JP2013224412A - 新規重合体、これを含むインク、有機膜、電子デバイス、及びエレクトロルミネッセンス素子及び有機トランジスタ - Google Patents
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Abstract
Description
しかしながら、無修飾のポリフェニレンは溶媒に不溶であり、しかも熱的に不融であるという欠点があり、形成加工が困難で、薄膜化ができないという問題点がある。そのため、種々の方法でポリフェニレンの可溶化の検討がなされている。例えば、ポリフェニレンとパラフェニレンなどの結合位置の異なるポリフェニレン重合体によって溶解性を付与している報告例(特許文献1、非特許文献7)がある。しかし、この場合十分な溶解性を付与しているとは言いがたく、重合度も低く成膜性が不十分である。さらに、単量体に長鎖アルキル基やアルコキシ基を導入したものを重合し、重合体の可溶化、可融化が計られている。主鎖に芳香環が連なった構造のポリフェニレン系重合体についても同様なことが言え、可溶化、可融化のためにやはり同様な手法が用いられている。1.4−ジアルキルベンゼン化合物を重合することによって有機溶媒に可溶な成形加工性のあるポリフェニレン系重合体が開示されている(特許文献2)。
このように種々の方法が開示されているものの、アルキル基、アルコキシ基などの溶解基を側鎖に導入する手法が大半を占めている。これらは、本来のポリフェニレンの剛直性、π電子に富むといった特長から得られる物理特性、すなわち、熱安定性、電子輸送性、発光特性に対して優位な方法とは言えず、剛直な特定構造を有しつつ、溶解性を付与する方法を明示している例はない。一般に、溶解性基(バルク基)の導入は導電性を阻害し勝ちであるので、溶剤可溶性と導電性とは、ほとんど、二律相反の関係にある。
剛直なポリフェニレン重合体を適切な溶解基を導入することで可溶化することで、薄膜加工することができれば、有機エレクトロニクス部材、特に、絶縁部材、半導体部材、導体部材、エレクトロルミネッセンス部材、エレクトロクロミズム部材、エンジニアリングプラスティック部材として利用用途が期待される。
すなわち上記目的は下記(1)項〜(9)項記載の「重合体」、「インク」、「有機膜」、「電子デバイス」、「EL素子」、「有機トランジスタ」を含む本発明によって達成される。
(1)「下記一般式(I)または一般式(II)で表される部分構造部を含む有機側鎖基を有する重合体;
(3)「主鎖がポリフェニレン構造を有することを特徴とする前記(2)項に記載の重合体。」
(4)「一般式(III)に示すポリフェニレン構造を有することを特徴とする前記(1)項乃至(3)項のいずれかに記載の重合体。;
(6)「前記(1)項乃至(4)項のいずれかに記載の重合体からなる有機膜。」
(7)「前記(6)項に記載の有機膜を用いた電子デバイス。」
(8)「前記(6)項に記載の有機膜を用いたエレクトロルミネッセンス素子。」
(9)「前記(6)項に記載の有機膜を活性層に用いた有機トランジスタ。」
この部分構造を有することにより剛直な構造でも溶解性を付与することができ、高い成膜加工性を得ることができる。また、本発明の特定の基を導入することで、従来の溶解基とは異なり、π共役系が拡張しつつ溶解性を向上することができる。π共役の拡張は、電子デバイス、特に、電子輸送が重要になる有機エレクトロニクス部材、特に、半導体部材、導体部材、エレクトロルミネッセンス部材、エレクトロクロミズム部材において有利になりうる。
上記、置換されていても良い炭素数1以上のエーテル基としては、炭素数1以上の置換されていても良い直鎖または環状の脂肪族アルコールおよび炭素数4以上の芳香族アルコール等、アルコール由来のエーテル基が挙げられる。また、前記エーテル中の酸素原子が硫黄原子に置き換わったチオエーテル基も含めることができる。具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ピバロイル基、ペントキシ基、ヘキシロキシ基、ラウリロキシ基、トリフルオロメトキシ基、3,3,3−トリフルオロプロポキシ基、ペンタフルオロプロポキシ基、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロヘキシロキシ基、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、tert−ブチルジメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジフェニルシリルオキシ基等が挙げられ、エーテル結合部位の酸素を硫黄に置き換えた対応するチオエーテル類も同様に含まれる。
加えて、上記例示したアシルオキシ基のカルボニル基とアルキル基あるいはアリール基の間に酸素原子または硫黄原子を挿入した、炭酸ハーフエステル由来の炭酸エステルも挙げることができる。加えて、エーテル結合部位およびカルボニル部位の酸素の一つ以上を硫黄に置き換えた対応するアシルチオオキシ類、チオアシルオキシ類も同様に含まれる。
上記概念の置換基X1〜X3、Y1〜Y3での一部を下記に例示する。
上記アルキル基は、直鎖または分岐または環状の置換または無置換のアルキル基を表す。
これらの例としては、アルキル基[好ましくは置換または無置換の炭素数1以上のアルキル基〔例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−ブチル基、i−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデカン基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、3,7−ジメチルオクチル基、2−エチルヘキシル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロオクチル基、トリフルオロドデシル基、トリフルオロオクタデシル基、2−シアノエチル基〕]、シクロアルキル基[好ましくは置換または無置換の炭素数3以上のアルキル基〔例えば、シクロペンチル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、ペンタフルオロシクロヘキシル基〕]が挙げられる。
以下に説明する他の一価の有機基においても、アルキル基は上記概念のアルキル基を示す。
上記アルコキシル基およびチオアルコキシル基としては、好ましくは置換または無置換のアルコキシル基およびチオアルコキシル基であり、上記に例示したアルキル基およびアルケニル基およびアルキニル基の結合位に酸素原子あるいは硫黄原子を挿入してアルコキシ基あるいはチオアルコキシ基としたものが具体例として挙げられる。
該環の結合、縮環形式の一例としては下記に示す様な構造が挙げられる。
前記Q1〜Q6のいずれかが、隣接するアリール環の炭素原子若しくは窒素原子に結合する結合手である場合、隣接するアリール環の炭素原子又は窒素原子に結合する結合手を有するシクロヘセニル基[下記一般式(1−11)]、シクロヘキサジエ二ル基[下記一般式(1−21)]、ベンゾシクロヘキセニル基[下記一般式(1−12)若しくは(1−13)]、ベンゾシクロヘキサジエニル基[下記一般式(1−22)]、インドリノ[2,3]シクロヘセニル基[下記一般式(1−14)、(1−15)若しくは(1−16)]、又はインドリノ[2,3]ヘキサジエ二ル基[下記一般式(1−23)、(1−24)若しくは(1−25)]から選ばれる芳香族基であることができる。
前記溶媒は、芳香族系溶媒、ハロゲン系溶媒およびエーテル系溶媒から選択され、前記溶媒には、さらに、アルコール系溶液、ケトン系溶液、パラフィン系溶媒および炭素数4以上のアルキル置換芳香族系溶液から選択される粘度調整液が加えられることが好ましい。
溶媒例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、アニソール、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなどのアルコキシ基、ハロゲンを有しても良い芳香族系溶媒が挙げられる。また、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、トリクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒も溶媒として用いられる。
また、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒も溶媒として用いられる。
また、ブチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン、ブチルベンゼン、ドデシルベンゼンなどの直鎖または分岐アルキル基を有しても良い炭素数4以上のアルキル置換芳香族系溶媒も粘度調整液として用いられる。ここで、粘度調整液としてアルコール系溶液とするとアルコール系は水を吸いやすいことから溶液の保存管理に注意を要するところ、粘度調整液として炭素数4以上のアルキル置換芳香族系溶液とすると疎水性であるので保管が簡便であるという利点がある。
また、炭素数4以上のアルキル置換芳香族系溶液であれば、アルキル基の構造を変化させる(例えばアルキル鎖を長くする)ことにより粘度調整が可能であるという利点がある。
また、これらの溶媒および粘度調整液は単独で使用してもよく、複数混合して用いてもよい。
このように芳香族系溶媒、ハロゲン系溶媒およびエーテル系溶媒のうちから溶媒を選択することにより、本発明の有機EL材料を必要量(例えば、1wt%)以上溶媒に溶解させることができる。
なお、溶媒は、芳香族系溶媒、ハロゲン系溶媒およびエーテル系溶媒のうちから選択される少なくとも一つであり、2つ以上を混合してもよいことはもちろんである。
同様に、粘度調整液も、アルコール系溶液、ケトン系溶液、パラフィン系溶液および炭素数4以上のアルキル置換芳香族系溶液のうちから選択される少なくとも一つであり、2つ以上を混合してもよいことはもちろんである。
さらに具体的に重合体の合成例をモノマーから誘導する具体的方法を開示するが、本発明に関わる合成方法はこれらの合成例に限定されるものではない。
以下に本発明の製造方法の一例を示す。
[工程1]アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)とN−ブロモスクシンイミド(NBS)を用いた臭素化もしくはBr2を用いた臭素化により製造することができる。
[工程2]一般的なエステル化方法、エーテル化方法を用いることができるが、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド5水和物とR−COOH、DBUと塩基およびR−COOHを用いることでも形成することができる。Williamsonエーテル合成を用いることでエーテル基を形成することも容易である。これにより本発明で用いられるアシルオキシ基、例えば(3)を形成することができる。
[工程3]ジブロモジヨードベンゼン(4)とジボロン体とのSuzukiカップリングによって得られる。ジボロンエステルが好ましく用いられ、例えば、ビス(カテコラート)ジボロン、ビス(ヘキシレングリコラート)ジボロン、ビス(ピナコラート)ジボロン、ビス(ネオペンチル)ジボロンなどが好ましく用いられる。
[工程4]ジヨードベンゼンとのSuzukiカップリング反応により製造できる。
[工程5]工程3と同様に製造することができる。
[工程6]アシルオキシ基を有する化合物(3)とジボロン体(7)のSuzukiカップリング反応により製造できる。
[工程7]ジボロンジブロモ化合物とビフェニルボロン酸化合物とのSuzukiカップリング反応により製造できる。
[工程8]化合物(9)を脱水極低温の状態で、有機リチウム、例えばn−BuLiを加えリチオ化し、トリメチルスズクロライドと反応することで、トリメチルスズ体(10)を得ることができる。
これにより本発明で用いられるモノマーの一例を製造することができる。
<製造方法例1>
以下、重合法についてさらにくわしくのべる。
本発明の重合体の製造法は、電界重合法、酸化的重合、化学的重合などの方法が挙げられるが、化学的重合が好ましく、結合部位が選択的に結合し、高分子量でありながら、溶媒に可溶な重合体が得られやすい。
本発明の重合体の製造方法において、縮合重合の方法としては、縮合重合に関与する置換基に応じて、既知の縮合反応を用いることができる。例えば、該当するモノマーをSuzukiカップリング反応により重合する方法、Grignard反応により重合する方法、Stilleカップリング反応により重合する方法、Ni(0)錯体により重合する方法、FeCl3等の酸化剤により重合する方法、又は電気化学的に酸化重合する方法など、公知の方法が例示される。
これらのうち、Suzukiカップリング反応により重合する方法、Grignard反応により重合する方法、Stilleカップリング反応により重合する方法、ニッケルゼロ価錯体により重合する方法が、構造制御がしやすいので好ましい。
重合に関与する置換基として好ましい置換基は重合反応の種類によって異なるが、例えばYamamoto反応など0価ニッケル錯体を用いる場合には、ハロゲン原子、アルキルスルホネート基、アリールスルホネート基又はアリールアルキルスルホネート基が挙げられる。またSuzukiカップリング反応などニッケル触媒又はパラジウム触媒を用いる場合には、アルキルスルホネート基、ハロゲン原子、ホウ酸エステル基、−B(OH)2などが挙げられる。
Grignard反応の場合には、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒中でハロゲン化物と金属Mgとを反応させてGrignard試薬溶液とし、これと別に用意したモノマー溶液とを混合し、ニッケルまたはパラジウム触媒を過剰反応に注意しながら添加した後に昇温して還流させながら反応させる方法が例示される。Grignard試薬はモノマーに対して当量以上、好ましくは1〜1.5当量、より好ましくは1〜1.2当量用いる。これら以外の方法で重合する場合も、公知の方法に従って反応させることができる。
パラジウム触媒としてはPd(PPh3)4、PdCl2(PPh3)2、Pd(OAc)2、PdCl2または、パラジウムカーボンに配位子として別途トリフェニルホスフィンを加える、など種々の触媒を用いることができるが、最も汎用的にはPd(PPh3)4が用いられる。
また、反応をよりスムーズに進行させるために相間移動触媒を用いてもよく、好ましくは、テトラアルキルハロゲン化アンモニウム、テトラアルキル硫酸水素アンモニウム、またはテトラアルキル水酸化アンモニウムであり、好ましい例としては、テトラ−n−ブチルハロゲン化アンモニウム、ベンジルトリエチルハロゲン化アンモニウム、または、トリカプリルイルメチル塩化アンモニウムである。
上記重合反応における反応時間は、用いるモノマーの反応性、または、望まれる重合体の分子量などにおいて適宜設定することができ、2〜50時間が好適であり、さらには、5〜24時間がより好ましい。
また、以上の重合操作において分子量を調節するために分子量調節剤、または末端修飾基として重合体の末端を封止するための封止剤を反応系に添加することも可能であり、反応開始時に添加しておくことも可能である。従って、本発明における重合体の末端には停止剤に基づく基が結合してもよい。
分子量調節剤、末端封止剤としては、フェニルボロン酸、ブロモベンゼン、ヨウ化ベンゼン等、反応活性基を1個有する化合物が挙げられる。
先ず、実施例で例示したπ電子共役化合物前駆体の合成方法について、本発明の代表例を以下に示した。下記合成例(実施例)および応用実施例における化合物の同定は、NMRスペクトル〔JNM−ECX(商品名)500MHz、日本電子製〕、質量分析〔GC−MS、GCMS−QP2010 Plus(商品名)、島津製作所製〕、赤外吸収スペクトル〔SpectrumGX(商品名)、パーキンエルマー製〕、紫外可視スペクトル〔V−600(商品名)、日本分光製〕、精密質量分析〔LC−TofMS、Alliance−LCT Premier(商品名)、Waters社製〕、元素分析〔(CHN)(CHNレコーダーMT−2、柳本製作所製)、元素分析(硫黄)(イオンクロマトグラフィー;アニオン分析システム:DX320(商品名)、ダイオネクス製〕を用いて行った。
下記の合成方法により、本発明の[重合体1]を合成した。
これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン)にて精製することにより、無色のオイルとして化合物2を得た。(収量12.0g,収率71.2%)
質量分析:GC−MSm/z=258(M+)
これ以上精製することなく次の反応に用いた。
質量分析:GC−MSm/z=413(M+)
質量分析:GC−MSm/z=654(M+)
質量分析:GC−MSm/z=486(M+)
元素分析:理論C:44.32、H:5.37 実測C:43.5、H:5.20
質量分析:GC−MSm/z=1287(M+)
質量分析:GC−MSm/z=486(M+)
質量分析:GC−MSm/z=658(M+)
メタノールを用いてソックスレーを用い、固形物の不純物を溶出し、さらにトルエンでソックスレーを行うことで固形物を抽出した。エバポレーターで濃縮し、メタノールで再沈殿を行うことで黄色固体を得た。(収量1.0g)
平均分子量は11000(ポリスチレン換算)であった。
(本発明の重合体2の合成)
図1に重合体2の赤外吸収スペクトルを示し、図2に重合体2の有機膜(石英、スピンコート膜)の紫外可視吸収スペクトルを示す。図2中、符号a、b及びcは、重合体有機膜が得られた後、a:非加熱、b:300度で30分加熱処理した場合、c:450度30分で加熱処理した場合の膜の吸収スペクトルである。
平均分子量は9000であった。
(本発明の重合体3の合成)
平均分子量は15000であった。
[フェニレン重合体の合成]
質量分析をおこなったところ、ジナフタレンベンゼンとその2量体、3量体がほとんどであることがわかった。(収量309mg、収率93%)
得られた重合体を用いて、種々の一般溶剤を用いインクを作製し室温暗室で24時間放置し、溶解性の試験として、経時安定性(沈殿物、分解物の有無、色変化)を目視で確認した。
インクジェット吐出試験として、ジーエルサイエンス社製クロマトディスク(非水系、0.45μm)によりフィルタリングし、安定吐出可能であるかどうかを試みた。クラスターテクノロジー社のパルスインジェクター(ノズル径25μ)に充填し、同社wavebuilderをもちいて、駆動波形、1秒当たりの吐出回数、駆動電圧を調整することで、5分間安定吐出できるかどうかの試験を行った。
製膜試験として、得られた重合体のインクを用いて、UVO3処理した石英基板(10mm*10mm)、Si(nドープ、酸化膜、HMDS処理,10mm*10mm)基板にそれぞれ、1000rpsでスピンコートし真空乾燥させて有機膜を作製した。光学顕微鏡および365nmの紫外光を照射した状態で膜観察をすることによって、石英基板、Si基板で平滑な有機膜が作製されるかどうかを確認した。実施例4から6の結果を表6にまとめた。
<溶解性試験>
○:一日後も溶解し、変化しない
△:溶解するが、1日後着色する、一部析出する
×:溶解しない、析出物がある
<吐出試験>
○:5分以上連続で吐出可能である
△:吐出可能であるが、不安定でバラツキがある、もしくは、途中で吐出できない
×:吐出できない
<製膜試験>
○:光学顕微鏡観察で連続に膜が生成している
×:不連続に膜が生成
インク1を用いて、365nmの励起光を照射すると青い発光が観察された。
さらに、実施例6で用いた有機膜(石英基板)に365nmの励起光を照射すると青い発光が観察された。同様に、インク8から得られた有機膜からも青い発光か観察された。
以上のように、本発明の重合体はフォトルミネッセンス材料として有用であることが示された。
UVO3処理しHMDS処理したSi基板(酸化膜300nm)に、インク1を3000rpmでスピンコートし有機膜を得た。その有機膜をグローブボックス中でホットプレートで80度で30分加熱した。その有機膜上に、チャネル幅1000μm,チャネル長50μmのソース電極、ドレイン電極を真空蒸着で形成した。(Ag電極、膜厚50nm、背圧4×10−4Pa)。半導体パラメーターを用いて、伝達特性(SD電圧−20V、G電圧+20〜−20V)と出力特性(SD電圧−20V、G電圧5Vstep)を測定した。その結果、p型の半導体動作を示し、そのときの移動度が、3×10E−4cm2/Vsでオン電流とオフ電流のON/OFF比が10E5であった。良好なp型特性を示めした。このことにより電子デバイスでも有用であることが明らかとなった。
Claims (9)
- 下記一般式(I)または一般式(II)で表される部分構造部を含む有機側鎖基を有する重合体。
- ポリアリール主鎖と、上記一般式(I)又は一般式(II)で示された部分構造を含む有機側鎖基とを有する請求項1に記載の重合体。
- 主鎖がポリフェニレン構造を有することを特徴とする請求項2に記載の重合体。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の重合体を含むインク。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の重合体からなる有機膜。
- 請求項6に記載の有機膜を用いた電子デバイス。
- 請求項6に記載の有機膜を用いたエレクトロルミネッセンス素子。
- 請求項6に記載の有機膜を活性層に用いた有機トランジスタ。
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