JP2013221745A - X線検出装置 - Google Patents
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
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- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
- G01N2223/316—Accessories, mechanical or electrical features collimators
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Analytical Chemistry (AREA)
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- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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Abstract
【解決手段】X線検出装置は、X線照射部4と、X線検出器5と、移動可能なコリメータ2と、X線を遮蔽する遮蔽体3とを備える。遮蔽体3は、X線照射部4からX線検出器5へ直接に入射しようとするX線を遮蔽する。また、遮蔽体3は、X線がコリメータ2に照射されることで発生する蛍光X線及び散乱X線を遮蔽する。このようにして、試料Sからの蛍光X線以外のX線がX線検出器5で検出されることを防止する。遮蔽体3はコリメータ2に結合しており、コリメータ2及び遮蔽体3は一体になって移動する。小型化したX線検出装置内でも遮蔽体3の位置が確保できる。
【選択図】図5
Description
図1は、X線検出装置の要部の構成を示す模式的斜視図である。X線検出装置は、X線を試料へ照射して発生する蛍光X線を検出し、蛍光X線スペクトルの測定又は試料に含有される元素を分析する蛍光X線分析を行うための装置である。X線検出装置は、試料を支持するための試料支持部1を備えている。試料支持部1は、水平板状であり、試料が載置されることによって試料を支持する。試料支持部1には、貫通孔11が設けられている。図1に図示していない試料は、貫通孔11を塞いで載置される。
11 貫通孔
14 X線透過膜
2 コリメータ
21、22、23 絞り孔
3 遮蔽体
31 第1遮蔽部材
32 第2遮蔽部材
4 X線照射部
5 X線検出器
61 撮像素子
62 窓部
7 直線駆動モータ
81 蓋部
82 樹脂部材
Claims (6)
- 試料支持部と、該試料支持部が支持する試料へX線を照射するX線照射部と、前記試料から発生するX線を検出するX線検出器と、前記X線照射部が試料へ照射するX線を絞るコリメータとを備えるX線検出装置において、
前記X線照射部のX線の出射口と前記X線検出器のX線の入射口とを前記試料支持部の所定の部分に向けて、前記X線照射部及び前記X線検出器を配置してあり、
前記出射口と前記入射口とを結んだ経路を通るX線、及び前記コリメータの任意の部分と前記入射口とを結んだ経路を通るX線を遮蔽する遮蔽体を備えること
を特徴とするX線検出装置。 - 前記遮蔽体は、
前記出射口と前記入射口とを結んだ経路を通るX線を遮蔽する第1遮蔽部材、並びに該第1遮蔽部材及び前記コリメータと前記入射口とを結んだ経路を通るX線を遮蔽する第2遮蔽体を有すること
を特徴とする請求項1に記載のX線検出装置。 - 前記コリメータは平板状であり、
前記遮蔽体は前記コリメータの両面から突出してあること
を特徴とする請求項1又は2に記載のX線検出装置。 - 前記遮蔽体は、前記試料支持部が支持する試料から前記入射口までのX線の経路を遮断しない形状であること
を特徴とする請求項1乃至3の何れか一つに記載のX線検出装置。 - 前記遮蔽体及び前記コリメータが結合してあることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一つに記載のX線検出装置。
- 前記コリメータは、X線を絞るための複数の絞り孔を有し、
前記遮蔽体及び前記コリメータは、X線が通過する絞り孔を変更するように移動することが可能になっていること
を特徴とする請求項5に記載のX線検出装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012091312A JP6096419B2 (ja) | 2012-04-12 | 2012-04-12 | X線検出装置 |
CN201310126454.9A CN103376273B (zh) | 2012-04-12 | 2013-04-12 | X射线检测装置 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012091312A JP6096419B2 (ja) | 2012-04-12 | 2012-04-12 | X線検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013221745A true JP2013221745A (ja) | 2013-10-28 |
JP6096419B2 JP6096419B2 (ja) | 2017-03-15 |
Family
ID=49325108
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012091312A Active JP6096419B2 (ja) | 2012-04-12 | 2012-04-12 | X線検出装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9116107B2 (ja) |
JP (1) | JP6096419B2 (ja) |
CN (1) | CN103376273B (ja) |
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JP2019184609A (ja) * | 2018-04-13 | 2019-10-24 | マルバーン パナリティカル ビー ヴィ | X線分析装置及び方法 |
JP7398875B2 (ja) | 2018-04-13 | 2023-12-15 | マルバーン パナリティカル ビー ヴィ | X線分析装置及び方法 |
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JP7328135B2 (ja) | 2018-12-14 | 2023-08-16 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置、分析方法、及びプログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130272498A1 (en) | 2013-10-17 |
US9116107B2 (en) | 2015-08-25 |
CN103376273B (zh) | 2017-05-31 |
JP6096419B2 (ja) | 2017-03-15 |
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A977 | Report on retrieval |
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