子であり、
R1はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、CR13C(O)R14またはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、
R13は水素またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルもしくはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく;
R14はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく;
R2、R3、R4およびR5は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、有機または無機ラジカルであり、
R6は水素またはアルキル、アルケニル、アルキニルもしくはアリールラジカルであり、
Lは配位子である)
の少なくとも1つの化合物の存在下にニトリルゴムを反応させる工程を含む水素化ニトリルゴムの製造方法。 - 前記配位子Lがホスフィン、スルホン化ホスフィン、ホスフェート、ホスフィナイト、ホスホナイト、アルシン、スチビン、エーテル、アミン、アミド、スルホキシド、カルボキシル、ニトロシル、ピリジン、チオエーテルであるか、またはLが置換もしくは非置換イミダゾリジン(「Im」)配位子であり;好ましくは、LがC6〜C24アリールホスフィン、C1〜C6アルキルホスフィンもしくはC3〜C10シクロアルキルホスフィン配位子、スルホン化C6〜C24アリールホスフィンもしくはスルホン化C1〜C10アルキルホスフィン配位子、C6〜C24アリールホスフィナイトもしくはC1〜C10アルキルホスフィナイト配位子、C6〜C24アリールホスホナイトもしくはC1〜C10アルキルホスホナイト配位子、C6〜C24アリールホスファイトもしくはC1〜C10アルキルホスファイト配位子、C6〜C24アリールアルシンもしくはC1〜C10アルキルアルシン配位子、C6〜C24アリールアミンもしくはC1〜C10アルキルアミン配位子、ピリジン配位子、C6〜C24アリールスルホキシドもしくはC1〜C10アルキルスルホキシド配位子、C6〜C24アリールエーテルもしくはC1〜C10アルキルエーテル配位子またはC6〜C24アリールアミドもしくはC1〜C10アルキルアミド配位子であり、そのそれぞれが、フェニル基で置換されていてもよく、そのフェニル基は同様に、ハロゲン、C1〜C5アルキルラジカルもしくはC1〜C5アルコキシラジカルで置換されていてもよいか、またはLが置換もしくは非置換イミダゾリジン(「Im」)配位子であり;より好ましくは、LがPPh3、P(p−Tol)3、P(o−Tol)3、PPh(CH3)2、P(CF3)3、P(p−FC6H4)3、P(p−CF3C6H4)3、P(C6H4−SO3Na)3、P(CH2C6H4−SO3Na)3、P(イソ−Pr)3、P(CHCH3(CH2CH3))3、P(シクロペンチル)3、P(シクロヘキシル)3、P(ネオペンチル)3およびP(ネオフェニル)3からなる群から選択されるか、またはLが置換もしくは非置換イミダゾリジン(「Im」)配位子である前記一般式(I)の触媒が使用される、請求項1に記載の方法。
- 前記イミダゾリジンラジカル(「Im」)が一般式(IIa)または(IIb)
R8、R9、R10、R11は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、直鎖もしくは分岐のC1〜C30アルキル、好ましくはC1〜C20アルキル、C3〜C20シクロアルキル、好ましくはC3〜C10シクロアルキル、C2〜C20アルケニル、好ましくはC2〜C10アルケニル、C2〜C20アルキニル、好ましくはC2〜C10アルキニル、C6〜C24アリール、好ましくはC6〜C14アリール、C1〜C20カルボキシレート、好ましくはC1〜C10カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、好ましくはC1〜C10アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、好ましくはC2〜C10アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、好ましくはC2〜C10アルキニルオキシ、C6〜C24アリールオキシ、好ましくはC6〜C14アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、好ましくはC2〜C10アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオ、好ましくはC1〜C10アルキルチオ、C6〜C24アリールチオ、好ましくはC6〜C14アリールチオ、C1〜C20アルキルスルホニル、好ましくはC1〜C10アルキルスルホニル、C1〜C20アルキルスルホネート、好ましくはC1〜C10アルキルスルホネート、C6〜C24アリールスルホネート、好ましくはC6〜C14アリールルスルホネート、またはC1〜C20アルキルスルフィニル、好ましくはC1〜C10アルキルスルフィニルである)
の構造を有し;好ましくは、前記イミダゾリジンラジカル(Im)が、式中、Mesがいずれの場合にも2,4,6−トリメチルフェニルラジカルである、式(IIIa〜f)
- 前記一般式(I)の触媒におけるX1およびX2が同一であるかまたは異なり、水素、ハロゲン、擬ハロゲン、直鎖もしくは分岐のC1〜C30アルキル、C6〜C24アリール、C1〜C20アルコキシ、C6〜C24アリールオキシ、C3〜C20アルキルジケトネート、C6〜C24アリールジケトネート、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルキルスルホネート、C6〜C24アリールスルホネート、C1〜C20アルキルチオール、C6〜C24アリールチオール、C1〜C20アルキルスルホニルまたはC1〜C20アルキルスルフィニルを表し;好ましくは、X1およびX2が同一であるかまたは異なり、それぞれハロゲン、具体的にはフッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素、ベンゾエート、C1〜C5カルボキシレート、C1〜C5アルキル、フェノキシ、C1〜C5アルコキシ、C1〜C5アルキルチオール、C6〜C24アリールチオール、C6〜C24アリールもしくはC1〜C5アルキルスルホネートであり;より好ましくは、X1およびX2がそれぞれハロゲン、特に塩素、CF3COO、CH3COO、CFH2COO、(CH3)3CO、(CF3)2(CH3)CO、(CF3)(CH3)2CO、PhO、MeO、EtO、トシレート、メシレートまたはCF3SO3である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 式(IV)の前記化合物において、
Mがルテニウムであり、
X1およびX2が両方とも塩素であり、
R1がイソプロピルラジカルであり、
R2、R3、R4、R5がすべて水素であり、
Lが、前記式(IIa)または(IIb)
R8、R9、R10、R11は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、直鎖もしくは分岐のC1〜C30アルキル、C3〜C20シクロアルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C6〜C24アリール、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、C6〜C24アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオ、C6〜C24アリールチオ、C1〜C20アルキルスルホニル、C1〜C20アルキルスルホネート、C6〜C24アリールスルホネートまたはC1〜C20アルキルスルフィニルである)
の置換もしくは非置換イミダゾリジンラジカルである、
請求項5に記載の方法。 - 前記一般式(I)の化合物が一般式(XIV)
Mはルテニウムまたはオスミウムであり、
X1およびX2は同一のまたは異なる配位子であり、
R1はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、CR13C(O)R14またはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、
R13は水素またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルもしくはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく;
R14はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく;
R2、R4およびR5は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、有機または無機ラジカルであり、
R6は水素またはアルキル、アルケニル、アルキニルもしくはアリールラジカルであり、
Lは配位子である)
の構造を有する、請求項1に記載の方法。 - 前記一般式(XIV)の化合物において、
Mがルテニウムであり、
X1およびX2が両方とも塩素であり、
R1がイソプロピルラジカルであり、
R2、R4およびR5がそれぞれ水素であり、
Lが、前記式(IIa)または(IIb)
R8、R9、R10、R11は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、直鎖もしくは分岐の、環式もしくは非環式のC1〜C30アルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C6〜C24アリール、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、C6〜C24アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオ、C6〜C24アリールチオ、C1〜C20アルキルスルホニル、C1〜C20アルキルスルホネート、C6〜C24アリールスルホネートまたはC1〜C20アルキルスルフィニルである)
の置換もしくは非置換イミダゾリジンラジカルである、請求項8に記載の方法。 - 前記一般式(I)の化合物が一般式(XVII)
Mはルテニウムまたはオスミウムであり、
Yは酸素(O)またはN−R1ラジカルであり、
R1はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、またはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、
X1およびX2は同一のまたは異なる配位子であり、
R6は水素またはアルキル、アルケニル、アルキニルもしくはアリールラジカルであり、
R2、R3、R4およびR5は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、有機または無機ラジカルであり、
R14はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、好ましくはR14はC1〜C30アルキル、C3〜C20シクロアルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C6〜C24アリール、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、C6〜C24アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルアミノ、C1〜C20アルキルチオ、C6〜C24アリールチオ、C1〜C20アルキルスルホニルまたはC1〜C20アルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、より好ましくはR14は、C3〜C20シクロアルキルラジカル、C6〜C24アリールラジカルまたは直鎖もしくは分岐のC1〜C30アルキルラジカルであり、後者は任意選択的に、1つ以上の二重もしくは三重結合または1つ以上のヘテロ原子、好ましくは酸素もしくは窒素で割り込まれることができ、
R13は水素またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルもしくはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、好ましくはR13は水素またはC1〜C30アルキル、C3〜C20シクロアルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C6〜C24アリール、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、C6〜C24アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルアミノ、C1〜C20アルキルチオ、C6〜C24アリールチオ、C1〜C20アルキルスルホニルもしくはC1〜C20アルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、より好ましくはR13は、水素またはC3〜C20シクロアルキルラジカル、C6〜C24アリールラジカルまたは直鎖もしくは分岐のC1〜C30アルキルラジカルであり、後者は任意選択的に、1つ以上の二重もしくは三重結合または1つ以上のヘテロ原子、好ましくは酸素もしくは窒素で割り込まれることができ;
Lは配位子である)
の構造を有する、請求項1に記載の方法。 - 前記一般式(XVII)において
Mがルテニウムであり、
X1およびX2が両方とも塩素であり、
R1が水素であり、
R2、R3、R4、R5がすべて水素であり、
R13がメチルであり、
R14がメチルであり、
Lが、前記式(IIa)または(IIb)
R8、R9、R10、R11は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、直鎖もしくは分岐の、環式もしくは非環式のC1〜C30アルキル、C2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C6〜C24アリール、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、C6〜C24アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオ、C6〜C24アリールチオ、C1〜C20アルキルスルホニル、C1〜C20アルキルスルホネート、C6〜C24アリールスルホネートまたはC1〜C20アルキルスルフィニルである)
の置換もしくは非置換イミダゾリジンラジカルである、請求項10に記載の方法。 - 前記一般式(I)の化合物が一般式(XIV)
D1、D2、D3およびD4はそれぞれ、前記式(XIV)のケイ素にメチレン基を介して結合している一般式(XV)
Mはルテニウムまたはオスミウムであり、
Yは酸素(O)、硫黄(S)、N−R1ラジカルまたはP−R1ラジカルであり、ここで、R1は下に定義される通りであり、
X1およびX2は同一のまたは異なる配位子であり、
R1はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、
R2、R3およびR5は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、有機または無機ラジカルであり、
R6は水素またはアルキル、アルケニル、アルキニルもしくはアリールラジカルであり、
Lは配位子である)
の構造を有する]
の構造を有する、請求項1に記載の方法。 - 前記水素化反応が、好ましくはジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、メチルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンおよびシクロヘキサンからなる群から選択される、使用される前記触媒を不活性化せず、かつまた決して前記反応に悪影響を及ぼさない好適な溶媒、特に好ましくはクロロベンゼン中で実施される、請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
- 前記一般式(I)の化合物の量が、使用される前記ニトリルゴムを基準として、5〜1000ppm、好ましくは5〜500ppm、特に5〜250ppm、より好ましくは5〜100ppmの貴金属である、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
- ニトリルゴムの同時水素化およびメタセシスによる水素化ニトリルゴムの製造方法における前記一般式(I)
Mはルテニウムまたはオスミウムであり、
Yは酸素(O)、硫黄(S)、N−R1ラジカルまたはP−R1ラジカルであり、ここで、R1は下に定義される通りであり、
X1およびX2は同一のまたは異なる配位子であり、
R1はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、CR13C(O)R14またはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく、
R13は水素またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルもしくはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく;
R14はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニルラジカルであり、そのそれぞれは1つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールラジカルで任意選択的に置換されていてもよく;
R2、R3、R4およびR5は同一であるかまたは異なり、それぞれ水素、有機または無機ラジカルであり、
R6は水素またはアルキル、アルケニル、アルキニルもしくはアリールラジカルであり、
Lは配位子である)
の化合物の使用。
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