JP2013216732A

JP2013216732A - 防汚性付与ハードコート組成物

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Publication number: JP2013216732A
Application number: JP2012086245A
Authority: JP
Inventors: Shinichi Sato; 伸一佐藤; Yasunori Sakano; 安則坂野
Original assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date: 2012-04-05
Filing date: 2012-04-05
Publication date: 2013-10-24
Anticipated expiration: 2032-04-05
Also published as: TW201402729A; KR102015667B1; TWI558777B; KR20130113379A; CN103360805A; CN103360805B; JP5835069B2

Abstract

【課題】指紋、皮脂、汗などの人脂、化粧品等が付着しても目立ちにくくなり、汚れが付着した場合であっても拭き取り性に優れたハードコート表面を与える防汚性付与ハードコート組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ハードコート材料、
（Ｂ）含フッ素アクリレート化合物、
（Ｃ）パーフルオロポリエーテル基を有するアクリレート化合物
を主成分とする防汚性付与ハードコート組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は、防汚性を付与したハードコート材料に関するものであり、より詳細には、同一分子内に含フッ素有機基と炭化水素基と（メタ）アクリル基を有する防汚性付与剤と、同一分子内にパーフルオロポリエーテル基と（メタ）アクリル基を有する防汚性付与剤とを添加した防汚性が付与されたハードコート組成物に関するものである。

樹脂材料は、金属と比較して錆びない、軽いなどの特徴を有するため、各種電化製品やパソコン、携帯電話などの電子機器の筐体などに幅広く用いられている。また、ガラスと比較しても割れにくいなどの特徴を有しており、アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂などの高硬度、高透明性などの性質を有する樹脂は、単体あるいはハードコート材料として液晶ディスプレイやタッチパネルなどの表示体に用いられている。

近年、特に電子機器の筐体などにおいては、デザイン面から高光沢な表面が求められている。また、携帯電話やパソコン用ディスプレイにもタッチパネルの仕様を有するものが増えてきており、その最表面には傷防止などの目的で、アクリル樹脂やシリコーン樹脂などのハードコード材料が塗工されている。

これらは頻繁に人の手などに触れることから、皮脂や汗、指紋といった汚れが付着し易く、それらが痕跡となった場合、見た目を損ねたり視認性が低下したりすることが多い。特に、静電容量方式のタッチパネルにおいては、指で直接触れることによる入力が必須であり、この問題は避けられない。そのため、これらのハードコート材料に対して、耐指紋性などの防汚性能の向上が強く求められてきた。

この対策としてはこれまで種々検討されており、大別すると次の２つの手法による。一つは、シリコーン系化合物やフッ素系化合物を用いて、ハードコート表面に低表面エネルギーを有する撥水・撥油性表面を形成し、指紋などの汚れがつきにくく、かつ、取れ易い処理を施すというものである。

例えば、特開２００４−２５０４７４号公報：特許文献１に示されるように、パーフルオロポリエーテル基を有するシラン化合物をハードコートの最表面に処理したり、特許第３９６３１６９号公報：特許文献２に示されるように、パーフルオロポリエーテルウレタンアクリレート組成物をハードコート組成物に添加し、その表面で偏在架橋させたりして、撥水・撥油性表面を形成することによって、防汚性能を発現させようというものである。

この方法では、付着した汚れが拭き取り易くなるものの、その高い撥水・撥油性によって、付着した指紋等が微細な液滴を形成し、光を乱反射することで透過性や視認性が低下したり、フッ素化合物が低屈折率であることから、指紋の成分である皮脂や汗などとの屈折率差が大きく、わずかな付着跡でも目立ったりすることがあった。
また、付着した指紋は水分や塩などの無機成分、たんぱく質や油脂などの有機成分などを含み、その組成が複雑であり、これらの付着を完全に防ぐことは困難である。

もう一つは、指紋等の汚れ成分に対して親和性の高い親水・親油表面をハードコートの最表面に形成し、付着した汚れを馴染ませ、薄く濡れ広がらせることによって、目立たなくしてしまうというものである。

例えば、特開２００１−３５３８０８号公報：特許文献３に示されるように、長鎖アルキルエステル基を有するシラン化合物をハードコートの最表面に処理したり、国際公開第２００９／４４９１２号パンフレット：特許文献４に示されるように、アクリルポリマー組成物にコロイダルシリカを添加したりして、表面に親水・親油表面を形成することによって、汚れの視認性を低下させようというものである。

この方法では、汚れがハードコート表面に付着しても、全体に濡れ広がって見えにくくなる。更にハードコートの屈折率を指紋等の汚れ成分に近づけることによって、更に視認性の低下を防ぐことができる。しかしながら、汚れ成分への親和性が高いために、徐々にそれらが堆積してしまったり、拭き取りが難しかったりするために、ディスプレイなどの光透過性が低下してしまうことがあった。

また、特許第４８７３６６６号公報：特許文献５には、パーフルオロポリエーテル基を有するアクリレート化合物が記載され、該化合物を単独で添加した場合、指紋拭き取り性は非常に改良されるが、指紋の目立ちにくさは不十分であった。

特開２００４−２５０４７４号公報特許第３９６３１６９号公報特開２００１−３５３８０８号公報国際公開第２００９／４４９１２号パンフレット特許第４８７３６６６号公報

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、指紋、皮脂、汗などの人脂、化粧品等が付着しても目立ちにくくなり、汚れが付着した場合であっても拭き取り性に優れたハードコート表面を与える防汚性付与ハードコート組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、ハードコート材料に、下記一般式（１）で表される含フッ素アクリレート化合物と、下記一般式（２）で表わされるパーフルオロポリエーテル基を有するアクリレート化合物との２種類の防汚添加剤を添加した防汚性付与ハードコート組成物を用いることにより、得られたハードコート表面は、指紋の目立ちにくさが改良され、指紋拭き取り性も良好であることを見出し、本発明をなすに至った。

従って、本発明は、下記の防汚性付与ハードコート組成物を提供する。
〔１〕
（Ａ）ハードコート材料、
（Ｂ）下記一般式（１）で表される含フッ素アクリレート化合物、

［式中、Ｒｆは炭素数２〜１６のフルオロアルキレン基であり、Ｑは独立に単結合又は炭素数１〜１２の２価の有機基であり、Ｒは独立に酸素原子を含んでもよい炭素数６〜２０のアルキル基、又は炭素数７〜２０のアラルキル基であり、Ｒ¹は互いに独立に炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基であり、Ｒ²は水素原子又はメチル基であり、Ｘは下記一般式

（式中、Ｒ¹²は炭素数１〜１２の２価炭化水素基である。）
で示される基であり、ｍは２〜８の整数であり、ｎは独立に１又は２である。］
（Ｃ）下記一般式（２）で表わされるパーフルオロポリエーテル基を有するアクリレート化合物
Ｘ¹−［Ｚ−Ｒｆ’−Ｚ−Ｘ²］_v−Ｚ−Ｒｆ’−Ｚ−Ｘ¹ （２）
［式中、Ｒｆ’は独立に２価の分子量５００〜３０，０００のパーフルオロポリエーテル基であり、途中分岐を含んでいてもよく、Ｘ¹は互いに独立に、下記式（３）

〔式（３）中、ａ及びｃはそれぞれ０又は１〜３の整数、ｂは１〜４の整数、但しａ＋ｂ＋ｃは２、３又は４であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってよい。Ｒ³は独立に、下記式（４）
−（Ｃ₄Ｈ₈Ｏ）_d（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_e（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_f（ＣＨ₂Ｏ）_gＲ⁵ （４）
（式（４）中、ｄ、ｅ、ｆ、ｇはＲ³の分子量が４５〜６００となる範囲において、互いに独立に０又は１〜２０の整数であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってよく、Ｒ⁵は炭素数１〜１０の飽和もしくは不飽和１価炭化水素基である。）
で表される基であり、Ｒ⁴は下記式（５）

（式（５）中、Ｒ⁶は、独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基であり、Ｒ⁷は炭素数１〜１８のエーテル結合又はエステル結合を含んでいてもよい２価もしくは３価の連結基であり、ｕは１又は２である。）
で表されるアクリル基もしくはα置換アクリル基含有基であり、Ｑ¹及びＱ²は、互いに独立に、炭素数３〜２０のエーテル結合、エステル結合、アミド結合もしくはウレタン結合を含んでいてもよい２価の連結基であり、途中環状構造や分岐構造を含んでいてもよく、それぞれ同一でも異なっていてもよい。〕
で表わされる基であり、Ｘ²は独立に、下記式（６）

（式（６）中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｑ¹、Ｑ²は上記の通りであり、ｈ、ｋはそれぞれ０又は１〜３の整数であり、ｊは１〜３の整数であり、かつｈ＋ｊ＋ｋは１〜３のいずれかの値であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってよい。）
で表わされる２価の基であり、Ｚは互いに独立に、酸素原子、窒素原子、ケイ素原子を含んでいてもよく、また環状構造、不飽和結合を有してもよい２価の有機基であり、ｖは０又は１〜５の整数である。］
を主成分とする防汚性付与ハードコート組成物。
〔２〕
（Ａ）成分のハードコート材料が、紫外線硬化型アクリル系ハードコート材料である〔１〕記載の防汚性付与ハードコート組成物。
〔３〕
紫外線硬化型アクリル系ハードコート材料が、（メタ）アクリル系化合物及び光重合開始剤からなるものである〔２〕記載の防汚性付与ハードコート組成物。

本発明の防汚性付与ハードコート組成物によれば、指紋、皮脂、汗などの人脂、化粧品等が付着しても目立ちにくくなり、汚れが付着した場合であっても拭き取り性に優れたハードコート表面を与えることができる。

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の防汚性付与ハードコート組成物は、
（Ａ）ハードコート材料、
（Ｂ）一般式（１）で表される含フッ素アクリレート化合物、
（Ｃ）一般式（２）で表わされるパーフルオロポリエーテル基を有するアクリレート化合物
を主成分とするものである。

（Ａ）ハードコート材料
本発明の（Ａ）成分のハードコート材料としては、特に限定されるものではないが、後述する（Ｂ）、（Ｃ）成分の防汚性付与剤に対して溶解性と表面滲出性のバランスが優れている活性エネルギー線の照射により硬化する樹脂（活性エネルギー線硬化型樹脂組成物）が好ましく、特には、（メタ）アクリル系化合物及び光重合開始剤からなる紫外線硬化型アクリル系ハードコート材料が好ましい。

紫外線硬化型アクリル系ハードコート材料には、（メタ）アクリル系化合物として、例えば、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素−（２，２，２−トリ−（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート等の２〜６官能の（メタ）アクリル化合物、これらの（メタ）アクリル化合物をエチレンオキシド、プロピレンオキシド、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品、エポキシ樹脂にアクリル酸を付加させて得られるエポキシアクリレート類、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、及びペンタエリスリトールトリアクリレートから選ばれる水酸基を有する（メタ）アクリレートと、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、及びジフェニルメタンジイソシアネートから選ばれるポリイソシアネートを反応させたウレタンアクリレート類、アクリル酸エステル共重合体の側鎖に（メタ）アクリロイル基を導入した共重合体等の多官能（メタ）アクリレート混合物等を使用することができ、これにベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の光重合開始剤を配合して用いる。

なお、紫外線硬化型アクリル系ハードコート材料としては、市販品を使用することができ、（メタ）アクリル系化合物としては、例えば、ＥＢＥＣＲＹＬ４０、（４官能アクリレート、ダイセルサイテック社製）、ＰＥＴＩＡ（３官能アクリレート、ダイセルサイテック社製）、Ａ−ＴＭＰＴ（３官能アクリレート、新中村化学工業製）、Ａ−ＤＰＨ（６官能アクリレート、新中村化学工業製）、ＵＡ−３０６Ｈ（６官能アクリレート、協栄社化学製）、ＵＮ−９５２（１５官能アクリレート、根上工業製）等を用いることができる。また、光重合開始剤としては、例えば、イルガキュアー１８４、イルガキュアー１２７、イルガキュアー６５１、ダロキュアー１１７３（ＢＡＳＦ製）等を用いることができる。

ここで、光重合開始剤の使用量は、（メタ）アクリル系化合物１００質量部に対して１〜１０質量部であることが好ましく、１〜５質量部であることがより好ましい。配合量が少なすぎると硬化性が不十分となり、硬化物が柔らかくなる場合があり、多すぎると硬化物中に架橋に関与しない不純物が増加し、物性が低下する場合がある。

（Ｂ）含フッ素アクリレート化合物
本発明の（Ｂ）成分である含フッ素アクリレート化合物は、下記一般式（１）で示されるものであり、防汚性付与剤として作用する。

一般式（１）において、Ｒｆは炭素数２〜１６、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数４〜８の直鎖状もしくは分岐状フルオロアルキレン基であり、撥水・撥油性、防汚性、ハードコート表面への滲出性などの特性を化合物に付与するためのものである。Ｒｆ中における炭素数が上記上限値を超える場合には、ハードコート材料との相溶性が損なわれ、白化や硬化不良などを生じるおそれがある。

このような含フッ素基Ｒｆの例としては、例えば下記に示すものが例示できる。
−Ｃ_pＦ_2p−，
−（ＣＦ₂）_r−ＣＨ₂−（ＣＦ₂）_s−
（式中、ｐは２〜１０の整数、好ましくは４〜８の整数、ｒは１〜８、好ましくは２〜６の整数、ｓは１〜８、好ましくは２〜６の整数である。）

これらの中でも下記に示すものが好適に使用し得る。
−Ｃ_pＦ_2p−
（式中、ｐは上記と同じである。）

一般式（１）において、Ｑは独立に単結合、又は炭素数１〜１２、好ましくは炭素数３〜８の２価の有機基である。２価の有機基として、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等のアルキレン基、フェニレン基等のアリーレン基、又はこれらの基の２種以上の組み合わせ（アルキレン・アリーレン基等）であってもよく、あるいはこれらの基にエーテル結合、アミド結合、エステル結合、ジオルガノシリレン基等から選ばれる１種又は２種以上の構造を介在させたものであってもよく、更に上記以外に酸素原子、窒素原子、ケイ素原子から選ばれる１種又は２種以上を含む基を含有してもよい２価の炭化水素基が挙げられる。

このようなＱの２価の有機基としては、下記式に示される基が挙げられる。
−ＣＨ₂−，
−ＣＨ₂ＣＨ₂−，
−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−，
−ＣＨ₂−Ｏ−（ＣＨ₂）_t−，
−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｏ−（ＣＨ₂）_t−，
−ＯＣＨ₂−，
−ＣＯ−ＮＨ−ＣＨ₂−，
−ＣＯ−Ｎ（Ｐｈ）−ＣＨ₂−，
−ＣＯ−ＮＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−，
−ＣＯ−Ｎ（Ｐｈ）−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−，
−ＣＯ−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−，
−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ₂−，
−ＣＯ−Ｎ（ＣＨ₃）−Ｐｈ’−，
−ＣＯ−ＮＲ¹¹−Ｙ’−，
−ＣＯ−ＮＲ¹¹−Ｙ’−ＣＨ₂ＣＨ₂−
（式中、Ｐｈはフェニル基、Ｐｈ’はフェニレン基であり、ｔは１〜１０の整数である。Ｙ’は−ＣＨ₂−又は下記式

で表される２価の基であり、Ｒ¹¹は水素原子又は非置換もしくは置換の、好ましくは炭素数１〜１０の１価炭化水素基である。）

ここで、上記Ｒ¹¹の非置換もしくは置換の、好ましくは炭素数１〜１０の１価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などや、これらの基の水素原子の一部又は全部がフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基（Ｎ≡Ｃ−）などで置換されたもの、例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等が挙げられる。

式（１）において、Ｒは独立に酸素原子を含んでもよい炭素数６〜２０、好ましくは炭素数８〜２０のアルキル基、又は炭素数７〜２０、好ましくは炭素数８〜１４のアラルキル基であり、該基は汚れや指紋の油成分と親和性を持たせ、汚れや指紋を目立ちにくくするために導入される。例えば、アルキル基としては、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基（ラウリル基）、テトラデシル基（ミリスチル基）、ヘキサデシル基（パルミチル基）、オクタデシル基（ステアリル基）、エイコシル基等が挙げられ、アラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基、トリルエチル基等が挙げられる。また、これらにエーテル結合酸素原子（−Ｏ−）、カルボニル結合（−ＣＯ−）、エステル結合（−ＣＯＯ−）等の１種又は２種以上を介在するものであってもよく、例えば、ウンデカン酸エチル基、オクチル酸エチル基、エトキシペンチル基等が挙げられる。複数のＲは同一の基であっても異種の基であってもよい。

式（１）において、Ｒ¹は互いに独立に炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数６〜１０、好ましくは炭素数６〜８のアリール基、又は炭素数７〜１０、好ましくは炭素数７〜８のアラルキル基であり、該基は化合物に親油性、ハードコート材料への相溶性などを付与するために導入される。例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基などが挙げられる。中でも、メチル基、ｎ−ブチル基、フェニル基であることが好ましく、特に好ましいのはメチル基である。Ｒ¹はそれぞれが同一の基であっても異種の基であってもよい。
また、Ｒ²は、水素原子又はメチル基である。

式（１）において、Ｘは下記一般式で示されるものである。

（式中、Ｒ¹²はメチレン基、エチレン基、プロピレン基等のアルキレン基、フェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基などの炭素数１〜１２の２価炭化水素基である。）

また、式（１）において、ｎは独立に１又は２であり、好ましくは２である。ｍは２〜８の整数であり、好ましくは２〜６の整数である。

上記一般式（１）で示される含フッ素アクリレート化合物として、具体的には、下記に示すものを例示することができる。

（但し、ｘ＋ｙ（平均）＝５）

上記一般式（１）で示される含フッ素アクリレート化合物は、既知の方法によって容易に製造できる。例えば、下記一般式（ｉ）

（式中、Ｒｆ、Ｑ、Ｒ¹は上記と同じである。）
で示されるヒドロシロキシ基含有含フッ素化合物と、式（１）のＲ基から水素原子１個を除いた残基に対応する炭素数６〜２０のα−オレフィン系化合物と、アルケノールとを、好ましくは白金系触媒の存在下、従来公知の方法によりヒドロシリル化付加反応させることによって含フッ素有機基変性シロキサンとした後、該シロキサンと、（メタ）アクリル基含有イソシアネート化合物とを、反応させることで製造することができる。

ここで、α−オレフィン系化合物は、式（１）におけるＲより水素原子を１個除いたオレフィンで、好ましくは片末端にビニル基を有するオレフィンが好ましい。両末端ビニル基含有オレフィンを用いると、ヒドロシリル化付加反応の際に分子間で架橋反応が起こることがあり、高分子化して生成物がゲル化したり、ハードコート材料への溶解性が低下したりするおそれがある。炭素数６〜２０のα−オレフィン系化合物として、具体的には、１−ヘキサデセン、１−ドデセン、１０−ウンデセン酸エチル、エトキシ−１−ペンテン等が例示できる。

また、アルケノールとしては、下記式で示されるものが例示できる。
ＨＯ−Ｒ¹³−ＣＨ＝ＣＨ₂
（式中、Ｒ¹³は単結合又は炭素数１〜６のメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基である。）

ヒドロシロキシ基含有含フッ素化合物と炭素数６〜２０のα−オレフィン系化合物とは、ヒドロシロキシ基含有含フッ素化合物のＳｉＨ基が少なくとも１個残るように反応させるもので、具体的には、ヒドロシロキシ基含有含フッ素化合物のＳｉＨ基とα−オレフィン系化合物の末端ビニル基とのモル比（Ｖｉ／ＳｉＨ比）が０．１６７〜０．８３３、より好ましくは０．３３３〜０．６６７であるように反応を行って、ＳｉＨ基を少なくとも１個、好ましくは１〜３個有する含フッ素有機基変性シロキサンを得ることが好ましい。α−オレフィン系化合物が上記より過剰であると、ハードコート材料に添加した際に濁りを生じたりするおそれがある。

次いで、残りのＳｉＨ基すべてにアルケノールを反応させる。上記ヒドロシロキシ基含有含フッ素化合物とα−オレフィン系化合物とを反応させたＳｉＨ基を少なくとも１個有する含フッ素有機基変性シロキサンと、アルケノールとは、該含フッ素有機基変性シロキサンのＳｉＨ基とアルケノールのビニル基とのモル比（Ｖｉ／ＳｉＨ比）が０．２〜１．５、特に０．３３３〜１．２となるように反応を行って、ＳｉＨ基を有さない含フッ素有機基変性シロキサンを得ることが好ましい。

上記反応において、白金系触媒としては、ヒドロシリル化付加反応に用いられる従来公知の白金族金属触媒が使用できる。一般に貴金属の化合物であり高価格であることから、比較的入手し易い白金又は白金化合物がよく用いられる。このような白金化合物としては、塩化白金酸又は塩化白金酸とエチレン等のオレフィンとの錯体、アルコール、ビニルシロキサンとの錯体、及びシリカ、アルミナ、カーボン等に担持された金属白金を用いることができる。白金化合物以外の白金族金属触媒としては、ロジウム、ルテニウム、イリジウム及びパラジウム系化合物が使用でき、例えば、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ₃）₃、ＲｈＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ₃）₂、Ｒｕ₃（ＣＯ）₁₂、ＩｒＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ₃）₂、Ｐｄ（ＰＰｈ₃）₄等（式中、Ｐｈはフェニル基である。）を用いることができる。

白金系触媒の使用量は触媒量でよく、ヒドロシロキシ基含有含フッ素化合物とα−オレフィン系化合物あるいはアルケノールの合計量１００質量部に対し、０．１〜５００ｐｐｍ（白金質量換算）となる量が好ましい。

反応温度は、溶剤の量や種類により適宜決められ、通常、室温〜２００℃でよく、好ましくは４０〜１００℃である。反応時間は、特に制約なく、個別の反応条件に応じて反応が十分に進行するようにすればよい。

上記各段階のヒドロシリル化付加反応を行う際に、必要に応じて溶剤を用いてもよい。溶剤は、ヒドロシロキシ基含有含フッ素化合物、α−オレフィン系化合物及びアルケノールのいずれをも溶解するものであることが望ましいが、いずれか一つのみを溶解するものであってもヒドロシリル化付加反応を阻害するものでなければ特に制限されない。溶剤の使用量は、ヒドロシロキシ基含有含フッ素化合物、α−オレフィン系化合物及びアルケノールや生成する含フッ素有機基変性シロキサンの粘度や仕込み量によって適宜選定されるが、ヒドロシロキシ基含有含フッ素化合物、α−オレフィン系化合物及びアルケノールの合計量１００質量部に対して、１０〜２００質量部が好ましく、２０〜１００質量部であることが特に好ましい。

このような溶剤としては、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、イソオクタン、イソドデカンなどの脂肪族炭化水素系化合物、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系化合物、トリフルオロトルエン、ヘキサフルオロメタキシレンなどの含フッ素芳香族炭化水素系化合物、パーフルオロブチルメチルエーテル、パーフルオロブチルエチルエーテル、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロ−３−メトキシ−４−（トリフルオロメチル）ペンタンなどのハイドロフルオロエーテル系化合物、ダイフロイル（ダイキン工業製）などのクロロフルオロカーボン系化合物、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、２−（トリメチルシロキシ）−１，１，１，２，３，３，３−ヘプタメチルトリシロキサンなどの鎖状シロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサンなどの環状シロキサン、フォンブリン、ガルデン（ソルベイソレクシス製）、デムナム（ダイキン工業製）、クライトックス（デュポン製）などのパーフルオロポリエーテル系化合物などが挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、ヘキサフルオロメタキシレンが、ヒドロシロキシ基含有含フッ素化合物、α−オレフィン系化合物、アルケノール及び生成する含フッ素有機基変性シロキサンの溶解性に優れており好適である。

得られた含フッ素有機基変性シロキサンに（メタ）アクリル基含有イソシアネート化合物を反応させる。この際、含フッ素有機基変性シロキサン中のアルコール量を定量し、その量の１．２〜３倍モル量、好ましくは１．５〜２倍モル量の（メタ）アクリル基含有イソシアネート化合物を反応させることが望ましい。

ここで、（メタ）アクリル基含有イソシアネート化合物としては、下記式で示されるものが例示できる。

（式中、Ｒ²、Ｒ¹²は上記と同じである。）

含フッ素有機基変性シロキサンと（メタ）アクリル基含有イソシアネート化合物との反応は、０〜１２０℃、好ましくは２５〜８０℃の条件下、両者を混合することによって進行することができる。

また、反応の速度を増加するために適切な触媒を加えてもよい。触媒としては、例えばジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクタン酸第１錫等のアルキル錫エステル化合物、テトライソプロポキシチタン、テトラｎ−ブトキシチタン、テトラキス（２−エチルヘキソキシ）チタン、ジプロポキシビス（アセチルアセトナ）チタン、チタニウムイソプロポキシオクチレングリコール等のチタン酸エステル又はチタンキレート化合物、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムキレート化合物等が例示されるが、これらはその１種に限定されず、２種もしくはそれ以上の混合物として使用してもよい。これらの触媒を反応物総質量に対して、０．０１〜２質量％、好ましくは０．０５〜１質量％で加えることにより反応速度を増加させることができる。

また、必要に応じて適当な溶剤で希釈して反応を行ってもよい。このような溶剤としては、イソシアネート及び水酸基と反応しない溶剤であれば特に制限なく用いることができ、具体的には、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤等が例示される。

本発明の（Ｂ）成分は、有機溶剤に均一に溶解した溶液として調製することができる。この場合、均一溶液が得られる範囲であれば溶液中の含フッ素アクリレート化合物の濃度は特に制限されないが、通常は、１〜５０質量％、好ましくは５〜３０質量％、より好ましくは５〜２０質量％程度であればよい。

含フッ素アクリレート化合物を溶解する有機溶剤としては、（Ａ）成分のハードコート材料と反応しないものから選ばれ、例えば、ヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、イソドデカンなどの脂肪族炭化水素系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル酢酸エステルなどのエステル系溶剤などが挙げられる。この中でもイソドデカン、イソプロパノール、メチルイソブチルケトンなどが好適に用いられる。

（Ｂ）成分である含フッ素アクリレート化合物の添加量は、（Ａ）成分であるハードコート材料１００質量部に対して（上記溶液中の固形分で）０．１〜３質量部、好ましくは０．２〜２質量部の割合で添加すると良好な表面特性が得られる。上記下限値未満ではハードコート表面への滲出が困難であり、望ましい特性が得られないおそれがある。また、上記上限値超では樹脂への親和性が損なわれるため、外観の白化や硬度の低下などが生じるおそれがある。

（Ｃ）パーフルオロポリエーテル基を有するアクリレート化合物
本発明の（Ｃ）成分であるパーフルオロポリエーテル基を有するアクリレート化合物は、下記式（２）で示されるものであり、防汚性付与剤として作用する。
Ｘ¹−［Ｚ−Ｒｆ’−Ｚ−Ｘ²］_v−Ｚ−Ｒｆ’−Ｚ−Ｘ¹ （２）

式（２）において、Ｒｆ’は独立に２価の分子量５００〜３０，０００のパーフルオロポリエーテル基であり、途中分岐を含んでいてもよい。

Ｒｆ’は、一般式−Ｃ_iＦ_2iＯ−（ｉは、単位毎に独立に、１〜６の整数である）で表される繰り返し単位を１〜５００個含む２価のパーフルオロポリエーテル残基であり、好ましくは下記式（７）〜（９）で表されるパーフルオロポリエーテル残基である。

式（７）中、Ｙはそれぞれ独立にＦ又はＣＦ₃基、Ａは２〜６の整数、好ましくは１〜３の整数、Ｂ、Ｃはそれぞれ０又は１〜２００の整数、好ましくは２〜１００の整数、但しＢ＋Ｃは２〜２００、好ましくは４〜１００である。Ｄは０又は１〜６の整数、好ましくは１〜４の整数であり、各繰り返し単位はランダムに結合されていてよい。

式中、Ｅは１〜３の整数、Ｇは１〜２００の整数、好ましくは１〜１００の整数である。

式中、ＹはＦ又はＣＦ₃基、Ｅは１〜３の整数、Ｈ、Ｊはそれぞれ０又は１〜２００の整数、好ましくは１〜１００の整数、但し、Ｈ＋Ｊは２〜２００、好ましくは４〜１００である。各繰り返し単位はランダムに結合されていてよい。

式（２）において、Ｘ¹はそれぞれ独立に、下記式（３）で表わされる基である。

式（３）において、ａ及びｃはそれぞれ０又は１〜３の整数、ｂは１〜４の整数、好ましくは２又は３であり、但しａ＋ｂ＋ｃは２、３、４のいずれか、好ましくは３又は４であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってもよい。

式（３）において、Ｒ³は独立に、下記式（４）で表される基である。
−（Ｃ₄Ｈ₈Ｏ）_d（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_e（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_f（ＣＨ₂Ｏ）_gＲ⁵ （４）

式（４）中、ｄ、ｅ、ｆ及びｇはＲ³の分子量が４５〜６００、好ましくは６０〜３００となる範囲において、それぞれ独立に０又は１〜２０の整数、好ましくは１〜１０の整数であり、ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇは１〜２０であることが好ましく、２〜１５であることがより好ましい。なお、式（４）中のプロピレン基、ブチレン基は分岐していてもよく、各繰り返し単位の配列はランダムであってもよい。

式（４）中、Ｒ⁵は炭素数１〜１０の飽和もしくは不飽和１価炭化水素基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基などが挙げられる。特に好ましくはメチル基、エチル基である。

このようなＲ³としては、下記式で示される基が好ましい。
−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_f'（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_e'ＣＨ₃
（式中、ｆ’、ｅ’は０又は１〜２０の整数であり、ｆ’＋ｅ’は１〜４０であり、式中のプロピレン基は分岐していてもよく、各繰り返し単位はランダムに結合されていてもよい。）

Ｒ⁴は下記式（５）で表される、少なくとも一つの、アクリル基又はα置換アクリル基のいずれかを有する、好ましくは炭素数１〜２１の１価の有機基である。

式（５）中、Ｒ⁶は、独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基のいずれかであり、特に好ましくは水素原子、メチル基である。Ｒ⁷は炭素数１〜１８、好ましくは炭素数２〜１０の、２価もしくは３価の連結基であり、エーテル結合性酸素原子やエステル構造を含んでいてもよく、好ましくは下記に示すものが挙げられる。

また、ｕは１又は２である。

式（５）で表される基として、好ましくは下記式で示される基であり、特に好ましくはＲ⁷としてエチレン基を含む基である。

式（３）において、Ｑ¹及びＱ²は、互いに独立に、炭素数３〜２０のエーテル結合、エステル結合、アミド結合もしくはウレタン結合を含んでいてもよい２価の連結基であり、途中、環状構造や分岐構造を含んでいてもよく、同一でも異なっていてもよい。Ｑ¹及びＱ²としては、下記式で表わされる基が好ましい。

式（２）において、Ｘ²は独立に、下記式（６）で表わされる２価の基である。

式（６）中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｑ¹、Ｑ²は上記と同じであり、ｈ、ｋはそれぞれ０又は１〜３の整数であり、ｊは１〜３の整数であり、かつｈ＋ｊ＋ｋは１、２、３のいずれかの値であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってよい。

式（２）において、Ｚはそれぞれ独立に、酸素原子、窒素原子、ジオルガノシリレン基等のケイ素原子を含んでいてもよい２価の有機基であり、また、Ｚは環状構造、不飽和結合を有する基であってもよく、アクリル基の重合を阻害するようなものでなければ、構造は特に制限されない。Ｚの例としては、下記式に示す基が挙げられる。

中でも、下記式で示される基が好ましい。

ｖは０又は１〜５の整数であり、好ましくは０、１又は２であり、更に好ましくは０又は１である。

上記一般式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル基含有アクリレート化合物として、具体的には、下記に示すものを例示することができる。

（式中、Ｒｆ’は上記と同じである。）

本発明の（Ｃ）成分は、有機溶剤に均一に溶解した溶液として調製することができる。この場合、均一溶液が得られる範囲であれば溶液中のパーフルオロポリエーテル基含有アクリレート化合物の濃度は特に制限されないが、通常は、１〜５０質量％、好ましくは５〜３０質量％、より好ましくは５〜２０質量％程度であればよい。

パーフルオロポリエーテル基含有アクリレート化合物を溶解する有機溶剤としては、（Ａ）成分のハードコート材料と反応しないものから選ばれ、例えば、ヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、イソドデカンなどの脂肪族炭化水素系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル酢酸エステルなどのエステル系溶剤などが挙げられる。この中でもメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノールなどが好適に用いられる。

（Ｃ）成分であるパーフルオロポリエーテル基含有アクリレート化合物の添加量は、（Ａ）成分であるハードコート材料１００質量部に対して（上記溶液中の固形分で）０．１〜３質量部、好ましくは０．１〜２質量部の割合で添加すると良好な表面特性が得られる。上記下限値未満ではハードコート表面への滲出が困難であり、望ましい特性が得られないおそれがある。また、上記上限値超では樹脂への親和性が損なわれるため、外観の白化や硬度の低下などが生じるおそれがある。

本発明のハードコート組成物は、各成分を均一に分散させるため、更に上記（Ｂ）、（Ｃ）成分を溶解し得る溶剤として例示した溶剤等で適宜希釈することができる。また、レベリング剤、増粘剤等の添加剤を、本発明の目的を損なわない範囲で配合することもできる。

本発明のハードコート組成物は、上述した２種類の防汚性付与剤（（Ｂ）、（Ｃ）成分）をハードコート材料に配合することで、ハードコート表面に防汚性、耐指紋性等を付与することができる。これによって、指紋、皮脂、汗などの人脂、化粧品等が付着しても目立ちにくくなり、汚れが付着した場合であっても拭き取り性に優れたハードコート表面を与える。このため、本発明のハードコート組成物は、人体が触れて人脂、化粧品等により汚される可能性のある物品の表面に施与される、塗装膜もしくは保護膜を形成するために使用される、硬化性組成物として有用である。このような物品としては、例えば、光磁気ディスク、ＣＤ・ＬＤ・ＤＶＤ・ブルーレイディスクなどの光ディスク、ホログラム記録などに代表される光記録媒体；メガネレンズ、プリズム、レンズシート、ペリクル膜、偏光板、光学フィルター、レンチキュラーレンズ、フレネルレンズ、反射防止膜、光ファイバーや光カプラーなどの光学部品・光デバイス；ＣＲＴ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、フィールドエミッシプロジェクションディスプレイ、トナー系ディスプレイ等の各種画面表示機器、特にＰＣ、携帯電話、携帯情報端末、ゲーム機、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、自動現金引出し預け入れ装置、現金自動支払機、自動販売機、自動車用等のナビゲーション装置、セキュリティーシステム端末等の画像表示装置、及びその操作も行うタッチパネル（タッチセンサー、タッチスクリーン）式画像表示入力装置；携帯電話、携帯情報端末、携帯音楽プレイヤー、携帯ゲーム機、リモートコントローラ、コントローラ、キーボード等、車載装置用パネルスイッチなどの入力装置；携帯電話、携帯情報端末、カメラ、携帯音楽プレイヤー、携帯ゲーム機などの筐体表面；自動車の外装、ピアノ、高級家具、大理石などの塗装及び表面；美術品展示用保護ガラス、ショーウインドー、ショーケース、広告用カバー、フォトスタンド用のカバー、腕時計、自動車用フロントガラス、列車、航空機等の窓ガラス、自動車ヘッドライト、テールランプなどの透明なガラス製又は透明なプラスチック製（アクリル、ポリカーボネートなど）部材、各種ミラー部材等が挙げられる。

本発明のハードコート組成物を、上記物品の外面に塗布し、紫外線硬化することによってハードコート塗膜（硬化膜）が形成される。
塗布方法としては、スピンコート、ディップ塗工、刷毛塗り等が例示される。
なお、紫外線硬化条件としては、波長１００〜４００ｎｍ、好ましくは２００〜４００ｎｍ程度の紫外線を、照射量２００〜２，０００ｍＪ／ｃｍ²、好ましくは４００〜１，６００ｍＪ／ｃｍ²程度照射することによって硬化することができる。

なお、ハードコート硬化膜の厚さは、通常、０．１〜３０μｍ、好ましくは１〜１０μｍ程度であればよい。

以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［実施例１〜４、比較例１］
防汚性付与剤の調製
１０ｍｌガラス製サンプル瓶に、下記防汚添加剤（Ｂ）、（Ｃ）成分のいずれか２．０ｇとメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）８．０ｇを秤量し、密栓して、３０分間振盪した。該防汚添加剤が完全に溶解したことを確認し、孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）製メンブレンフィルターでろ過して、（Ｂ）成分又は（Ｃ）成分を防汚性付与成分として２０質量％含有する防汚性付与剤をそれぞれ調製した。

（Ｂ）成分の防汚添加剤
Ｂ−１

Ｂ−２

Ｂ−３

（Ｃ）成分の防汚添加剤
Ｃ−１

Ｒｆ’：−ＣＦ₂（ＯＣＦ₂ＣＦ₂）_G1（ＯＣＦ₂）_H1ＯＣＦ₂−
（Ｇ１／Ｈ１＝０．９、Ｇ１＋Ｈ１≒４５）

Ｃ−２

ハードコート組成物の調製
下記表１に示すような配合でハードコート組成物を調製した。

ＥＢＥＣＲＹＬ４０：４官能アクリレート、ダイセルサイテック社製
イルガキュアー１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ・ジャパン社製

ハードコート塗工材料の調製
防汚性付与剤を配合した各溶液（ハードコート組成物）を、黒色のポリメチルメタクリレート板（５×５×０．２ｃｍ）上にスピンコートし、コンベア型紫外線照射装置（パナソニック電工社製）で、窒素雰囲気中１．６Ｊ／ｃｍ²の紫外線を照射して硬化膜を形成した。硬化後のハードコート膜の膜厚は７μｍであった。このハードコート膜を塗工した材料をテストピースとし、以下の試験に供した。

１．外観試験
ハードコート膜の外観（色調・透明性、平滑性）を目視にて評価した。結果を表２に記載した。

２．接触角測定試験
ハードコート膜表面の水及びオレイン酸に対する接触角を、接触角計（協和界面科学社製）を用いて測定した。結果を表２に記載した。

３．耐指紋性試験
以下の方法で耐指紋性試験（指紋視認性、指紋拭き取り性）を行った。試験は５名のパネラーによって行った。評価結果は、５名の評価値で最も多かった評価値を評価結果とした。２つ以上の評価値が同数であった場合は、５名の協議により評価値を決定した。結果を表２に記載した。

・指紋視認性
ハードコート膜表面に人差し指を押し付けて３秒間保持した後静かに指を離した。付着した指紋の視認性を、三波長発光形蛍光灯下で塗膜の真上から目視観察し、以下の４段階で評価した。
◎…指紋を認識することができなかった。
○…ほとんど指紋を認識できなかった。
△…若干指紋を認識することができた。
×…はっきりと指紋を認識することができた。

・指紋拭き取り性
ハードコート膜表面に付着した指紋を不織布（ベンコットＭ−３ＩＩ［旭化成せんい社製］）で一方向に往復して指紋を拭き取った。拭き取り後の状態を三波長発光形蛍光灯下で塗膜の斜め４５°上から目視観察し、指紋が目視できなくなるまでの往復回数を以下の３段階で評価した。
◎…３往復未満で指紋を拭き取ることができた。
○…３往復以上５往復未満で指紋を拭き取ることができた。
×…５往復以上拭いても指紋を拭き取ることができなかった。

［実施例５、６、比較例２〜４］
前記実施例１と同様にして、下記表３の配合でハードコート組成物を調製した。

前記実施例１と同様にして、ハードコート塗工材料を調製し、同様に特性を測定したところ、下記表４の結果となった。

以下に、Ｂ−１〜Ｂ−３成分の合成例を示す。
［合成例１］
Ｂ−１成分の調製
還流冷却管と温度計を取り付けたフラスコに、下記式（Ｉ）

で示される含フッ素ヒドロシロキサン４３．１ｇ（０．０５０モル）、トルエン２１．１ｇ、白金／ビニルシロキサン錯体トルエン溶液０．０４ｇ（白金として０．２ｍｇ含有）を仕込んだ。内温を６０℃まで加熱した後、滴下漏斗より１−ヘキサデセン４４．９ｇ（０．２０モル）を内温が７０℃以上にならないように滴下スピードを調整して、滴下した。６０〜７０℃で１時間加熱した後、４−ペンテノール１７．２ｇ（０．２０モル）を内温が７０℃以上にならないように滴下スピードを調整して、滴下した。ＩＲスペクトルの測定で含フッ素ヒドロシロキサン（Ｉ）のＳｉＨ基由来の吸収が消失していることを確認した後、減圧下でヘキサフルオロメタキシレンと過剰のシクロテトラシロキサンを留去して、下記式（ＩＩ）

で示される含フッ素シロキサン９３．８ｇを得た。

次に、還流冷却管と温度計を取り付けたフラスコに、上記で得られた含フッ素シロキサン（ＩＩ）４４．８ｇ（０．０３０モル）とアクリロキシエチルイソシアネート８．９ｇ（０．０６３モル）及びメチルイソブチルケトン５３．７ｇを仕込んだ。内温を５０℃まで加熱した後、ジブチル錫ジラウレート０．０２ｇを添加し、５０〜６０℃で２時間反応させた。反応後、エタノール０．９０ｇを添加し、ＩＲスペクトルの測定でＮＣＯの吸収が消失したことを確認してから、２５℃で溶剤を留去したところ透明なベースト状の生成物を４９．９ｇ得た。

上記で得られた生成物を、¹Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲスペクトルの測定により分析した結果、下記式

で示される含フッ素アクリレート化合物であった。

［合成例２］
Ｂ−２成分の調製
還流冷却管と温度計を取り付けたフラスコに、上記式（Ｉ）で示される含フッ素ヒドロシロキサン４３．１ｇ（０．０５０モル）、トルエン１８．８ｇ、白金／ビニルシロキサン錯体トルエン溶液０．０４ｇ（白金として０．２ｍｇ含有）を仕込んだ。内温を６０℃まで加熱した後、滴下漏斗より１−ドデセン３３．６ｇ（０．２０モル）を内温が７０℃以上にならないように滴下スピードを調整して、滴下した。６０〜７０℃で１時間加熱した後、４−ペンテノール１７．２ｇ（０．２０モル）を内温が７０℃以上にならないように滴下スピードを調整して、滴下した。ＩＲスペクトルの測定で含フッ素ヒドロシロキサン（Ｉ）のＳｉＨ基由来の吸収が消失していることを確認した後、減圧下でヘキサフルオロメタキシレンと過剰のシクロテトラシロキサンを留去して、下記式（ＩＩＩ）

で示される含フッ素シロキサン８０．４ｇを得た。

次に、還流冷却管と温度計を取り付けたフラスコに、上記で得られた含フッ素シロキサン（ＩＩＩ）３１．４ｇ（０．０３０モル）とアクリロキシエチルイソシアネート８．９ｇ（０．０６３モル）及びメチルイソブチルケトン４０．３ｇを仕込んだ。内温を５０℃まで加熱した後、ジブチル錫ジラウレート０．０２ｇを添加し、５０〜６０℃で２時間反応させた。反応後、エタノール１．５５ｇを添加し、ＩＲスペクトルの測定でＮＣＯの吸収が消失したことを確認してから、２５℃で溶剤を留去したところ透明なベースト状の生成物を３６．４ｇ得た。

で示される含フッ素アクリレート化合物であった。

［合成例３］
Ｂ−３成分の調製
還流冷却管と温度計を取り付けたフラスコに、上記式（Ｉ）で示される含フッ素ヒドロシロキサン４３．１ｇ（０．０５０モル）、トルエン２０．６ｇ、白金／ビニルシロキサン錯体トルエン溶液０．０４ｇ（白金として０．２ｍｇ含有）を仕込んだ。内温を６０℃まで加熱した後、滴下漏斗より１０−ウンデセン酸エチル４２．５ｇ（０．２０モル）を内温が７０℃以上にならないように滴下スピードを調整して、滴下した。６０〜７０℃で１時間加熱した後、４−ペンテノール１７．２ｇ（０．２０モル）を内温が７０℃以上にならないように滴下スピードを調整して、滴下した。ＩＲスペクトルの測定で含フッ素ヒドロシロキサン（Ｉ）のＳｉＨ基由来の吸収が消失していることを確認した後、減圧下でヘキサフルオロメタキシレンと過剰のシクロテトラシロキサンを留去して、下記式（ＩＶ）

で示される含フッ素シロキサン９３．４ｇを得た。

次に、還流冷却管と温度計を取り付けたフラスコに、上記で得られた含フッ素シロキサン（ＩＶ）３０．９ｇ（０．０３０モル）とアクリロキシエチルイソシアネート８．９ｇ（０．０６３モル）及びメチルイソブチルケトン３９．８ｇを仕込んだ。内温を５０℃まで加熱した後、ジブチル錫ジラウレート０．０２ｇを添加し、５０〜６０℃で２時間反応させた。反応後、エタノール１．５８ｇを添加し、ＩＲスペクトルの測定でＮＣＯの吸収が消失したことを確認してから、２５℃で溶剤を留去したところ透明なベースト状の生成物を３４．２ｇ得た。

で示される含フッ素アクリレート化合物であった。

Claims

（Ａ）ハードコート材料、
（Ｂ）下記一般式（１）で表される含フッ素アクリレート化合物、

［式中、Ｒｆは炭素数２〜１６のフルオロアルキレン基であり、Ｑは独立に単結合又は炭素数１〜１２の２価の有機基であり、Ｒは独立に酸素原子を含んでもよい炭素数６〜２０のアルキル基、又は炭素数７〜２０のアラルキル基であり、Ｒ¹は互いに独立に炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基であり、Ｒ²は水素原子又はメチル基であり、Ｘは下記一般式

（式中、Ｒ¹²は炭素数１〜１２の２価炭化水素基である。）
で示される基であり、ｍは２〜８の整数であり、ｎは独立に１又は２である。］
（Ｃ）下記一般式（２）で表わされるパーフルオロポリエーテル基を有するアクリレート化合物
Ｘ¹−［Ｚ−Ｒｆ’−Ｚ−Ｘ²］_v−Ｚ−Ｒｆ’−Ｚ−Ｘ¹ （２）
［式中、Ｒｆ’は独立に２価の分子量５００〜３０，０００のパーフルオロポリエーテル基であり、途中分岐を含んでいてもよく、Ｘ¹は互いに独立に、下記式（３）

〔式（３）中、ａ及びｃはそれぞれ０又は１〜３の整数、ｂは１〜４の整数、但しａ＋ｂ＋ｃは２、３又は４であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってよい。Ｒ³は独立に、下記式（４）
−（Ｃ₄Ｈ₈Ｏ）_d（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_e（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_f（ＣＨ₂Ｏ）_gＲ⁵ （４）
（式（４）中、ｄ、ｅ、ｆ、ｇはＲ³の分子量が４５〜６００となる範囲において、互いに独立に０又は１〜２０の整数であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってよく、Ｒ⁵は炭素数１〜１０の飽和もしくは不飽和１価炭化水素基である。）
で表される基であり、Ｒ⁴は下記式（５）

（式（５）中、Ｒ⁶は、独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基であり、Ｒ⁷は炭素数１〜１８のエーテル結合又はエステル結合を含んでいてもよい２価もしくは３価の連結基であり、ｕは１又は２である。）
で表されるアクリル基もしくはα置換アクリル基含有基であり、Ｑ¹及びＱ²は、互いに独立に、炭素数３〜２０のエーテル結合、エステル結合、アミド結合もしくはウレタン結合を含んでいてもよい２価の連結基であり、途中環状構造や分岐構造を含んでいてもよく、それぞれ同一でも異なっていてもよい。〕
で表わされる基であり、Ｘ²は独立に、下記式（６）

（式（６）中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｑ¹、Ｑ²は上記の通りであり、ｈ、ｋはそれぞれ０又は１〜３の整数であり、ｊは１〜３の整数であり、かつｈ＋ｊ＋ｋは１〜３のいずれかの値であり、各繰り返し単位の配列はランダムであってよい。）
で表わされる２価の基であり、Ｚは互いに独立に、酸素原子、窒素原子、ケイ素原子を含んでいてもよく、また環状構造、不飽和結合を有してもよい２価の有機基であり、ｖは０又は１〜５の整数である。］
を主成分とする防汚性付与ハードコート組成物。
（Ａ）成分のハードコート材料が、紫外線硬化型アクリル系ハードコート材料である請求項１記載の防汚性付与ハードコート組成物。
紫外線硬化型アクリル系ハードコート材料が、（メタ）アクリル系化合物及び光重合開始剤からなるものである請求項２記載の防汚性付与ハードコート組成物。