JP2013239564A - 粘着テープの貼着方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】ウェーハに対し環状の粘着層が配設された粘着テープが貼着された際に、環状の粘着層を最適な位置に配置された状態を実現するための技術を提供する。
【解決手段】粘着テープの中央部の直下にウェーハの中央部を位置付ける位置合わせステップと、粘着テープの中央部を通って粘着テープの直径を覆うように位置付けた貼着用ローラーで、粘着テープをウェーハの表面に押圧し、粘着テープの中央部とウェーハの中央部とが重なる位置で粘着テープの一部をウェーハへ貼着して固定する一部貼着ステップと、一部貼着ステップの後、貼着用ローラーをウェーハの中央部から外周部に向かって回転移動させ粘着テープをウェーハに貼着する貼着ステップと、を備える粘着テープの貼着方法とする。
【選択図】図6

Description

本発明は、ウェーハのデバイス領域を囲繞する外周余剰領域にのみ粘着層を配設する粘着テープの貼付方法に関する。
半導体装置の高密度実装化に伴い、半導体チップと基板の接合にはハンダ等からなるバンプが用いられる。例えば、半導体チップと基板を直接接合する場合には、直径100μm程度のボール形状のバンプが用いられることが多い。
表面側にバンプが形成されたウェーハについて、ウェーハの裏面側の研削により薄化加工がなされ、さらに薄化後に分割を行うことで、バンプが配置された半導体チップが製造される。
研削による薄化加工の際には、バンプが配置されるウェーハの表面側を粘着テープで保護し、ウェーハを粘着テープを介して吸引保持面などで保持し、露出したウェーハの裏面の研削がなされる。
この薄化加工の際にバンプの高さが高いと(例えば、直径100μm程度)、バンプのない箇所が吸引保持面に吸着されるなどして、ウェーハの裏面側に凹凸が生じることになる。つまり、ウェーハの表面のバンプの凹凸が、ウェーハの裏面に影響が生じることになる。
ウェーハの裏面側に凹凸が形成されてしまうと、研削の際に生じる荷重が粘着テープの呈するクッション性では吸収されきれずに、研削工程中にウェーハが破損する不具合や、ディンプル(裏面に生成する窪み)が形成されて完成したデバイスの信頼性を損なうといった不具合の要因となる。
従来はウェーハの破損を起こさないように薄化後の仕上げの厚さを比較的厚めに設定するなどで対策がなされていた。
また、薄く仕上げることが必要な場合は、バンプを収容するような粘着層(糊層)の厚い表面保護用の粘着テープを用い、バンプを粘着層に埋め込んで研削する対策がなされていた。
しかしながら、バンプを埋め込むような粘着テープを用いた場合、どうしても粘着層がバンプやデバイスの表面に残渣として残留してしまうという問題が有った。
そこで、ウェーハのデバイスが形成される領域(デバイス領域)を囲繞する領域、つまりは、外周余剰領域にのみ、環状の粘着層を配置することとし、比較的密に配列されたバンプを逆に粘着層の代わりに支持部材として利用し、残渣を残すことなくウェーハを固定し研削を実施するという技術が考案されている(特許文献1,2参照。)。
特許第4462997号明細書 特許第4447280号明細書
しかしながら、環状の粘着層をウェーハの外周余剰領域といった特定の領域に対し、ズレることなく的確に配置させながらウェーハと粘着テープを貼着することは、全面に粘着層が配設された粘着テープを単にウェーハに貼着する場合と比較して、より高度精度な位置合わせが要求されることになる。
本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、ウェーハに対し環状の粘着層が配設された粘着テープが貼着された際に、環状の粘着層を最適な位置に配置された状態を実現するための技術を提供することである。
請求項1に記載の発明によると、複数のデバイスが形成されたデバイス領域とデバイス領域を囲繞する外周余剰領域を表面に有するウェーハの表面に、外周余剰領域と対応する環状の粘着層を有する粘着テープを貼着する粘着テープの貼着方法であって、表面を露出させてウェーハをチャックテーブルに載置するウェーハ載置ステップと、ウェーハと同等の直径の基材の片面の周縁に外周余剰領域と対応する環状の粘着層が配設された粘着テープを、チャックテーブルに載置されたウェーハの表面に向かって対面させ、粘着テープの中央部の直下にウェーハの中央部を位置付ける位置合わせステップと、粘着テープの中央部を通って粘着テープの直径を覆うように位置付けた貼着用ローラーで、粘着テープをウェーハの表面に押圧し、粘着テープの中央部とウェーハの中央部とが重なる位置で粘着テープの一部をウェーハへ貼着して固定する一部貼着ステップと、一部貼着ステップの後、貼着用ローラーをウェーハの中央部から外周部に向かって回転移動させ粘着テープをウェーハに貼着する貼着ステップと、を備える粘着テープの貼着方法が提供される。
本発明によると、ウェーハに対し環状の粘着層が配設された粘着テープが貼着された際に、環状の粘着層を最適な位置に配置された状態を実現することができる。
即ち、予め環状の粘着層が配設された円形の粘着テープの中央部とウェーハの中央部を位置合わせして重ねた後、まず、互いの中央部がズレないように貼着用ローラーで押しつけた後(一部貼着ステップ)、貼着用ローラーをウェーハ(粘着テープ)の外周部に向かって回転移動させることから始め(貼着ステップ)、その後、適宜全域にわたって貼着がなされるように貼着用ローラーを回転移動させるため、例え粘着テープの伸びによりズレが発生したとしても、ウェーハ(粘着テープ)の直径方向における一端側から貼着用ローラーによる貼着を始め、他端側まで貼着用ローラーを移動させて一気に貼着を実施する方法と比較すると、粘着テープの中央部とウェーハの中央部のズレ量を少なく抑えることが可能となる。
ウェーハと粘着テープについて示す斜視図。 テープ供給装置の実施形態にういて示す斜視図。 ウェーハと粘着テープの位置関係について説明する図。 貼着用ローラーとウェーハの位置関係について示す斜視図。 (A)は貼着用ローラーとウェーハの位置関係について示す側面一部断面図。(B)は一部貼着ステップについて示す側面一部断面図。 貼着ステップについて示す斜視図。 貼着ステップ後の外周余剰領域と粘着層の位置関係について示す側面断面図。
本発明は、図1に示すように、複数のデバイス15,15が形成されたデバイス領域17と、デバイス領域17を囲繞する外周余剰領域19を表面に有するウェーハ11の表面に、外周余剰領域19と対応する環状の粘着層22を有する粘着テープ20を貼着する粘着テープの貼着方法に関するものである。
図1に示すように、被加工物となるウェーハ11は、例えば厚さが700μmのシリコンウェーハからなっており、表面11aに複数の交差する分割予定ライン(ストリート)13,13が格子状に形成されているとともに、複数の分割予定ライン13,13によって区画された複数の領域にそれぞれデバイス15,15が形成されている。各デバイス15,15の表面には、電極となるバンプ14,14が配設されている。このように構成されたウェーハ11は、デバイス15が形成されているデバイス領域17と、デバイス領域17を囲繞する環状の外周余剰領域19が形成される。
なお、被加工物となるウェーハ11の形状については、図1に示すような円盤形状のものに限定されるものではなく、四角形状(正四角形、長方形)などの矩形のものも想定される。矩形の場合には、外周余剰領域も矩形の環状を構成することが想定される。また、半導体ウェーハのほか、光デバイスウェーハなども被加工物とされることが想定される。また、ウェーハ11のデバイス15については、バンプ14,14が配設されていないものや、バンプ14に加え、もしくは、バンプ14に代えてデバイス表面に凹凸を形成するものが配置されるものも想定される。
以上のようなウェーハ11について、本発明にかかるウェーハの分割方法が実施される。まず、図2に示すように、表面11aを露出させてウェーハ11をチャックテーブル30に載置するウェーハ載置ステップが実施される。
チャックテーブル30の上面は、ウェーハ11の裏面側を吸引保持する保持面として構成されており、ウェーハ11の表面11aを上側に露出した状態で、ウェーハ11がチャックテーブル30に保持されるようになっている。
次に、図1乃至図3に示すように、ウェーハ11と同等の直径の基材24の片面の周縁にウェーハ11の外周余剰領域19と対応する環状の粘着層22が配設された粘着テープ20を、チャックテーブル30に載置されたウェーハ11の表面11aに向かって対面させ、粘着テープ20の中央部20Cの直下にウェーハ11の中央部11Cを位置付ける位置合わせステップが実施される。
本実施形態では、平面視において、ウェーハ11と同一の形状をなす基材24の裏面24b(図3)側に、環状の粘着層22が形成されており、この粘着層22が、ウェーハ11の外周余剰領域19に位置付けられるようにして、粘着テープ20とウェーハ11の位置合わせが行われる。
なお、基材24は、特に限定されるものではないが、例えば厚さ70〜200μm程度のポリオレフィン等の柔らかい樹脂製基材シートを使用することが考えられる。また、粘着層22は、5〜100μm程度の粘着剤を環状に塗布した構成のものが考えられる。
粘着テープ20は、連続的に粘着テープ20を供給するテープ供給装置40によって供給される。ロール状に巻かれる離型紙41の裏面41bにおいて離型紙41の長手方向に間隔を空けて配置され、適宜離型紙41を巻き出すことによって粘着テープ20の裏面24bがチャックテーブル30側に向けて現れるように供給される。
テープ供給装置40は、Y軸方向において、チャックテーブル30の中心位置と、粘着テープ20の中心位置が一致するように配置される。また、テープ供給装置40は、X軸方向においてチャックテーブル30の中心位置と、粘着テープ20の中心位置が一致するように、適宜離型紙41を巻き出すように構成される。このほか、チャックテーブル30の中心位置と、粘着テープ20の中心位置を検出する撮像装置を設けるなどして、中心位置同士がずれる場合に適宜位置あわせが実施される構成としてもよい。
以上のようにして、位置合わせステップでは、粘着テープ20の基材24の裏面24aがチャックテーブル30に載置されたウェーハ11の表面11aに向かって対面され、粘着テープ20の中央部20Cの直下にウェーハ11の中央部11Cが位置付けられた状態となる。
なお、「粘着テープ20の中央部20C」とは、粘着テープ20の基材24の中心位置を含む概念であり、「ウェーハ11の中央部11C」とはウェーハ11の中心位置を含む概念である。この位置合わせステップは、粘着テープ20の粘着層22とウェーハ11の外周余剰領域19の位置合わせをするために行われるものであり、粘着テープ20とウェーハ11が同等な直径の円形で構成される本実施形態では、中心位置を合わせることで当該位置合わせを高精度に行うことができる。
次いで、図4及び図5(A)(B)に示すように、粘着テープ20の中央部20Cを通って粘着テープ20の直径20M(図4参照)を覆うように位置付けた貼着用ローラー46で、粘着テープ20をウェーハ11の表面11aに押圧し、粘着テープ20の中央部20Cとウェーハ11の中央部11Cとが重なる位置で粘着テープ20の一部をウェーハ11へ貼着して固定する一部貼着ステップを実施する。
貼着用ローラー46は、離型紙41の表面41a側に接触し、離型紙41の裏面41b側の粘着テープ20をウェーハ11に対して押し当てるべく構成される。貼着用ローラー46は、回転可能に構成されており、その回転軸心46aは、粘着テープ20の直径20M(図4参照)を覆う、つまりは、粘着テープ20の中央部20C(ウェーハ11の中央部11C)を通過するように位置付けられる。
これにより、図5(A)に示すように、貼着用ローラー46の回転軸心46a、粘着テープ20の中央部20C、ウェーハ11の中央部11Cが、側面視において同一直線状(X軸方向において同一位置)に配置されることになる。
このような位置付けがなされた状態において、図5(B)に示すように、貼着用ローラー46を下方へと移動させることで、粘着テープ20の中央部20Cがウェーハ11の中央部11Cに重なるようにして、粘着テープ20の粘着層22の一部がウェーハ11の表面11aに貼着される。
この際、上述の位置合わせステップにより粘着層22がウェーハ11の外周余剰領域19の上方に位置付けられているため、粘着層22の一部、つまり、粘着層22のうち貼着用ローラー46の下方に配置される部位は、ウェーハ11の外周余剰領域19の部位に貼着されることになる。
次いで、一部貼着ステップの後、図6に示すように、貼着用ローラー46をウェーハ11の中央部11Cから外周部11L,11Rに向かって回転移動させ粘着テープ20をウェーハ11に貼着する貼着ステップを実施する。
この貼着ステップでは、前段の一部貼着ステップがなされた段階で、粘着テープ20とウェーハ11の互いの中央部20C,11Cがズレないように貼着用ローラー46で押し付けられているため、貼着用ローラー46をウェーハ11の中央部11Cから外周部11L,11Rに向かって移動させた際に、粘着テープ20(基材24)の伸びによる中央部20C,11C同士のズレの発生を抑えることができる。
そして、このようにズレの発生が抑えられることで、外周余剰領域19に対する粘着層22の位置ズレの発生を抑えることができ、図7に示すように、ウェーハ11に対し環状の粘着層22が配設された粘着テープ20が貼着された際に、環状の粘着層22を最適な位置、つまりは、外周余剰領域19に対応する位置に配置された状態を実現することができる。
仮に、ウェーハ11(粘着テープ20)の直径方向における一端側(外周部11L)から貼着用ローラー46による貼着を始め、他端側(外周部11R)まで貼着用ローラー46を移動させて一気に貼着を実施する方法では、貼着用ローラー46の移動距離が長く、粘着テープ20(基材24)が伸びた際に、中央部20C,11C同士のズレが発生することが懸念される。そして、このズレが発生することによって、外周余剰領域19からズレた位置に粘着層22が配置されてしまうことになる。
貼着用ローラー46を回転移動させる形態については、貼着用ローラー46の移動がウェーハ11の中央部11Cに対応する位置から外周部11L,11Rに向かって移動するものであればよく、例えば、軌道1Aに示すように、中央部11C→外周部11L→外周部11Rとする軌道、或は、軌道2Aに示すように、中央部11C→外周部11Lを行った後に中央部11C→外周部11Rとする軌道、などとすることが考えられる。
このような軌道により貼着用ローラー46を移動させることにより、貼着用ローラー46を外周部11Rから外周部11Lに移動させて一気に貼着する場合と比較して、例えば、中央部20C,11C同士のズレを半分以下に抑えることが可能となり、これに伴って、外周余剰領域19に対する粘着層22の位置ズレを抑えることが可能となる。
また、本実施形態では、図7に示すように、粘着層22によってウェーハ11のデバイス領域17が囲まれるようになり、この囲まれた空間23に、デバイス15の表面に形成されるバンプ14,14が収容される位置関係となる。このため、粘着層22がバンプ14,14に付着することがなく、粘着テープ20を剥がした後に粘着層22の残渣がデバイス15の表面に残ることがない。
仮に、中央部20C,11C同士のズレが大きい場合には、図7に示す構成において、デバイス領域17に粘着層22が位置づけられ、バンプ14に粘着層22が接触し、粘着テープ20を剥がした後に粘着層22の残渣がデバイス15の表面に残る不具合が発生してしまことになる。
なお、図7に示すように、バンプ14,14が比較的密に配列される場合には、後工程においてウェーハ11の裏面の研削加工がなされる場合に、バンプ14を支持部材として利用することも可能となる。
11 ウェーハ
11C 中央部
11L 外周部
11R 外周部
14 バンプ
15 デバイス
17 デバイス領域
19 外周余剰領域
20 粘着テープ
20C 中央部
22 粘着層
24 基材
30 チャックテーブル
40 テープ供給装置
41 離型紙
46 貼着用ローラー
46a 回転軸心

Claims (1)

  1. 複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域を表面に有するウェーハの表面に、該外周余剰領域と対応する環状の粘着層を有する粘着テープを貼着する粘着テープの貼着方法であって、
    表面を露出させて該ウェーハをチャックテーブルに載置するウェーハ載置ステップと、
    該ウェーハと同等の直径の基材の片面の周縁に該外周余剰領域と対応する環状の粘着層が配設された粘着テープを、該チャックテーブルに載置された該ウェーハの表面に向かって対面させ、該粘着テープの中央部の直下に該ウェーハの中央部を位置付ける位置合わせステップと、
    該粘着テープの中央部を通って該粘着テープの直径を覆うように位置付けた貼着用ローラーで、該粘着テープを該ウェーハの表面に押圧し、該粘着テープの中央部と該ウェーハの中央部とが重なる位置で該粘着テープの一部を該ウェーハへ貼着して固定する一部貼着ステップと、
    一部貼着ステップの後、該貼着用ローラーを該ウェーハの中央部から外周部に向かって回転移動させ該粘着テープを該ウェーハに貼着する貼着ステップと、
    を備える粘着テープの貼着方法。

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015185677A (ja) * 2014-03-24 2015-10-22 リンテック株式会社 シート貼付装置および貼付方法
WO2020196794A1 (ja) * 2019-03-27 2020-10-01 三井化学東セロ株式会社 保護フィルム及びその貼着方法並びに半導体部品の製造方法
KR20210084246A (ko) 2019-12-27 2021-07-07 가부시기가이샤 디스코 보호 시트 배치 형성 장치, 및 보호 시트의 배치 형성 방법

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170016547A (ko) 2015-08-03 2017-02-14 삼성전자주식회사 척 테이블 및 그를 포함하는 기판 제조 장치
DE112017007552T5 (de) 2017-05-18 2020-01-30 Disco Corporation Schutzabdeckung für eine Verwendung bei einer Bearbeitung eines Wafers, Handhabungssystem für einen Wafer und eine Kombination aus einem Wafer und einer Schutzabdeckung
USD947802S1 (en) 2020-05-20 2022-04-05 Applied Materials, Inc. Replaceable substrate carrier interfacing film

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005109433A (ja) * 2004-03-31 2005-04-21 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウエーハの切削方法および研削用のバンプ保護部材
JP2007288031A (ja) * 2006-04-19 2007-11-01 Disco Abrasive Syst Ltd 保護テープ貼着方法
JP2012059929A (ja) * 2010-09-09 2012-03-22 Lintec Corp シート貼付装置及び貼付方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008270543A (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Disco Abrasive Syst Ltd 接着フィルムの貼着方法
JP5324319B2 (ja) * 2009-05-26 2013-10-23 日東電工株式会社 ウエハマウント方法とウエハマウント装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005109433A (ja) * 2004-03-31 2005-04-21 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウエーハの切削方法および研削用のバンプ保護部材
JP2007288031A (ja) * 2006-04-19 2007-11-01 Disco Abrasive Syst Ltd 保護テープ貼着方法
JP2012059929A (ja) * 2010-09-09 2012-03-22 Lintec Corp シート貼付装置及び貼付方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015185677A (ja) * 2014-03-24 2015-10-22 リンテック株式会社 シート貼付装置および貼付方法
WO2020196794A1 (ja) * 2019-03-27 2020-10-01 三井化学東セロ株式会社 保護フィルム及びその貼着方法並びに半導体部品の製造方法
KR20210084246A (ko) 2019-12-27 2021-07-07 가부시기가이샤 디스코 보호 시트 배치 형성 장치, 및 보호 시트의 배치 형성 방법
US11651978B2 (en) 2019-12-27 2023-05-16 Disco Corporation Protective sheet application apparatus and method

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