JP2013231794A5 - - Google Patents

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そこで、電圧印加時における液晶分子の配向を規制する手法として、これまでにも様々な提案がなされている。例えば、MVA(Multi-domain Vertical Alignment)方式やPVA(Patterned Vertical Alignment)方式、あるいは、光配向膜を使用する手法(例えば、特開平5−232473号参照)が提案されている。MVA方式では、スリットやリブ(突起)を用いることにより、配向制御を行いつつ、高視野角を実現する。最近では、この他にも、一方の基板に形成された電極(具体的には、画素電極)に複数の微細なスリットを設け、他方の基板に形成された電極(具体的には、対向電極)をスリットの無い、所謂ベタ電極とした構造(ファインスリット構造とも呼ばれる)が提案されている(例えば、特開2002−357830号参照)。しかしながら、ファインスリット構造にあっては、微小なライン・アンド・スペースから成るスリットにおいて電界の加わらない部分が存在し、更に、ラインのエッジ近傍において、電圧印加時、液晶分子の配向状態がツイスト構造を取るために、透過率が低下するといった問題がある。
更には、本開示の第4の態様に係る液晶表示装置にあっては、第1電極には、画素中心部を通り、画素周辺部に平行なスリット部あるいは突起部が形成されているので、スリット部あるいは突起部が存在しない平坦な凹部が第1電極に形成されている場合と比較して、第1電極によって生成された電場がスリット部近傍において歪み、あるいは又、突起部近傍における液晶分子の倒れる方向が規定される。その結果、スリット部あるいは突起部近傍における液晶分子に対する配向規制力を強くすることができ、スリット部あるいは突起部近傍における液晶分子のチルト状態を確実に規定することができる。それ故、画像表示時、幹凸部に対応する画像の部分に暗線が発生するといった問題の発生を確実に抑制することができる。即ち、良好な電圧応答特性を保持しつつ、一層均一な高透過率を実現することができる液晶表示装置を提供することができるし、バックライトを構成する光源のコスト低減、低消費電力化を図ることができ、また、TFTの信頼性の向上を図ることもできる。
液晶分子71は、第1配向膜21との界面近傍において第1配向膜21に保持された液晶分子71Aと、第2配向膜51との界面近傍において第2配向膜51に保持された液晶分子71Bと、それら以外の液晶分子71Cとに分類することができる。液晶分子71Cは、液晶層70の厚み方向における中間領域に位置し、駆動電圧がオフの状態において液晶分子71Cの長軸方向(ダイレクタ)が第1基板20及び第2基板50に対してほぼ垂直になるように配列されている。ここで、駆動電圧がオンになると、液晶分子71Cのダイレクタが第1基板20及び第2基板50に対して平行になるように傾いて配向する。このような挙動は、液晶分子71Cにおいて、長軸方向の誘電率が短軸方向よりも小さいという性質を有することに起因している。液晶分子71A,71Bも同様の性質を有することから、駆動電圧のオン・オフの状態変化に応じて、基本的には、液晶分子71Cと同様の挙動を示す。但し、駆動電圧がオフの状態において、液晶分子71Aは第1配向膜21によってプレチルトθ1が付与され、そのダイレクタが第1基板20及び第2基板50の法線方向から傾斜した姿勢となる。同様に、液晶分子71Bは第2配向膜51によってプレチルトθ2が付与され、そのダイレクタが第1基板20及び第2基板50の法線方向から傾斜した姿勢となる。尚、ここで、「保持される」とは、配向膜21,51と液晶分子71A,71Bとが固着せずに、液晶分子71の配向を規制していることを表している。また、「プレチルトθ(θ1,θ2)」とは、図26A示すように、第1基板20及び第2基板50の表面に垂直な方向(法線方向)をZとした場合に、駆動電圧がオフの状態で、Z方向に対する液晶分子71(71A,71B)のダイレクタDの傾斜角度を指す。
そして、配向膜材料を、第1電極140及び第2電極160のそれぞれの上に塗布あるいは印刷した後、加熱処理をする。加熱処理の温度は80゜C以上が好ましく、150゜C以上、200゜C以下とすることがより好ましい。また、加熱処理は、加熱温度を段階的に変化させてもよい。これにより、塗布あるいは印刷された配向膜材料に含まれる溶剤が蒸発し、高分子化合物を含む配向膜21,51が形成される。その後、必要に応じて、ラビング等の処理を施してもよい。
その後、第1電極140上に第1配向膜21を形成し、第2電極160の上に第2配向膜51を形成する。具体的には、第1配向膜21及び第2配向膜51として、垂直配向膜材料であるJSR株式会社製JALS2131−R6を使用し、垂直配向膜材料をスピンコート法に基づき、第1電極140及び第2電極160の上に塗布する。次いで、ホットプレート上で80゜C、80の乾燥工程を行った後、窒素雰囲気のクリーンオーブン内で、200゜C、60分間のベーキングを行い、第1配向膜21及び第2配向膜51を得た。
実施例3にあっては、枝凸部144の延びる方向と直交する仮想垂直平面で枝凸部144を切断したときの枝凸部144の断面形状は、枝凸部144の断面形状の中心から枝凸部144の断面形状の縁に向かって段差部が下降していく断面形状を有する。具体的には、枝凸部144の頂面は、幹凸部143から延びる頂面144B、及び、頂面144Bの両側に位置する頂面144Aから構成されている。このように、枝凸部144には2つの段差部が存在し、凹部145を基準としたとき、頂面144A、頂面144Bの順に高くなっている。尚、図面において、頂面144Bには、横方向に延びるハッチングを付している。また、図6、図8、図14においては、幹凸部と枝凸部の境界を実線で示している。枝凸部144の頂面144Bと頂面144Aとの間の高低差を平均0.20μmとした。幹凸部143、枝凸部144、凹部145の他の仕様は表1と同様である。幹凸部143の頂面143Bと枝凸部144の頂面144Bは同じレベルにある。
実施例6にあっては、枝凸部244の延びる方向と直交する仮想垂直平面で枝凸部244を切断したときの枝凸部244の断面形状は、枝凸部244の断面形状の中心から枝凸部244の断面形状の縁に向かって段差部が下降していく断面形状を有する。具体的には、枝凸部244の頂面は、幹凸部243の頂面243Bから延びる頂面244B、及び、頂面244Bの両側に位置する頂面244Aから構成されている。そして、凹部245を基準としたとき、枝凸部244には2つの段差部が存在し、頂面244A、頂面244Bの順に高くなっている。尚、図面において、頂面244Bには、横方向に延びるハッチングを付している。枝凸部244の頂面244Bと頂面244Aとの間の高低差を平均0.28μmとした。幹凸部243、枝凸部244、凹部245の他の仕様は表4と同様である。幹凸部243の頂面243Bと枝凸部244の頂面244Bは同じレベルにある。
ここで、配向規制部161は、具体的には、第2電極160に設けられた4.0μmのスリット部162から成り(図19及び図26B参照)、あるいは又、第2電極160に設けられた突起部(リブ)163から成る(図20及び図26C参照)。突起部163は、より具体的には、ネガ型フォトレジスト材料(JSR株式会社製:オプトマーAL)から成り、幅1.4μm、高さ1.2μmである。尚、幹凸部143、枝凸部144、凹部145の仕様を表1のとおりとし、幹凸部143の頂面143Bと頂面143Aとの間の高低差を、平均0.20μmとした。スリット部162あるいは突起部(リブ)163の平面形状は十文字状であり、突起部163の断面形状は二等辺三角形である。スリット部162あるいは突起部163の上には第2電極160は形成されていない。
実施例9の液晶表示装置にあっては、
第1電極240,440には複数の凹凸部241,441が形成されており、
凹凸部241,441は、画素周辺部に額縁状に形成された幹凸部243,443、及び、幹凸部243,443から画素内部に向かって延びる複数の枝凸部244,444から構成されており、
第1電極240,440には、画素中心部を通り、画素周辺部に平行なスリット部248,448(図21、図22参照)あるいは突起部(リブ)249,449(図23、図24参照)が形成されている。即ち、画素の中央部に設けられた十文字状の凹部の部分に、スリット部248,448あるいは突起部249,449が形成されている。スリット部248,448あるいは突起部249,449の平面形状は十文字である。尚、幹凸部243、枝凸部244、凹部245の仕様を表4のとおりとした。スリット部248,448の幅を4.0μmとした。また、ネガ型フォトレジスト材料(JSR株式会社製:オプトマーAL)から成る突起部249,449の幅を1.4μm、高さを1.2μmとした。突起部249,449の断面形状は二等辺三角形である。スリット部248,448あるいは突起部249,449の上には第1電極240,440は形成されていない。
尚、本開示は、以下のような構成を取ることもできる。
[1]《液晶表示装置:第1の態様》
第1基板及び第2基板、
第2基板と対向する第1基板の対向面に形成された第1電極、
第1電極及び第1基板の対向面を覆う第1配向膜、
第1基板と対向する第2基板の対向面に形成された第2電極、
第2電極及び第2基板の対向面を覆う第2配向膜、並びに、
第1配向膜及び第2配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有する画素が、複数、配列されて成る液晶表示装置であって、
液晶分子には、少なくとも第1配向膜によってプレチルトが付与され、
第1電極には複数の凹凸部が形成されており、
第1電極に設けられた凸部には、複数の段差部が形成されている液晶表示装置。
[2]凹凸部は、画素中心部を通り、十文字に延びる幹凸部、及び、幹凸部から画素周辺部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている[1]に記載の液晶表示装置。
[3]幹凸部の延びる方向と直交する仮想垂直平面で幹凸部を切断したときの幹凸部の断面形状は、幹凸部の断面形状の中心から幹凸部の断面形状の縁に向かって段差部が下降していく断面形状を有する[2]に記載の液晶表示装置。
[4]幹凸部の延びる方向に平行な仮想垂直平面で幹凸部を切断したときの幹凸部の断面形状は、幹凸部の断面形状の中央部から幹凸部の断面形状の端部に向かって段差部が下降していく断面形状を有する[2]又は[3]のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
[5]枝凸部の延びる方向と直交する仮想垂直平面で枝凸部を切断したときの枝凸部の断面形状は、枝凸部の断面形状の中心から枝凸部の断面形状の縁に向かって段差部が下降していく断面形状を有する[2]乃至[4]のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
[6]枝凸部の延びる方向に平行な仮想垂直平面で枝凸部を切断したときの枝凸部の断面形状は、枝凸部の断面形状の幹凸部側から枝凸部の断面形状の端部に向かって段差部が下降していく断面形状を有する[2]乃至[5]のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
[7]幹凸部と対応する第2電極の部分には、配向規制部が形成されている[2]乃至[6]のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
[8]凹凸部は、画素周辺部に額縁状に形成された幹凸部、及び、幹凸部から画素内部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている[1]に記載の液晶表示装置。
[9]幹凸部の延びる方向と直交する仮想垂直平面で幹凸部を切断したときの幹凸部の断面形状は、幹凸部の断面形状の外側の縁から幹凸部の断面形状の内側の縁に向かって段差部が下降していく断面形状を有する[8]に記載の液晶表示装置。
[10]枝凸部の延びる方向と直交する仮想垂直平面で枝凸部を切断したときの枝凸部の断面形状は、枝凸部の断面形状の中心から枝凸部の断面形状の縁に向かって段差部が下降していく断面形状を有する[8]又は[9]のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
[11]枝凸部の延びる方向に平行な仮想垂直平面で枝凸部を切断したときの枝凸部の断面形状は、枝凸部の断面形状の幹凸部側から枝凸部の断面形状の端部に向かって段差部が下降していく断面形状を有する[8]乃至[10]のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
[12]第1電極には、画素中心部を通り、画素周辺部に平行なスリット部あるいは突起部が形成されている[8]乃至[11]のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
[13]画素と画素との間に位置する第1基板の部分から、画素周辺部に対応する第1基板の部分に亙り、凸構造が形成されており、
凹凸部の周辺部は凸構造上に形成されている[2]乃至[12]のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
[14]《液晶表示装置:第2の態様》
第1基板及び第2基板、
第2基板と対向する第1基板の対向面に形成された第1電極、
第1電極及び第1基板の対向面を覆う第1配向膜、
第1基板と対向する第2基板の対向面に形成された第2電極、
第2電極及び第2基板の対向面を覆う第2配向膜、並びに、
第1配向膜及び第2配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有する画素が、複数、配列されて成る液晶表示装置であって、
液晶分子には、少なくとも第1配向膜によってプレチルトが付与され、
第1電極には複数の凹凸部が形成されており、
画素と画素との間に位置する第1基板の部分から、画素周辺部に対応する第1基板の部分に亙り、凸構造が形成されており、
凹凸部の周辺部は凸構造上に形成されている液晶表示装置。
[15]凹凸部は、画素中心部を通り、十文字に延びる幹凸部、及び、幹凸部から画素周辺部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている[14]に記載の液晶表示装置。
[16]幹凸部と対応する第2電極の部分には、配向規制部が形成されている[15]に記載の液晶表示装置。
[17]凹凸部は、画素周辺部に額縁状に形成された幹凸部、及び、幹凸部から画素内部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている[14]に記載の液晶表示装置。
[18]第1電極には、画素中心部を通り、画素周辺部に平行なスリット部あるいは突起部が形成されている[17]に記載の液晶表示装置。
[19]《液晶表示装置:第3の態様》
第1基板及び第2基板、
第2基板と対向する第1基板の対向面に形成された第1電極、
第1電極及び第1基板の対向面を覆う第1配向膜、
第1基板と対向する第2基板の対向面に形成された第2電極、
第2電極及び第2基板の対向面を覆う第2配向膜、並びに、
第1配向膜及び第2配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有する画素が、複数、配列されて成る液晶表示装置であって、
液晶分子には、少なくとも第1配向膜によってプレチルトが付与され、
第1電極には複数の凹凸部が形成されており、
凹凸部は、画素中心部を通り、十文字に延びる幹凸部、及び、幹凸部から画素周辺部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されており、
幹凸部と対応する第2電極の部分には、配向規制部が形成されている液晶表示装置。
[20]《液晶表示装置:第4の態様》
第1基板及び第2基板、
第2基板と対向する第1基板の対向面に形成された第1電極、
第1電極及び第1基板の対向面を覆う第1配向膜、
第1基板と対向する第2基板の対向面に形成された第2電極、
第2電極及び第2基板の対向面を覆う第2配向膜、並びに、
第1配向膜及び第2配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有する画素が、複数、配列されて成る液晶表示装置であって、
液晶分子には、少なくとも第1配向膜によってプレチルトが付与され、
第1電極には複数の凹凸部が形成されており、
凹凸部は、画素周辺部に額縁状に形成された幹凸部、及び、幹凸部から画素内部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されており、
第1電極には、画素中心部を通り、画素周辺部に平行なスリット部あるいは突起部が形成されている液晶表示装置。
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