JP2013251300A - 層間接続装置および層間接続方法 - Google Patents

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誠也 中居
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光正 芝田
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Abstract

【課題】樹脂絶縁層の両面それぞれに形成された金属導体パターンどうしを絶縁層を貫通して良好に接続することができる技術を提供する。
【解決手段】絶縁層201の接続部分C1,C2が、押圧面2a,3aの重畳部分の面積がいずれか一方の押圧面2a,3aの面積よりも小さくなるように配置されたヘッド2およびアンビル3により狭持されて押圧されるので、押圧面2aの端縁により押圧面3aに対してエッジが形成される。したがって、接続部分C1,C2における絶縁層201が当該エッジによりせん断されて貫通孔が形成されるので、樹脂絶縁層201の両面それぞれに形成されたアンテナパターン202およびブリッジパターン203どうしを絶縁層201を貫通して良好に接続することができる。
【選択図】図7

Description

本発明は、樹脂絶縁層の両面に形成された金属導体パターンどうしを絶縁層を貫通して接続する技術に関する。
近年、FeliCa(登録商標)等、NFC(Near Field Communication)規格の近距離通信を行うために構成された非接触ICカードが、鉄道の自動改札やコンビニエンスストア等の自動決済などに用いられている。このとき用いられる非接触ICカードは、通信用アンテナおよび通信用半導体チップが搭載されたアンテナモジュールを備えており、アンテナモジュールは、例えば次のようにして形成される(特許文献1参照)。
すなわち、PEN(ポリエチレンナフタレート)やPET(ポリエチレンテレフタレート)などの比較的融点の低い熱可塑性樹脂による絶縁性の樹脂フィルムからなる絶縁層の一方の主面にAl、Cu等の金属導体によりアンテナパターンが渦巻状に形成され、他方の主面には、前記渦巻状のアンテナパターンの最も外側の一端と最も内側の他端とを接続するためのブリッジパターンが金属導体により形成されている。そして、半導体チップがブリッジパターンを介してアンテナパターンの両端部に搭載されている。また、樹脂絶縁層の一方の主面に形成されたアンテナパターンと、他方の主面に形成されたブリッジパターンとは、超音波振動溶着ヘッドにより加圧されながら両金属導体パターンに19.5kHzの超音波振動が印加されることにより、融点の低い樹脂フィルム材が先に溶融して貫通孔が形成されて接合される。
特開2004−134678号公報(段落0015〜0027、図1〜4など)
上記した従来の方法では、熱硬化性の樹脂により絶縁層が形成されている場合には、超音波振動が印加されても熱により絶縁層が溶融しないので絶縁層に貫通孔が良好に形成されず、そのため、絶縁層の両面に形成された金属導体パターン間に樹脂が残存して接続不良となるおそれがある。また、熱可塑性の樹脂であっても、例えば約270℃以上の融点を有する熱可塑性の樹脂により絶縁層が形成されている場合には、超音波振動が印加されても熱により絶縁層が溶融し辛いので、熱硬化性の樹脂と同様に絶縁層に貫通孔が良好に形成されず、絶縁層の両面に形成された金属導体パターン間に樹脂が残存して接続不良となるおそれがある。
したがって、熱硬化性の樹脂により絶縁層が形成されている場合や、約270℃以上の融点を有する熱可塑性の樹脂により絶縁層が形成されている場合には、従来の方法では絶縁層の両面に形成された両金属パターンどうしを良好に接続することができないおそれがあることから、樹脂絶縁層が、熱硬化性の樹脂により形成されている場合や、約270℃以上の融点を有する熱可塑性の樹脂により形成されている場合であっても、樹脂絶縁層の両面それぞれに形成された金属パターンどうしを絶縁層を貫通して良好に接続することができる技術が要望されている。
この発明は、上記した課題に鑑みてなされたものであり、樹脂絶縁層の両面それぞれに形成された金属導体パターンどうしを絶縁層を貫通して良好に接続することができる技術を提供することを目的とする。
上記した目的を達成するために、本発明にかかる層間接続装置は、樹脂絶縁層の両面に金属導体パターンが形成されてなる配線基板の前記両金属導体パターンどうしを、前記絶縁層を貫通して接続する層間接続装置において、前記両金属導体パターンの接続部分を一方側から押圧する第1押圧体と、前記両金属導体パターンの前記接続部分を、前記第1押圧体との間に狭持して他方側から押圧する第2押圧体と、狭持状態の前記接続部分に超音波振動を印加する振動印加手段とを備え、前記接続部分における前記第1押圧体の押圧面と、前記接続部分における前記第2押圧体の押圧面との重畳部分の面積が、前記両押圧体のうち少なくともいずれか一方の押圧面の面積よりも小さくなるように前記第1押圧体および前記第2押圧体が配置されていることを特徴としている(請求項1)。
また、前記第1押圧体の押圧面の面積および前記第2押圧体の押圧面の面積の大きさが異なっていてもよい(請求項2)。
また、前記第1押圧体および前記第2押圧体のいずれか一方は、押圧面に向かうに連れて先細りに形成されていてもよい(請求項3)。
また、本発明にかかる層間接続方法は、樹脂絶縁層の両面に金属導体パターンが形成されてなる配線基板の前記両金属導体パターンどうしを、前記絶縁層を貫通して接続する層間接続方法において、前記両金属パターンの接続部分の一方側および他方側それぞれから第1押圧体および第2押圧体により狭持した状態で前記接続部分に超音波振動を印加しつつ押圧し、前記接続部分における前記第1押圧体の押圧面と、前記接続部分における前記第2押圧体の押圧面との重畳部分の面積が、前記両押圧体のうち少なくともいずれか一方の押圧面の面積よりも小さくなるように、前記第1押圧体および前記第2押圧体により前記両金属導体パターンを狭持することを特徴としている(請求項4)。
また、前記第1押圧体の押圧面の面積および前記第2押圧体の押圧面の面積の大きさが異なっていてもよい(請求項5)。
請求項1,4に記載の発明によれば、樹脂絶縁層の両面に金属導体パターンが形成されてなる配線基板の両金属導体パターンの接続部分を一方側および他方側それぞれから押圧する第1押圧体の押圧面と第2押圧体の押圧面との重畳部分の面積が、両押圧体のうち少なくともいずれか一方の押圧面の面積よりも小さくなるように第1押圧体および第2押圧体が配置されて、両金属導体パターンは接続部分において第1押圧体の押圧面および第2押圧体の押圧面により狭持される。そのため、第1押圧体の押圧面および第2押圧体の押圧面の配置関係が、第1押圧体および第2押圧体のいずれか一方の押圧面全体が他方の押圧面内に配置された関係か、両押圧面の端縁どうしが交差して両押圧面が位置ずれした状態で配置された関係となる。
したがって、絶縁層の両面それぞれに形成された両金属パターンの接続部分が一方側および他方側それぞれから第1押圧体の押圧面および第2押圧体の押圧面により狭持された状態で押圧される際に、第1押圧体および第2押圧体の少なくともいずれか一方の押圧面の端縁により他方の押圧面に対してエッジが形成されるため、両金属パターンの接続部分における絶縁層が当該エッジによりせん断されて接続部分の絶縁層に貫通孔が形成される。このとき、両押圧体の両押圧面に狭持された状態の両金属導体パターンの接続部分には超音波振動が印加されているので、樹脂絶縁層が熱硬化性の樹脂や約270℃以上の融点を有する熱可塑性の樹脂により形成されている場合であっても、超音波振動により樹脂絶縁層が確実にせん断されて絶縁層に貫通孔が良好に形成され、形成された貫通孔内において両金属導体パターンどうしが超音波振動により接合されて確実に接続される。したがって、熱硬化性または約270℃以上の融点を有する熱可塑性の樹脂絶縁層の両面それぞれに形成された金属導体パターンどうしを絶縁層を貫通して良好に接続することができ、樹脂絶縁層の材質に関わらず、樹脂絶縁層の両面それぞれに形成された金属導体パターンどうしを絶縁層を貫通して良好に接続することができる。
請求項2,5に記載の発明によれば、第1押圧体の押圧面の面積および第2押圧体の押圧面の面積の大きさを異ならせることにより、面積が小さい一方の押圧面全体を面積が大きい他方の押圧面内に配置することができるので、面積が小さい一方の押圧面の端縁全体により、面積が大きい他方の押圧面に対してエッジを形成することができ、より効率よく絶縁層に貫通孔を形成することができる。
請求項3に記載の発明によれば、第1押圧体および第2押圧体のいずれか一方は、押圧面に向かうに連れて先細りに形成されているので、絶縁層の両面それぞれに形成された両金属パターンの接続部分が一方側および他方側それぞれから第1押圧体の押圧面および第2押圧体の押圧面により狭持された状態で押圧される際の絶縁層に対する穿設力を増大することができ、絶縁層により確実に貫通孔を形成することができる。
本発明の層間接続装置の一実施形態を示す図である。 図1の層間接続装置の要部拡大図であり、(a)は断面正面図、(b)は平面図ある。 アンテナモジュールを示す図である。 図1の層間接続装置におけるキャリブレーション処理を示す図であり、(a)〜(c)はそれぞれ異なる状態を示す。 図1の層間接続装置におけるフレキシブル配線基板の搬送処理を示す図であり、(a)〜(d)はそれぞれ異なる状態を示す。 図1の層間接続装置における接続処理を示す図であり、(a)〜(d)はそれぞれ異なる状態を示す。 図6の接続処理を説明するための要部拡大図であり、(a)〜(d)はそれぞれ異なる状態を示す。 ヘッドの押圧面とアンビルの押圧面との配置関係を示す図である。
この発明の一実施形態について図1〜図7を参照して説明する。図1は本発明の層間接続装置の一実施形態を示す図である。図2は図1の層間接続装置の要部拡大図であり、(a)は断面正面図、(b)は平面図である。図3はアンテナモジュールを示す平面図である。図4は図1の層間接続装置におけるキャリブレーション処理を示す図であり、(a)〜(c)はそれぞれ異なる状態を示す。図5は図1の層間接続装置におけるフレキシブル配線基板の搬送処理を示す図であり、(a)〜(d)はそれぞれ異なる状態を示す。図6は図1の層間接続装置における接続処理を示す図であり、(a)〜(d)はそれぞれ異なる状態を示す。図7は図6の接続処理を説明するための要部拡大図であり、(a)〜(d)はそれぞれ異なる状態を示す。
(層間接続装置)
図1に示す層間接続装置1は、熱硬化性や約270℃以上の融点を有する熱可塑性の樹脂等により形成された樹脂絶縁層201の両面に金属導体パターンとしてアンテナパターン202およびブリッジパターン203が形成されてなる配線基板200(図3参照)の、アンテナパターン202とブリッジパターン203とを絶縁層201を貫通して接合することにより接続する。
図1に示すように、層間接続装置1は、ヘッド2と、アンビル3と、搬送機構4と、認識手段5とを備え、搬送機構4が備えるステージ41上にフレキシブル配線基板200a(配線基板200)が吸着保持される。
ヘッド2(本発明の「第1押圧体」、「振動印加手段」に相当)は、アンテナパターン202およびブリッジパターン203の接続部分C1,C2(図3、図7参照)を、配線基板200の一方側であるアンテナパターン202側から押圧するものであり、リニアモータやサーボモータ等により構成される図示省略された駆動機構により、図1中の矢印X,Y,Z,θ方向に移動可能に配設されている。また、アンビル3(本発明の「第2押圧体」に相当)は、ヘッド2に対向配置されて、アンテナパターン202およびブリッジパターン203の接続部分C1,C2をヘッド2との間に狭持して、配線基板200の他方側であるブリッジパターン203側から押圧するものであり、リニアモータやサーボモータ等により構成される図示省略された駆動機構により、図1中の矢印X,Y方向に移動可能に配設されている。
また、図2(a),(b)に示すように、ヘッド2の押圧面2aの面積およびアンビル3の押圧面3aの面積の大きさが、異なる大きさに形成されている。具体的には、ヘッド2の押圧面2aは一辺の長さがmの矩形状に形成され、アンビル3の押圧面3aは一辺の長さがn(m<n)の矩形状に形成されている。また、図2(a)に示すように、ヘッド2は、その縦断面における先端角度がαとなるように、押圧面2aに向かうに連れて先細りに形成されている。そして、図2(a),(b)に示すように、アンテナパターン202およびブリッジパターン203の接続部分C1,C2において、ヘッド2の押圧面2aとアンビル3の押圧面3aとの重畳部分の面積Sが、ヘッド2およびアンビル3のうち少なくともいずれか一方の押圧面2a,3aの面積よりも小さくなるようにヘッド2およびアンビル3が対向配置されて、接続部分C1,C2において、アンテナパターン202およびブリッジパターン203がヘッド2およびアンビル3により狭持される。
また、ヘッド2は、振動子(図示省略)の超音波振動に共振する共振器構造を有しており、ヘッド2とアンビル3との間に狭持された状態のアンテナパターン202およびブリッジパターン203の接続部分C1,C2に超音波振動を印加する。
なお、図7に示すように、この実施形態では、ヘッド2およびアンビル3は、それぞれ、2個の押圧面2a,3aを有しており、アンテナパターン202とブリッジパターン203とが2箇所の接続部分C1,C2において同時に接続されるように構成されている。しかしながら、ヘッド2およびアンビル3が、それぞれ、1個の押圧面2a,3aを有するように構成し、アンテナパターン202とブリッジパターン203とを両接続部分C1,C2ごとに順次接続するように構成してもよい。また、両接続部分C1,C2それぞれに対して複数の押圧面2a,3aが配置されるようにヘッド2およびアンビル3を構成し、両接続部分C1,C2それぞれにおいて、アンテナパターン202およびブリッジパターン203が複数個所で接続されるようにしてもよい。このように構成すると、両接続部分C1,C2それぞれにおいて、アンテナパターン202およびブリッジパターン203が複数の接続箇所により接続されるため、アンテナパターン202およびブリッジパターン203の接続の信頼性を向上することができる。
搬送機構4は、図2に示す配線基板200に個片化される前のテープ状に形成されたフレキシブル配線基板200aを吸着保持する吸着保持するステージ41と、接続処理前のフレキシブル配線基板200aを巻回して保持する供給リール42と、接続処理後のフレキシブル配線基板200aを巻回して回収する回収リール43とを備えている。
ステージ41は、矩形枠状に形成されており、その内側の開口部分にアンビル3が配置されると共に、一方の対向する2片がY方向に、他方の対向する2片がX方向(矢印f方向)に沿うようにヘッド2の下方に配設されている。また、ステージ41は、リニアモータやサーボモータ等により構成される図示省略された駆動機構により図1中の矢印X,Z方向に移動可能に構成されている。
また、ステージ41の、フレキシブル配線基板200aの搬送方向(図1中の矢印f方向)における上流側および下流側のそれぞれに配置される一方の対向する2片のそれぞれには、フレキシブル配線基板200aをその上面に吸着するための吸着機構が設けられている。この実施形態では、吸着機構は、配線基板200を下方から吸引して吸着するための吸引孔41aを備えており、吸着機構は、図示省略された吸引装置により吸引孔41aを介してフレキシブル配線基板200aを下方から吸引することにより、ステージ41の上面にフレキシブル配線基板200aを吸着保持する。
供給リール42は、搬送方向fにおけるステージ41の上流側に配設されて、両面にそれぞれに形成されたアンテナパターン202およびブリッジパターン203の接続処理が行われる前のフレキシブル配線基板200aを巻回して保持する。また、回収リール43は、搬送方向fにおけるステージ41の下流側に配設されて、上記接続処理が行われた後のフレキシブル配線基板200aを巻回して回収する。
そして、搬送機構4は、その上面にフレキシブル配線基板200aを吸着保持した状態のステージ41をヘッド2側の上方(Z方向)に駆動しつつ搬送方向f(X方向における回収リール43側の右方)に駆動することにより、フレキシブル配線基板200aを供給リール42から回収リール43に向けて搬送方向fに搬送する。フレキシブル配線基板200aの搬送処理については後で詳細に説明する。
なお、この実施形態ではステージ41は矩形枠状に形成されているが、ステージ41の構成としてはこれに限らず、少なくとも、搬送方向fにおけるアンビル3の上流側および下流側においてフレキシブル配線基板200aを吸着や機械的なチャッキング等して保持できる構成であれば、ステージ41をどのように構成してもよい。
認識手段5は、CCDカメラやCMOSカメラ等の撮像手段を備え、ステージ4(アンビル3)の上方に配設されて、認識手段5の下方に配設されているアンビル3の押圧面3aや、ステージ4に吸着保持されたフレキシブル配線基板200aを撮影することによって、アンビル3の押圧面3aやフレキシブル配線基板200aに形成されたアンテナパターン202、ブリッジパターン203などの位置を認識する。また、認識手段5は、平面視におけるヘッド2との位置関係が固定されて配置されており、リニアモータやサーボモータ等により構成される図示省略された駆動機構により図1中の矢印X,Y方向にヘッド2と一体的に移動可能に構成されると共に、矢印Z方向に移動可能に構成されている。
そして、層間接続装置1は、フレキシブル配線基板200aをステージ41に吸着保持した状態で、認識手段5によって取得されたフレキシブル配線基板200aの位置情報に基づいて、ヘッド2およびアンビル3を、それぞれ、X,Y方向に移動させて所定位置において対向配置させる。また、層間接続装置1は、ヘッド2をアンビル3側に下降させることによって、配線基板200aの両面のそれぞれに形成されたアンテナパターン202およびブリッジパターン203をヘッド2の押圧面2aとアンビル3の押圧面3aとの間に狭持すると共にヘッド2を超音波振動させて当該狭持部分に超音波振動を印加することにより、アンテナパターン202とブリッジパターン203とを絶縁層201を貫通して接合して接続する。
(配線基板)
図3に示す配線基板200は、FeliCa等、NFC規格の近距離通信を行うための非接触ICカードを構成するためのアンテナモジュールとして形成される(図7参照)。配線基板200は、熱硬化性のPI(ポリイミド)やEP(エポキシ)、PA(ポリアミド)、または、270℃以上の融点を有する熱可塑性のPEI(ポリエーテルイミド:融点365℃)やPPS(ポリフェニレンスルファイド:融点280℃)などの樹脂絶縁層201の一方の主面にAl、Cu、Ag、Au等の金属導体により接着剤層204aを介してアンテナパターン202が渦巻状に形成され、他方の主面には、渦巻状のアンテナパターン202の最も外側の一端と最も内側の他端とを接続するためのブリッジパターン203がAl、Cu、Ag、Au等の金属導体により接着剤層204bを介して形成されている。そして、通信用の半導体チップ205がブリッジパターン203を介してアンテナパターン202の両端部に搭載されている。
また、絶縁層201の一方の主面に形成されたアンテナパターン202と、他方の主面に形成されたブリッジパターン203とは、接続部分C1,C2において、ヘッド2の押圧面2aによりアンビル3の押圧面3aに対して加圧されながら両パターン202,203に超音波振動が印加されることによって、絶縁層201を貫通して接続されている。
なお、この実施形態では、接着剤層204a,204bは、ポリイミド系やエポキシ系等の接着剤により形成されている。また、この実施形態では、アンテナパターン202とブリッジパターン203との接続処理は、配線基板200に個片化される前のテープ状のフレキシブル配線基板200aの状態において実行されるが、配線基板200に個片化された状態で両パターン202,203の接続処理を実行してもよい。また、テープ状のフレキシブル配線基板200aには、配線基板200を構成する一組のアンテナパターン202およびブリッジパターン203が所定間隔ごとに形成されている。
(キャリブレーション処理)
図4(a)〜(c)に示すように、層間接続装置1では、アンテナパターン202とブリッジパターン203との接続処理に先立って、ヘッド2、アンビル3および認識手段5の配置関係を較正するキャリブレーション処理が実行される。具体的には、ヘッド2および認識手段5のX,Y方向における配置関係が計測された後に、認識手段5(ヘッド2)およびアンビル3の配置関係が計測される。
キャリブレーション処理では、まず、図4(a)に示すように、アンビル3の押圧面3a上に固定配置された較正用治具300が、ヘッド2の押圧面2aによりアンビル3の押圧面3aに対して押圧される。較正用治具300は、例えば、可塑性を有する樹脂材料により形成されており、アンビル3側に下降したヘッド2の押圧面2aによって較正用治具300がアンビル3に対して押圧されることにより、較正用治具300に位置認識用の凹部300aが形成される。
次に、図4(b)に示すように、ヘッド2が上方に移動された後、アンビル3の位置が固定された状態で、ヘッド2と一体的にX,Y方向に移動する認識手段5により凹部の位置が認識されることによって、認識手段5が凹部300aの上方に正確に配置される。そして、ヘッド2により較正用治具300に凹部300aが形成されたときの認識手段5の配置位置から、認識手段5(ヘッド2)が凹部300aの上方に配置されるまでの認識手段5(ヘッド2)のX,Y方向における移動距離に基づいて、ヘッド2および認識手段5の配置関係が正確に計測される。
続いて、図4(c)に示すように、較正用治具300が取り除かれた状態で、認識手段5によりアンビル3の押圧面3aの位置が認識されることによって、認識手段5(ヘッド2)およびアンビル3の配置関係が正確に計測されることにより、キャリブレーション処理が終了する。
なお、較正用治具300の構成については上記した例に限るものではなく、ヘッド2の押圧面2aにより押圧された痕跡を残すことができるものであれば、どのようなものであってもよい。
(搬送処理)
図5(a)〜(d)に示すように、この実施形態では、フレキシブル配線基板200aを下方から吸着保持するステージ41がヘッド2側である上方(Z方向)に移動しつつ搬送方向fに移動することにより、フレキシブル配線基板200aが搬送方向fに搬送される。すなわち、図5(a)に示すように、フレキシブル配線基板200aを下方から吸着保持した状態でステージ41がヘッド2側である上方に移動しつつ搬送方向fに移動することにより、フレキシブル配線基板200aが搬送方向fに所定量搬送される。
次に、図5(b)に示すように、フレキシブル配線基板200aの吸着が解除された状態でステージ41が下方へ移動しつつ搬送方向fと逆方向に移動した後に、図5(c)に示すように、再度、フレキシブル配線基板200aを下方から吸着保持した状態でステージ41がヘッド2側である上方に移動しつつ搬送方向fに移動することにより、フレキシブル配線基板200aが搬送方向fに所定量搬送される。そして、図5(a)〜(c)の動作が繰り返し実行されることにより、フレキシブル配線基板200aに形成されたアンテナパターン202およびブリッジパターン203のうち、接続処理の対象であるアンテナパターン202およびブリッジパターン203が、ヘッド2およびアンビル3間における所定位置に配置されると、フレキシブル配線基板200aがステージ41に吸着保持された状態で搬送処理が終了する(図5(d))。
(接続処理)
図6(a)〜(d)に示すように、フレキシブル配線基板200aの搬送処理が終了した後、認識手段5により認識されたフレキシブル配線基板200aの接続部分C1,C2の位置情報に基づいてヘッド2およびアンビル3が位置決めされて、アンテナパターン202およびブリッジパターン203の接続処理が実行される。
すなわち、まず、図6(a)に示すように、認識手段5によりフレキシブル配線基板200aの接続部分C1,C2の位置が認識される。次に、図6(b)に示すように、認識手段5により認識されたフレキシブル配線基板200aの接続部分C1,C2の位置情報に基づいて、ヘッド2およびアンビル3が位置決めされて対向配置される(図7(a)参照)。
続いて、図6(c)に示すように、ヘッド2がアンビル側の下方に移動することによって、ヘッド2の押圧面2aによりフレキシブル配線基板200aの接続部分C1,C2がアンビル3の押圧面3aに対して押圧されると共に、接続部分C1,C2に対して超音波振動が印加される(図7(b)参照)。このとき、図7(c)に示すように、ヘッド2の押圧面2aの端縁によりアンビル3の押圧面3aに対して形成されるエッジによって絶縁層201(接着剤層204a,204b)に貫通孔が形成され、当該貫通孔内においてアンテナパターン202およびブリッジパターン203が超音波振動により接合されることにより接続される。
そして、図6(d)に示すように、アンテナパターン202とブリッジパターン203とが絶縁層201を貫通して接続されれば、ヘッド2が上方に移動することにより接続処理が終了する(図7(d)参照)。なお、接続処理が終了した後は、フレキシブル配線基板200aが搬送処理により搬送方向fにさらに搬送された後、図6(a)〜(d)の処理が繰り返し実行される。
次に、配線基板200の具体例について説明する(図2(a)、図3、図7(d)参照)。
(第1実施例)
絶縁層201(厚み):PIフィルム(12.5μm)
アンテナパターン202(厚み):電解めっきによる銅箔(12μm)
ブリッジパターン203(厚み):電解めっきによる銅箔(12μm)
接着剤層204a(厚み):PI樹脂(3μm)
接着剤層204b(厚み):PI樹脂(3μm)
上記材質で形成された配線基板200のアンテナパターン202およびブリッジパターン203を、接続部分C1,C2において、1辺の長さmが0.1mmの矩形状の押圧面2aおよび110°の先端角度αを有するヘッド2と、1辺の長さnが0.2mmの矩形状の押圧面3aを有するアンビル3との間に狭持して、300Nの荷重で押圧しつつ39.5KHzの超音波振動を印加することにより、絶縁層201を貫通して良好に接続することができた。
(第2実施例)
絶縁層201(厚み):PIフィルム(25μm)
アンテナパターン202(厚み):圧延銅箔(18μm)
ブリッジパターン203(厚み):圧延銅箔(18μm)
接着剤層204a(厚み):PI樹脂(3μm)
接着剤層204b(厚み):PI樹脂(3μm)
上記材質で形成された配線基板200のアンテナパターン202およびブリッジパターン203を、接続部分C1,C2において、1辺の長さmが0.1mmの矩形状の押圧面2aおよび90°の先端角度αを有するヘッド2と、1辺の長さnが0.2mmの矩形状の押圧面3aを有するアンビル3との間に狭持して、300Nの荷重で押圧しつつ39.5KHzの超音波振動を印加することにより、絶縁層201を貫通して良好に接続することができた。
(第3実施例)
絶縁層201(厚み):PIフィルム(12.5μm)
アンテナパターン202(厚み):電解めっきによる銅箔(18μm)
ブリッジパターン203(厚み):電解めっきによる銅箔(18μm)
接着剤層204a(厚み):EP系樹脂(10μm)
接着剤層204b(厚み):EP系樹脂(10μm)
上記材質で形成された配線基板200のアンテナパターン202およびブリッジパターン203を、接続部分C1,C2において、1辺の長さmが0.1mmの矩形状の押圧面2aおよび70°の先端角度αを有するヘッド2と、1辺の長さnが0.2mmの矩形状の押圧面3aを有するアンビル3との間に狭持して、300Nの荷重で押圧しつつ39.5KHzの超音波振動を印加することにより、絶縁層201を貫通して良好に接続することができた。
(第4実施例)
絶縁層201(厚み):PIフィルム(25μm)
アンテナパターン202(厚み):電解めっきによる銅箔(35μm)
ブリッジパターン203(厚み):電解めっきによる銅箔(35μm)
接着剤層204a(厚み):EP系樹脂(15μm)
接着剤層204b(厚み):EP系樹脂(15μm)
上記材質で形成された配線基板200のアンテナパターン202およびブリッジパターン203を、接続部分C1,C2において、1辺の長さmが0.1mmの矩形状の押圧面2aおよび70°の先端角度αを有するヘッド2と、1辺の長さnが0.2mmの矩形状の押圧面3aを有するアンビル3との間に狭持して、300Nの荷重で押圧しつつ39.5KHzの超音波振動を印加することにより、絶縁層201を貫通して良好に接続することができた。
以上のように、この実施形態によれば、熱硬化性または270℃以上の融点を有する熱可塑性の樹脂絶縁層201の両面のそれぞれにアンテナパターン202およびブリッジパターン203が形成されてなる配線基板200aの両パターン202,203の接続部分C1,C2を、一方側および他方側それぞれから押圧するヘッド2の押圧面2aとアンビル3の押圧面3aとの重畳部分の面積Sが、ヘッド2およびアンビル3のうち少なくともいずれか一方の押圧面2a,3aの面積よりも小さくなるようにヘッド2およびアンビル3が配置されて、両パターン202,203は、接続部分C1,C2においてヘッド2の押圧面2aおよびアンビル3の押圧面3aにより狭持される。具体的には、両パターン202,203が接続部分C1,C2においてヘッド2およびアンビル3により狭持された状態で、平面視において、ヘッド2の押圧面2a全体がアンビル3の押圧面3a内に配置されるように、ヘッド2およびアンビル3が配置されている(図2(b)参照)。
したがって、絶縁層201の両面それぞれに形成されたアンテナパターン202およびブリッジパターン203の接続部分C1,C2が、一方側および他方側それぞれからヘッド2の押圧面2aおよびアンビル3の押圧面3aにより狭持された状態で押圧される際に、ヘッド2の押圧面2aの端縁によりアンビル3の押圧面3aに対してエッジが形成されるため、両パターン202,203の接続部分C1,C2における絶縁層201が当該エッジによりせん断されて接続部分C1,C2の絶縁層201に貫通孔が形成される。このとき、ヘッド2の押圧面2aおよびアンビル3の押圧面3aに狭持された状態の両パターン202,203の接続部分C1,C2には超音波振動が印加されているので、超音波振動により熱硬化性または270℃以上の融点を有する熱可塑性の樹脂絶縁層201が確実にせん断されて絶縁層201に貫通孔が良好に形成され、形成された貫通孔内において両パターン202,203どうしが超音波振動により確実に接合されて接続される。したがって、熱硬化性または270℃以上の融点を有する熱可塑性の樹脂絶縁層201の両面それぞれに形成されたアンテナパターン202およびブリッジパターン203どうしを絶縁層201を貫通して良好に接続することができる。
また、ヘッド2の押圧面2aの面積およびアンビル3の押圧面3aの面積の大きさを異ならせることにより、面積が小さいヘッド2の押圧面2a全体を面積が大きいアンビル3の押圧面3a内に配置することができるので、面積が小さいヘッド2の押圧面2aの端縁全体により、面積が大きいアンビル3の押圧面3aに対してエッジを形成することができ、より効率よく絶縁層201に貫通孔を形成することができる。
また、ヘッド2は、その縦断面における先端角度がαとなるように押圧面2aに向かうに連れて先細りに形成されているので、絶縁層201の両面それぞれに形成されたアンテナパターン202およびブリッジパターン203の接続部分C1,C2が一方側および他方側それぞれからヘッド2の押圧面2aおよびアンビル3の押圧面3aにより狭持された状態で押圧される際の絶縁層201に対する穿設力を増大することができ、絶縁層201により確実に貫通孔を形成することができる。なお、先端角度αは、後述するように樹脂層201の厚み等に応じて適宜変更することができるが、先端角度αが60°≦α≦80°であるときに、特に精度よくアンテナパターン202およびブリッジパターン203とを絶縁層201を貫通して接続することができた。
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能であり、例えば、上記した実施形態ではヘッド2の押圧面2aの面積がアンビル3の押圧面3aの面積よりも小さくなるように(m<n)構成されているが、アンビル3の押圧面3aの面積がヘッド2の押圧面2aの面積よりも小さくなるように(m>n)構成してもよい。
また、例えば、図8に示すヘッド2の押圧面2aとアンビル3の押圧面3aとの配置関係のように、両押圧面2a,3aを同一面積(m=n)に形成すると共に、両押圧面2a,3aの端縁どうしが交差して両押圧面2a,3aが位置ずれした状態で配置されるように、ヘッド2およびアンビル3を配置してもよい。このように構成しても、絶縁層201が両面から両押圧面2a,3aにより押圧される際に、両押圧面2a,3aの端縁によりそれぞれ他方の押圧面2a,3aに対してエッジが形成されるため、アンテナパターン202およびブリッジパターン203の接続部分C1,C2における絶縁層201が当該エッジによりせん断されて接続部分C1,C2の絶縁層201に確実に貫通孔が形成されることになり、形成された貫通孔内において両パターン202,203どうしを超音波振動により確実に接合して接続することができる。
また、配線基板200の構成については上記した例に限られるものではなく、絶縁層の厚みや金属導体パターンの厚みなどは、配線基板200の使用目的に応じて適宜変更すればよい。また、上記した実施形態では、アンテナモジュールとして形成された配線基板200を例に挙げて説明したが、配線基板200の構成としてはこれに限られるものではなく、例えば、配線基板200を一般的な多層配線基板として構成し、配線基板200を形成する複数の樹脂絶縁層のうちのいずれかの絶縁層の両面に設けられた金属導体パターンどうしを上記したように層間接続してもよい。また、配線基板200としてフレキシブル配線基板を例に挙げて説明したが、配線基板200をリジッド基板として構成してもよい。また、上記した実施形態では、絶縁層201に接着剤層204a,204bを介して金属導体パターン(アンテナパターン202、ブリッジパターン203)が形成された配線基板200を例に挙げて説明したが、接着剤層204a,204bを設けずに、絶縁層2001の両面に蒸着技術等により金属導体パターンを直接形成してもよい。また、従来のように、PENやPET等の比較的融点の低い熱可塑性樹脂により樹脂絶縁層201を形成してもよい。
また、層間接続装置1の構成については上記した例に限られるものではなく、押圧面2a,3aの面積や形状、ヘッド2の先端角度α、絶縁層201に対する加圧力、絶縁層201に印加される超音波振動の周波数などは、配線基板200の構成等に応じて適宜変更すればよい。また、ヘッド2、アンビル3および認識手段5の移動軸については上記した例に限らずどのように構成してもよく、フレキシブル配線基板200aの搬送方法についても、上記した例に限らず、例えば、ステージ41によるフレキシブル配線基板200aの吸着を解除した状態で回収リール43を回転させることによりフレキシブル配線基板200aを搬送方向fに搬送してもよい。また、配線基板200が個片化された状態で上記した接続処理を実行する場合には、一般的な部品供給装置を用いて個片化された配線基板200をステージ41上に供給すればよい。
そして、樹脂絶縁層の両面に金属導体パターンが形成されてなる配線基板の両金属導体パターンどうしを、絶縁層を貫通して接続する技術に本発明を広く適用することができる。
1…層間接続装置
2…ヘッド(第1押圧体、振動印加手段)
2a…押圧面
3…アンビル(第2押圧体)
3a…押圧面
200,200a…配線基板
201…絶縁層
202…アンテナパターン(金属導体パターン)
203…ブリッジパターン(金属導体パターン)
C1,C2…接続部分
S…面積

Claims (5)

  1. 樹脂絶縁層の両面に金属導体パターンが形成されてなる配線基板の前記両金属導体パターンどうしを、前記絶縁層を貫通して接続する層間接続装置において、
    前記両金属導体パターンの接続部分を一方側から押圧する第1押圧体と、
    前記両金属導体パターンの前記接続部分を、前記第1押圧体との間に狭持して他方側から押圧する第2押圧体と、
    狭持状態の前記接続部分に超音波振動を印加する振動印加手段とを備え、
    前記接続部分における前記第1押圧体の押圧面と、前記接続部分における前記第2押圧体の押圧面との重畳部分の面積が、前記両押圧体のうち少なくともいずれか一方の押圧面の面積よりも小さくなるように前記第1押圧体および前記第2押圧体が配置されている
    ことを特徴とする層間接続装置。
  2. 前記第1押圧体の押圧面の面積および前記第2押圧体の押圧面の面積の大きさが異なることを特徴とする請求項1に記載の層間接続装置。
  3. 前記第1押圧体および前記第2押圧体のいずれか一方は、押圧面に向かうに連れて先細りに形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の層間接続装置。
  4. 樹脂絶縁層の両面に金属導体パターンが形成されてなる配線基板の前記両金属導体パターンどうしを、前記絶縁層を貫通して接続する層間接続方法において、
    前記両金属パターンの接続部分の一方側および他方側それぞれから第1押圧体および第2押圧体により狭持した状態で前記接続部分に超音波振動を印加しつつ押圧し、
    前記接続部分における前記第1押圧体の押圧面と、前記接続部分における前記第2押圧体の押圧面との重畳部分の面積が、前記両押圧体のうち少なくともいずれか一方の押圧面の面積よりも小さくなるように、前記第1押圧体および前記第2押圧体により前記両金属導体パターンを狭持する
    ことを特徴とする層間接続方法。
  5. 前記第1押圧体の押圧面の面積および前記第2押圧体の押圧面の面積の大きさが異なることを特徴とする請求項4に記載の層間接続方法。
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