WO2020250665A1

WO2020250665A1 - 含フッ素硬化性組成物及び物品

Info

Publication number: WO2020250665A1
Application number: PCT/JP2020/020718
Authority: WO
Inventors: 坂野　安則
Original assignee: 信越化学工業株式会社
Priority date: 2019-06-11
Filing date: 2020-05-26
Publication date: 2020-12-17
Also published as: JPWO2020250665A1; TW202111030A; KR20220019723A; EP3985040A1; JP7236625B2; US20220220262A1; US11897989B2; EP3985040A4; CN113950495A

Abstract

フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中の片方の末端にトリフルオロメチル基を有し、他方の末端に２個以上の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる成分（Ａ）、フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中のそれぞれの末端に２個以上の（メタ）アクリル基を有し、１分子中に平均して４～１０個の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる成分（Ｂ）、及びフルオロポリエーテル構造を含まず、１分子中に平均して２個以上の（メタ）アクリル基を有する非フッ素化アクリル化合物からなる成分（Ｃ）を必須成分とし、成分（Ｃ）１００質量部に対して、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の配合量の合計が０．０５～５０質量部であり、かつ成分（Ｂ）１００質量部に対する成分（Ａ）の配合量が１～１００質量部である含フッ素硬化性組成物が、防汚性・撥水性に優れ、低い動摩擦係数を有する硬化被膜を形成し得る。

Description

含フッ素硬化性組成物及び物品

　本発明は、防汚性、滑り性に優れた硬化被膜を与える含フッ素硬化性組成物、及び該組成物の硬化被膜を表面に有する物品に関する。

　従来、樹脂成形体等の表面を保護する手段として、ハードコート処理が広く一般に用いられている。これは成形体の表面に硬質の硬化樹脂層（ハードコート層）を形成し、傷つき難くするものである。ハードコート層を構成する材料としては、熱硬化性樹脂や紫外線もしくは電子線硬化型樹脂など活性エネルギー線による硬化性組成物が多く使用されている。

　一方、樹脂成形品の利用分野の拡大や高付加価値化の流れに伴い、硬化樹脂層（ハードコート層）に対する高機能化の要望が高まっており、その一つとして、ハードコート層への防汚性の付与が求められている。これはハードコート層の表面に撥水性、撥油性などの性質を付与することにより、汚れ難く、あるいは汚れても容易に取り除くことができるようにするものである。

　ハードコート層に防汚性を付与する方法としては、一旦形成されたハードコート層表面に含フッ素防汚剤を塗工及び／又は定着させる方法が広く用いられているが、含フッ素硬化性成分を硬化前の硬化性樹脂組成物に添加し、これを塗布硬化させることでハードコート層の形成と防汚性の付与を同時に行う方法についても検討されてきた。例えば、特開平６－２１１９４５号公報（特許文献１）には、アクリル系の硬化性樹脂組成物にフルオロアルキルアクリレートを添加、硬化させることで防汚性を付与したハードコート層の製造が示されている。

　近年、こうした含フッ素アクリル化合物を配合した防汚性に優れる活性エネルギー線硬化性組成物は、用途が大きく拡大してきており、新たな機能が求められてきている。

　このように大きく用途範囲が広がることでハードコート、特に大型ディスプレイ表面の防汚処理、スマートフォンやタブレットなどの携帯用情報機器のディスプレイや筐体の表面処理においては、撥水性に代表される防汚性能、滑り性に代表される耐摩耗性についてより高い性能が求められてきている。これらの要求に対応する一つの手段はよりフッ素変性の高い成分を表面に配列させることである。しかし、単一構造の含フッ素アクリル化合物でフッ素含有率を増加させると、フッ素化されていないハードコート剤の他成分に対する溶解性が低下し、塗工表面に欠損等の不均一部分による部分塗工不良やゆず肌状の全面塗工不良が発生する。
　なお、本発明に関連する従来技術として、上述した文献と共に下記文献が挙げられる。

特開平６－２１１９４５号公報特開２０１０－５３１１４号公報特開２０１０－１３８１１２号公報特開２０１０－２８５５０１号公報

　本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、安定した溶解性を有し、硬化後に高い防汚性、及び高い滑り性を有する含フッ素硬化性組成物、並びに該組成物の硬化被膜を表面に有する物品を提供することを目的とする。

　本発明者は、このような硬化性樹脂組成物に防汚性を付与できるフッ素化合物として、様々な開発を進めており、例えば、特開２０１０－５３１１４号公報（特許文献２）、特開２０１０－１３８１１２号公報（特許文献３）、特開２０１０－２８５５０１号公報（特許文献４）に示す光硬化可能なフッ素化合物を提案している。これらの防汚特性、滑り性を向上させるには化合物中のフッ素成分の含有率を増加させる方法が考えられる。しかし、上述したように単一構造の含フッ素アクリル化合物で非フッ素化成分への溶解性を向上させた場合、塗工表面へのフッ素成分の濃縮が起きにくくなり、結果として防汚性能が発現しにくくなってしまう場合がある。
　そこで、本発明者は、更なる検討を重ねた結果、フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中の片方の末端にトリフルオロメチル基を有し、他方の末端に２個以上の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる成分（Ａ）、フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中のそれぞれの末端に２個以上の（メタ）アクリル基を有し、１分子中に平均して４～１０個の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる成分（Ｂ）、及びフルオロポリエーテル構造を含まず、１分子中に平均して２個以上の（メタ）アクリル基を有する非フッ素化アクリル化合物からなる成分（Ｃ）を必須成分とし、成分（Ｃ）１００質量部に対して、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の配合量の合計が０．０５～５０質量部であり、かつ成分（Ｂ）１００質量部に対する成分（Ａ）の配合量が１～１００質量部である含フッ素硬化性組成物が、防汚性・撥水性に優れ、低い動摩擦係数を有する硬化被膜を形成し得ることを見出し、本発明をなすに至った。

　従って、本発明は、下記の含フッ素硬化性組成物及び該組成物の硬化被膜を表面に有する物品を提供する。
［１］
　フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中の片方の末端にトリフルオロメチル基を有し、他方の末端に２個以上の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる成分（Ａ）、フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中のそれぞれの末端に２個以上の（メタ）アクリル基を有し、１分子中に平均して４～１０個の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる成分（Ｂ）、及びフルオロポリエーテル構造を含まず、１分子中に平均して２個以上の（メタ）アクリル基を有する非フッ素化アクリル化合物からなる成分（Ｃ）を必須成分とし、成分（Ｃ）１００質量部に対して、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の配合量の合計が０．０５～５０質量部であり、かつ成分（Ｂ）１００質量部に対する成分（Ａ）の配合量が１～１００質量部である含フッ素硬化性組成物。
［２］
　更に、光重合開始剤（Ｄ）を含有する［１］に記載の含フッ素硬化性組成物。
［３］
　成分（Ａ）が、下記一般式（１）で表される含フッ素アクリル化合物である［１］又は［２］に記載の含フッ素硬化性組成物。
　　Ｒｆ^A－Ｚ¹－Ｑ¹［Ｘ¹］_a　　　（１）
（式中、Ｒｆ^AはＺ¹と結合しない側の末端がトリフルオロメチル基である１価のパーフルオロポリエーテル基である。Ｚ¹は酸素原子、窒素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも１種のヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～２０の２価の炭化水素基からなる連結基であり、途中環状構造を含んでいてもよく、炭素原子に結合した水素原子の一部がフッ素原子に置換されていてもよい。Ｑ¹は少なくとも（ａ＋１）個のケイ素原子を含む（ａ＋１）価の連結基であり、環状構造をなしていてもよい。ａは２～５の整数である。Ｘ¹は独立に酸素原子、窒素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも１種のヘテロ原子を含んでいてもよい（メタ）アクリル基を有する１価の有機基である。）
［４］
　成分（Ｂ）が、下記一般式（２）で表される含フッ素アクリル化合物である［１］～［３］のいずれかに記載の含フッ素硬化性組成物。

（式中、Ｒｆ^Bは２価のパーフルオロポリエーテル基である。Ｚ¹は独立に酸素原子、窒素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも１種のヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～２０の２価の炭化水素基からなる連結基であり、途中環状構造を含んでいてもよく、炭素原子に結合した水素原子の一部がフッ素原子に置換されていてもよい。Ｑ¹は独立に少なくとも（ａ＋１）個のケイ素原子を含む（ａ＋１）価の連結基であり、環状構造をなしていてもよい。ａは２～５の整数である。Ｚ²はそれぞれ独立に酸素原子及び／又は窒素原子を含んでいてもよい炭素数１～１００の２価の炭化水素基であり、途中環状構造を含んでいてもよい。Ｒ¹は独立に水素原子又は炭素数１～８の１価の炭化水素基である。Ｒ²は独立に水素原子、又は酸素原子及び／もしくは窒素原子を含んでいてもよい（メタ）アクリル基を有する１価の有機基であり、但し、Ｒ²は１分子中のそれぞれの末端に２個以上、かつ１分子中に平均して４～１０個の前記１価の有機基を有する。）
［５］
　成分（Ａ）において、一般式（１）のＸ¹が、下記のいずれかで示されるものである［３］又は［４］に記載の含フッ素硬化性組成物。
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ（ＣＨ₃）［ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ（ＣＨ₃）［ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ［ＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₃
－ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ［ＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂］₃

［６］
　成分（Ａ）において、一般式（１）のＱ¹が、下記のいずれかで示されるものである［３］～［５］のいずれかに記載の含フッ素硬化性組成物。

（式中、ａは２～５の整数であり、ｂは１～５の整数である。）
［７］
　成分（Ａ）において、一般式（１）で表される含フッ素アクリル化合物が、下記式で表される化合物から選ばれるものである［３］～［６］のいずれかに記載の含フッ素硬化性組成物。

（式中、Ｒｆ^Aは上記と同じである。）
［８］
　成分（Ｂ）において、一般式（２）のＺ¹が、下記式のいずれかで表されるものである［４］～［７］のいずれかに記載の含フッ素硬化性組成物。
－ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
［９］
　成分（Ｂ）において、一般式（２）のＱ¹が、下記式で表されるものである［４］～［８］のいずれかに記載の含フッ素硬化性組成物。

（式中、ａ１は２又は３である。）
［１０］
　成分（Ｂ）において、一般式（２）で表される含フッ素アクリル化合物が、下記一般式（３）又は（４）で表される含フッ素アクリル化合物である［４］～［９］のいずれかに記載の含フッ素硬化性組成物。

（式中、Ｚ¹、Ｑ¹、ａは上記の通りであり、Ｒｆ^B’は－ＣＦ₂Ｏ（ＣＦ₂Ｏ）_m（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_nＣＦ₂－であり、ｍは１～２００の整数、ｎは１～１７０の整数、ｍ＋ｎは６～２０１の整数であり、－（ＣＦ₂Ｏ）－と－（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）－の配列はランダムであり、Ｒ³は水素原子又はメチル基であり、ｄ１、ｅ１は０～１０の整数である。）
［１１］
　成分（Ｃ）の非フッ素化アクリル化合物が、１分子中に２個以上の（メタ）アクリル基を有しウレタン結合を有さない多官能アクリル化合物、又はこの多官能アクリル化合物と脂肪族ポリイソシアネートと水酸基を有するアクリル化合物とを反応させて得られた１分子中に３個以上の（メタ）アクリル基を有する多官能ウレタン（メタ）アクリレート類、又は前記多官能アクリル化合物と多官能ウレタン（メタ）アクリレート類とを含む２種類以上のアクリル化合物の混合物である［１］～［１０］のいずれかに記載の含フッ素硬化性組成物。
［１２］
　［１］～［１１］のいずれかに記載の含フッ素硬化性組成物の硬化被膜を表面に有する物品。

　本発明の含フッ素硬化性組成物は、塗工時には安定した溶解性を有し、高い防汚性、汚れ拭き取り性、滑り性を有する硬化表面を与えることができる。

　本発明の含フッ素硬化性組成物は、フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中の片方の末端にトリフルオロメチル基を有し、他方の末端に２個以上の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる成分（Ａ）、フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中のそれぞれの末端に２個以上の（メタ）アクリル基を有し、１分子中に平均して４～１０個の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる成分（Ｂ）、及びフルオロポリエーテル構造を含まず、１分子中に平均して２個以上の（メタ）アクリル基を有する非フッ素化アクリル化合物からなる成分（Ｃ）からなり、上記成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を必須成分とする。

　本発明において、「アクリル化合物」とは、アクリル基、メタクリル基を有する化合物の総称であり、また、「（メタ）アクリル基」とは、アクリル基とメタクリル基の一方又は両方を示し、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸の一方又は両方を示し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートとメタクリレートの一方又は両方を示す。

　なお、本発明において、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の各成分はそれぞれ単一の化合物である必要はなく、例えば配合における質量を考える場合は成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）のそれぞれの条件に一致する複数の化合物の混合物の配合量の合計をそれぞれ各成分量として考えればよい。

〔成分（Ａ）〕
　本発明の含フッ素硬化性組成物における第一の必須成分である成分（Ａ）は、フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中の片方の末端にトリフルオロメチル基を有し、他方の末端に（即ち、分子鎖の片末端に）２個以上、好ましくは２～１５個、より好ましくは２～９個の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる。

　このような化合物としては、例えば下記一般式（１）で表される含フッ素アクリル化合物を示すことができる。
　　Ｒｆ^A－Ｚ¹－Ｑ¹[Ｘ¹]_a　　　（１）

　上記式（１）中、Ｒｆ^AはＺ¹と結合しない側の末端がトリフルオロメチル基である１価のパーフルオロポリエーテル基であり、Ｒｆ¹－Ｏ－Ｒｆ²－ＣＦ₂－で示すことができる。

　ここで、Ｒｆ¹は酸素原子と結合しない側の末端がトリフルオロメチル基である酸素原子を含んでいてもよい炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基であり、ＣＦ₃－Ｚ^f－（Ｚ^fは単結合、又は酸素原子を含んでいてもよい炭素数１～１０のパーフルオロアルキレン基である）で示される基であることが好ましい。Ｒｆ¹として、具体的には、
ＣＦ₃－
ＣＦ₃ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＣＦ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＯＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＦ₂ＯＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂－
（ＣＦ₃）₂ＣＦＯＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＣＦ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＦ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＦ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂－
（ＣＦ₃）₂ＣＦＣＦ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂－
ＣＦ₃ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＯＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂－
が挙げられ、これらの中でも特にＣＦ₃－が好ましい。

　また、Ｒｆ²は以下の４種の繰り返し単位
－ＣＦ₂Ｏ－
－ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ－
－ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ－
－ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ－
のうち、１種又は複数種がランダムに配列した分子量６００～２０，０００、好ましくは１，２００～１０，０００の２価のパーフルオロポリエーテル基であり、該分子量は、¹Ｈ－ＮＭＲ及び¹⁹Ｆ－ＮＭＲに基づく末端構造と主鎖構造との比率から算出される数平均分子量である。Ｒｆ²の好ましいものとしては、例えば以下のようなものを示すことができる。なお、下記の構造において、左側の結合手はＯと、右側の結合手はＣＦ₂と結合する。
－（ＣＦ₂Ｏ）_m（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_n－

　各繰り返しユニットの配列はランダムであり、ｍは１～２００の整数、好ましくは６～５０の整数であり、ｎは１～１７０の整数、好ましくは６～５０の整数であり、ｍ＋ｎは６～２０１の整数、好ましくは１２～１００の整数である、ｍ、ｎ及びｍ＋ｎの値はこれより小さいと硬化被膜に防汚性を付与する効果が小さくなり、これよりも大きいと非フッ素化成分との相溶性が悪くなり、塗工液の濁りや塗工不良の原因となる。これらｍ及びｎの値は分布を持っていてもよく、分布を持つ場合は¹⁹Ｆ－ＮＭＲ等から求められるｍ＋ｎの値が数平均で上記範囲を満たすことが好ましい。

　上記式（１）中、Ｚ¹は酸素原子、窒素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも１種のヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～２０の２価の炭化水素基からなる連結基であり、途中環状構造を含んでいてもよく、炭素原子に結合した水素原子の一部がフッ素原子に置換されていてもよい。このようなＺ¹として、好適な構造としては、以下に示す構造群が挙げられる。なお、下記の構造において、左側の結合手はＲｆ^Aと、右側の結合手はＱ¹と結合する。
－ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－

　これらの中でも特に
－ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－

が好ましい。

　上記式（１）中、ａは独立に２～５の整数であり、好ましくは２～４の整数であり、より好ましくは２又は３である。ａが２未満では成分（Ｃ）に対する溶解性が低下し、塗工液の不均一化や塗膜の欠損を引き起こす場合があり、５より大きいと（Ｂ）成分との相溶性が高くなりすぎて、（Ｂ）成分を単独で配合し（Ａ）成分を配合しない場合に比較して表面特性の優位性が得られない場合がある。

　上記式（１）中、Ｑ¹は少なくとも（ａ＋１）個のケイ素原子を含む（ａ＋１）価の連結基であり、環状構造をなしていてもよい。このようなＱ¹の好ましいものとして、それぞれ少なくとも（ａ＋１）個のＳｉ原子を有するシロキサン構造、非置換又はハロゲン置換のシルアルキレン構造、シルアリーレン構造又はこれらの２種以上の組み合わせからなる（ａ＋１）価の連結基が挙げられる。このとき、（ａ＋１）個の結合手は（ａ＋１）個のＳｉ原子をそれぞれ有することが好ましい。特に好ましい構造として、具体的には、下記の構造が示される。
　但し、下記の構造において、ａは上記式（１）のａと同じである。また、ｂは１～５の整数であり、好ましくは１～３の整数である。各ユニットの並びはランダムであり、（ａ＋１）個の各ユニット等の結合手は、Ｚ¹及び［　］で括られたａ個のＸ¹のいずれかの基と結合する。

　ここで、Ｔは（ａ＋１）価の連結基であり、例えば以下のものが例示される。

　これらの中でも特に以下のものが好ましい。

（式中、ａ２は２～４の整数である。）

　上記式（１）中、Ｘ¹は独立に酸素原子、窒素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも１種のヘテロ原子を含んでいてもよい（メタ）アクリル基を、好ましくは１～３個有する１価の有機基である。

　Ｘ¹としては、酸素原子、窒素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも１種のヘテロ原子を含んでいてもよい（メタ）アクリル基を有するものであれば特に限定されるものではないが、下記式で表されるものが特に好ましい。

（式中、Ｒ⁴は水素原子又はメチル基であり、Ｚ³は酸素原子及び／又は窒素原子を含んでいてもよい炭素数１～２０の２価の炭化水素基であり、途中環状構造を含んでいてもよい。Ｒ⁵は酸素原子及び／又は窒素原子を含んでいてもよい（メタ）アクリル基を有する１価の有機基である。Ｚ⁴は炭素数１～６の２価の炭化水素基であり、ｄは０又は１である。Ｒ⁶はそれぞれ独立にジオルガノシリレン基と（メタ）アクリル基を有する１価の有機基であり、Ｒ⁷は炭素数１～６の１価の炭化水素基であり、ｃは０又は１である。）

　ここで、Ｒ⁴は水素原子又はメチル基であり、水素原子であることが好ましい。

　Ｚ³は酸素原子及び／又は窒素原子を含んでいてもよい炭素数１～２０、好ましくは１～１０の２価の炭化水素基であり、途中環状構造を含んでいてもよい。Ｚ³の好ましい構造としては、以下のものを挙げることができる。なお、下記の構造において、左側の結合手はＣＨＲ⁴と、右側の結合手はＯＲ⁵と結合する。
－ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂－

　Ｒ⁵は酸素原子及び／又は窒素原子を含んでいてもよい（メタ）アクリル基を有する１価の有機基である。１価の有機基としては、末端に少なくとも１個、好ましくは１又は２個の（メタ）アクリル基を有する基が好ましい。また、構造途中にアミド結合、エーテル結合、エステル結合などを有していてもよい。このような構造として、例えば、以下のものを挙げることができる。
－Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ（ＣＨ₃）［ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₂
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ（ＣＨ₃）［ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₂
　これらの中でも特に好適なのは、以下のものである。
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂

　Ｚ⁴は炭素数１～６、好ましくは１～４の２価の炭化水素基であり、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ヘキサメチレン基等のアルキレン基、フェニレン基などが挙げられる。
　ｄは０又は１であり、好ましくは０である。

　Ｒ⁶はそれぞれ独立にジメチルシリレン基等のジオルガノシリレン基と（メタ）アクリル基を有する１価の有機基である。Ｒ⁶としては、下記に示すものが例示できる。
－Ｓｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－Ｓｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－Ｓｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－Ｓｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－Ｓｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－Ｓｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
　中でも、特に
－Ｓｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－Ｓｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
が好ましい。

　Ｒ⁷は炭素数１～６、好ましくは１～４の１価の炭化水素基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基、フェニル基などが挙げられる。Ｒ⁷としては、メチル基が好ましい。
　ｃは０又は１であり、好ましくは０である。

　Ｘ¹の好ましい構造として、具体的には、下記の構造が例示される。
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ（ＣＨ₃）［ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ（ＣＨ₃）［ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ［ＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₃
－ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ［ＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂］₃

　特に好ましくは
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ（ＣＨ₃）［ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ［ＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₃

である。

　このような成分（Ａ）として、更に具体的には、以下の構造群で示される化合物を挙げることができる。

（式中、Ｒｆ^Aは上記と同じであり、好ましくはＣＦ₃Ｏ－（ＣＦ₂Ｏ）_m（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_n－ＣＦ₂－であり、ｍ、ｎ及びｍ＋ｎは前記の通りである。）

　上記成分（Ａ）である下記一般式（１）
　　Ｒｆ^A－Ｚ¹－Ｑ¹［Ｘ¹］_a　　　（１）
（式中、Ｒｆ^A、Ｚ¹、Ｑ¹、Ｘ¹、ａは上記と同じである。）
で表される含フッ素アクリル化合物の好適な合成方法としては、例えば、下記一般式（５）
　　Ｒｆ^A－Ｚ¹－Ｑ¹［Ｈ］_a　　　（５）
（式中、Ｒｆ^A、Ｚ¹、Ｑ¹、ａは上記と同じであり、［　］で括られたａ個のＨはすべてＱ¹構造中のケイ素原子と結合している。）
で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物に、下記一般式（６）
　　ＣＨ₂＝ＣＲ⁴－Ｚ³－ＯＨ　　　（６）
（式中、Ｒ⁴、Ｚ³は上記と同じである。）
で表される末端不飽和基含有アルコールをヒドロシリル化反応させることにより、中間体である含フッ素アルコール化合物を得ることができる。

　ここで、上記式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物としては、例えば、下記に示すものが例示できる。

（式中、Ｒｆ^Aは上記と同じである。）

　また、上記式（６）で表される末端不飽和基含有アルコールとしては、下記に示すものが例示できる。
ＣＨ₂＝ＣＨ－ＣＨ₂－ＯＨ
ＣＨ₂＝ＣＨ－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂－ＯＨ

　このヒドロシリル化（付加）反応は、式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物と、式（６）で表される末端不飽和基含有アルコールを混合し、白金族金属系の付加反応触媒存在下、反応温度５０～１５０℃、好ましくは６０～１２０℃で、１分～４８時間、特に１０分～１２時間反応を行うことが望ましい。反応温度が低すぎると反応が十分に進行しないまま反応が停止してしまう場合があり、高すぎるとヒドロシリル化の反応熱による温度上昇で反応が制御できなくなり、突沸や原料の分解などが起こる場合がある。

　この場合、式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物と、式（６）で表される末端不飽和基含有アルコールとの反応割合は、式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物の［　］で括られたＨの総モル数に対して、式（６）で表される末端不飽和基含有アルコールの末端不飽和基を０．５～５倍モル、特に０．９～２倍モル使用して反応させることが望ましい。式（６）で表される末端不飽和基含有アルコールが、これより少なすぎると高い溶解性を持つ含フッ素アルコール化合物を得ることが困難となる場合があり、これ以上多すぎると反応溶液の均一性が低下して反応速度が不安定となり、また反応後に式（６）で表される末端不飽和基含有アルコールの除去を行う場合に加熱、減圧、抽出等の条件を余剰の未反応のアルコールが増える分だけ厳しくする必要が出てくる。

　付加反応触媒は、例えば、白金、ロジウム又はパラジウム等の白金族金属を含む化合物を使用することができる。中でも白金を含む化合物が好ましく、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸六水和物、白金カルボニルビニルメチル錯体、白金－ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金－シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金－オクチルアルデヒド／オクタノール錯体、あるいは活性炭に担持された白金を用いることができる。
　付加反応触媒の配合量は、式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物に対し、含まれる金属量が０．１～５，０００質量ｐｐｍとなる量であることが好ましく、より好ましくは０．２～１，０００質量ｐｐｍとなる量である。

　上記の付加反応は、溶剤が存在しなくても実施可能であるが、必要に応じて溶剤で希釈してもよい。このとき希釈溶剤は、トルエン、キシレン、イソオクタンなど、広く一般に用いられている有機溶剤を利用することができるが、沸点が目的とする反応温度以上でかつ反応を阻害せず、反応後に生成する含フッ素アルコール化合物が、上記反応温度において可溶であるものが好ましい。このような溶剤としては、例えば、ｍ－キシレンヘキサフロライド、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル等のフッ素変性エーテル系溶剤等の部分フッ素変性された溶剤が望ましく、特にｍ－キシレンヘキサフロライドが好ましい。
　溶剤を使用する場合、その使用量は、式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物１００質量部に対して、好ましくは５～２，０００質量部であり、より好ましくは５０～５００質量部である。これより少なければ溶剤による希釈の効果が少なくなり、多ければ希釈度が高くなりすぎて反応速度の低下を招く場合がある。

　反応終了後、未反応の式（６）で表される末端不飽和基含有アルコールや希釈溶剤を減圧留去、抽出、吸着等の公知の方法で除去することが好ましいが、これらを含んだ反応混合物のまま次の反応に使用することもできる。

　このように一般式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物と一般式（６）で表される末端不飽和基含有アルコールをヒドロシリル化反応させることで、下記一般式（７）で表される含フッ素アルコール化合物を得ることができる。
　　Ｒｆ^A－Ｚ¹－Ｑ¹［ＣＨ₂－ＣＨＲ⁴－Ｚ³－ＯＨ］_a　　　（７）
（式中、Ｒｆ^A、Ｚ¹、Ｑ¹、Ｒ⁴、Ｚ³、ａは上記と同じである。また、それぞれの［　］で括られたａ個のＣＨ₂はすべてＱ¹構造中のケイ素原子と結合している。）

　このような式（７）で表される含フッ素アルコール化合物としては、下記に示すものが例示できる。

（式中、Ｒｆ^Aは上記と同じである。）

　次いで、上記で得られた式（７）で表される含フッ素アルコール化合物に（メタ）アクリル基を導入することにより、目的とする含フッ素アクリル化合物を得ることができる。
　このような式（７）で表される含フッ素アルコール化合物に（メタ）アクリル基を導入する方法として、一つは下記式（８）で表される（メタ）アクリル酸ハライドと反応させてエステルを形成する方法、もう一つは下記式（９ａ）又は（９ｂ）で表される（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物と反応させる方法が挙げられ、これらの方法により、上記式（１）で表される含フッ素アクリル化合物を得ることができる。
　　ＸＣ（＝Ｏ）ＣＲ³＝ＣＨ₂　　　（８）
　　Ｏ＝Ｃ＝Ｎ－ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＲ³＝ＣＨ₂　　　（９ａ）
　　Ｏ＝Ｃ＝Ｎ－Ｃ（ＣＨ₃）［ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＲ³＝ＣＨ₂］₂
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（９ｂ）
（式中、Ｘはハロゲン原子であり、Ｒ³は水素原子又はメチル基である。）

　ここで、式（８）で表される（メタ）アクリル酸ハライドとしては、下記に示すものが挙げられる。
ＸＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
ＸＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
（式中、Ｘは上記と同じである。）
　特にアクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリドが好ましい。

　また、式（９ａ）又は（９ｂ）で表される（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物としては、下記に示すものが挙げられる。
Ｏ＝Ｃ＝Ｎ－ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
Ｏ＝Ｃ＝Ｎ－ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
Ｏ＝Ｃ＝Ｎ－Ｃ（ＣＨ₃）［ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₂

　これらの（メタ）アクリル酸ハライドあるいは（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物は、含フッ素アルコール化合物の水酸基量の合計に対して等モル以上を仕込み反応させ、水酸基をすべて反応させてもよいが、含フッ素アルコール化合物１モルに対して平均して１モル以上の（メタ）アクリル基を導入させればよく、水酸基を過剰とさせることで、未反応の（メタ）アクリル酸ハライドあるいは（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物を残存させないようにしてもよい。具体的には、反応系中の含フッ素アルコール化合物量をｘモル、含フッ素アルコール化合物の水酸基量の合計をｙモルとした場合、（メタ）アクリル酸ハライドあるいは（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物はｘモル以上２ｙモル以下であることが望ましく、特に好ましくは０．６ｙモル以上１．４ｙモル以下である。少なすぎる場合、（メタ）アクリル基が全く導入されない含フッ素アルコール化合物が残存する可能性が高くなり、生成物の溶解性が低くなってしまう可能性がある。多すぎる場合、未反応の（メタ）アクリル酸ハライドあるいは（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物の残存の除去が困難となる。

　これらの反応は、必要に応じて適当な溶剤で希釈して反応を行ってもよい。このような溶剤としては、含フッ素アルコール化合物の水酸基、（メタ）アクリル酸ハライドのハロゲン原子、（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物のイソシアネート基と反応しない溶剤であれば特に制限なく用いることができ、具体的には、トルエン、キシレン、イソオクタンなどの炭化水素系溶剤、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、ｍ－キシレンヘキサフロライド（別名：ヘキサフルオロメタキシレン）、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル等のフッ素変性エーテル系溶剤などが挙げられる。この溶剤は、反応後に減圧留去等の公知の手法で除去してもよく、目的の用途に応じてそのまま希釈溶液として使用してもよい。
　溶剤の使用量は特に限定されないが、反応成分の全合計質量に対して１０倍以下が好ましい。溶媒の使用量が多すぎると、反応速度が大幅に低下する危険がある。

　また、反応の際には、必要に応じて重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては特に制限はないが、通常、アクリル化合物の重合禁止剤として用いられるものを用いることができる。具体的には、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ジブチルヒドロキシトルエン等を挙げることができる。重合禁止剤の使用量は反応条件、反応後の精製条件、最終的な使用条件から決定すればよく、特に制限はされないが、通常、反応成分の全合計質量に対して０．０１～５，０００ｐｐｍ、特に好ましくは０．１～５００ｐｐｍである。

　含フッ素アルコール化合物に（メタ）アクリル酸ハライドを反応させる場合、特にアクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリドを反応させて、エステルを生成することが好ましい。該エステル生成反応は、上記反応中間体（含フッ素アルコール化合物）、受酸剤を混合攪拌しながら（メタ）アクリル酸ハライドを滴下して行う。受酸剤はトリエチルアミン、ピリジン、尿素などが使用できる。受酸剤の使用量は、（メタ）アクリル酸ハライドの仕込みモル数に対して０．９～３倍程度が望ましい。少なすぎるとトラップされない酸が多く残存することになり、多すぎると余剰となる受酸剤の除去が困難になる。

　（メタ）アクリル酸ハライドの滴下は、反応混合物の温度を０～３５℃に維持し、２０～６０分かけて行う。その後、更に３０分～１０時間攪拌を継続する。反応終了後、未反応の（メタ）アクリル酸ハライド、反応により発生した塩及び反応溶媒等を留去、吸着、濾過、洗浄等の方法で除去することで、上記式（１）で表される含フッ素アクリル化合物を得ることができる。

　また、反応停止の際に、メタノール、エタノール等のアルコール化合物を系内に添加し、未反応の（メタ）アクリル酸ハライドをエステル化してもよい。生成した（メタ）アクリル酸エステル類は、未反応の（メタ）アクリル酸ハライド除去と同様の方法で除去できるが、残存させたまま使用することもできる。

　含フッ素アルコール化合物と（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物との反応の場合には、含フッ素アルコール化合物と（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物を必要に応じて溶媒と共に攪拌し、反応を進行させる。

　この反応において、反応の速度を増加するために適切な触媒を加えてもよい。触媒としては、例えば、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクタン酸第１錫などのアルキル錫エステル化合物、テトライソプロポキシチタン、テトラｎ－ブトキシチタン、テトラキス（２－エチルヘキソキシ）チタン［別名：オルトチタン酸テトラキス（２－エチルヘキシル）］、ジプロポキシビス（アセチルアセトナ）チタン、チタニウムイソプロポキシオクチレングリコール等のチタン酸エステル又はチタンキレート化合物、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムキレート化合物等が例示される。これらはその１種に限定されず、２種もしくはそれ以上の混合物として使用できるが、特に反応性の面からチタン化合物や錫化合物の使用が好ましい。これらの触媒を反応物総質量に対して、０．０１～２質量％、好ましくは０．０５～１質量％加えることにより、反応速度を増加させることができる。

　上記反応は０～１２０℃、好ましくは１０～７０℃の温度で、１分～５００時間、好ましくは１０分～４８時間行う。反応温度が低すぎると反応速度が遅くなりすぎる場合があり、反応温度が高すぎると副反応として（メタ）アクリル基の重合が起きてしまう可能性がある。

　反応終了後、未反応のイソシアネート化合物及び反応溶媒等を留去、吸着、濾過、洗浄等の方法で除去することで、上記式（１）で表される含フッ素アクリル化合物を得ることができる。

　また反応停止の際に、メタノール、エタノール等のアルコール化合物を系内に添加し、未反応のイソシアネート化合物とウレタン結合を形成させてもよい。生成したウレタン（メタ）アクリレート類は、未反応のイソシアネート化合物と同様の方法で除去できるが、残存させたまま使用することもできる。

　上記一般式（１）で表される含フッ素アクリル化合物のもう一つの好適な合成方法としては、例えば、上記一般式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物に、下記一般式（１０）
　　ＣＨ₂＝ＣＲ⁴－（Ｚ⁴）_d－ＳｉＲ⁷ _cＭ_3-c　　　（１０）
（式中、Ｒ⁴、Ｚ⁴、Ｒ⁷、ｄ、ｃ、は上記の通りである。Ｍはそれぞれ独立にアルコキシ基又はアルコキシアルコキシ基である。）
で表される末端不飽和基含有反応性シラン化合物をヒドロシリル化反応させることにより、中間体である含フッ素反応性シラン化合物を得ることができる。

　ここで、上記式（１０）中、Ｍはアルコキシ基又はアルコキシアルコキシ基であり、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数１～９のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基等の炭素数２～１０のアルコキシアルコキシ基が例示できる。

　上記式（１０）で表される末端不飽和基含有反応性シラン化合物としては、下記のものが例示できる。
ＣＨ₂＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ₃）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＳｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂
ＣＨ₂＝ＣＨＳｉＣＨ₃（ＯＣ₂Ｈ₅）₂
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ₂Ｈ₅）₂
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ₂Ｈ₅）₂
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ₂Ｈ₅）₂

　中でも特に以下のものが好適である。
ＣＨ₂＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ₃）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃
ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃

　上記式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物と、式（１０）で表される末端不飽和基含有反応性シラン化合物は、これらを混合攪拌し、白金族金属系の付加反応触媒存在下、反応温度５０～１５０℃、好ましくは６０～１２０℃で、１分～７２時間、特に５分～１２時間反応を行うことが望ましい。反応温度が低すぎると反応が十分に進行しないまま反応が停止してしまう場合があり、高すぎるとヒドロシリル化の反応熱による温度上昇で反応が制御できなくなり、突沸や原料の分解などが起こる場合がある。

　この場合、式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物と、式（１０）で表される末端不飽和基含有反応性シラン化合物の仕込み比率は、式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物の［　］で括られたＨの総モル数に対して、式（１０）で表される末端不飽和基含有反応性シラン化合物の不飽和基を０．１～５倍モル、特に０．８～２倍モル使用して反応させることが望ましい。式（１０）で表される末端不飽和基含有反応性シラン化合物が、これより少なすぎると式（５）で表される多官能Ｓｉ－Ｈ基を有するフルオロポリエーテル化合物においてＳｉ－Ｈ基が多く残存してしまい目的とする効果が得られない可能性が出てくる。これ以上多すぎると反応溶液の均一性が低下して反応速度が不安定となり、また反応後に式（１０）で表される末端不飽和基含有反応性シラン化合物の除去を行う場合に加熱、減圧、抽出等の条件を余剰の未反応成分が増える分だけ厳しくする必要が出てくる。

　付加反応触媒は、例えば、白金、ロジウム又はパラジウム等の白金族金属を含む化合物を使用することができる。中でも白金を含む化合物が好ましく、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸六水和物、白金カルボニルビニルメチル錯体、白金－ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金－シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金－オクチルアルデヒド／オクタノール錯体、塩化白金酸とオレフィン、アルデヒド、ビニルシロキサン又はアセチレンアルコール類等との錯体、あるいは活性炭に担持された白金を用いることができる。
　付加反応触媒の配合量は、式（１０）で表される多官能Ｓｉ－Ｈ基を有するフルオロポリエーテル化合物に対し、含まれる金属量が０．１～５，０００質量ｐｐｍとなることが好ましく、より好ましくは０．２～１，０００質量ｐｐｍである。

　上記の付加反応は、溶剤が存在しなくても実施可能であるが、必要に応じて溶剤で希釈してもよい。このとき希釈溶剤は、トルエン、キシレン、イソオクタンなど、広く一般に用いられている有機溶剤を利用することができる。このような有機溶剤としては、沸点が目的とする反応温度以上でかつ反応を阻害せず、反応後に生成する含フッ素反応性シラン化合物が、上記反応温度において可溶であるものが好ましい。例えば、ｍ－キシレンヘキサフロライド、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル等のフッ素変性エーテル系溶剤等の部分フッ素変性された溶剤が望ましく、特にｍ－キシレンヘキサフロライドが好ましい。
　溶剤を使用する場合、その使用量は、式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物１００質量部に対して、好ましくは５～２，０００質量部であり、より好ましくは５０～５００質量部である。これより少なければ溶剤による希釈の効果が薄くなり、多ければ希釈度が高くなりすぎて反応速度の低下を招く場合がある。

　反応終了後、未反応の式（１０）で表される末端不飽和基含有反応性シラン化合物や希釈溶剤を減圧留去、抽出、吸着等の公知の方法で除去することが好ましいが、これらを含んだ反応混合物のまま次の反応に使用することもできる。

　このように一般式（５）で表される末端にａ個のＳｉ－Ｈ基を有する含フッ素化合物と一般式（１０）で表される末端不飽和基含有反応性シラン化合物を反応させることで、下記式（１１）で表される含フッ素反応性シラン化合物を得ることができる。
　　Ｒｆ^A－Ｚ¹－Ｑ¹［ＣＨ₂ＣＨＲ⁴－（Ｚ⁴）_d－ＳｉＲ⁷ _cＭ_3-c］_a　　　（１１）
（式中、Ｒｆ^A、Ｚ¹、Ｑ¹、Ｒ⁴、Ｚ⁴、ｄ、Ｒ⁷、ｃ、Ｍ、ａは上記と同じである。）

　このような式（１１）で表される含フッ素反応性シラン化合物としては、下記に示すものが例示できる。

（式中、Ｒｆ^Aは上記と同じである。）

　次いで、上記で得られた式（１１）で表される含フッ素反応性シラン化合物は、ジオルガノシリレン基及び（メタ）アクリル基含有シラノール化合物と反応させることで、目的とする含フッ素アクリル化合物を得ることができる。

　このようなジオルガノシリレン基及び（メタ）アクリル基含有シラノール化合物として、具体的には、下記のものが例示できる。
ＨＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
ＨＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
ＨＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
ＨＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
ＨＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
ＨＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂

　中でも、特に
ＨＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
ＨＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
が好ましい。

　式（１１）で表される含フッ素反応性シラン化合物と上記ジオルガノシリレン基及び（メタ）アクリル基含有シラノール化合物との反応は、これらを必要に応じて触媒や溶剤と共に攪拌することで行えばよい。反応は０～１２０℃、好ましくは１０～７０℃の温度で、１分～３００時間、好ましくは３０分～７２時間行うことができる。反応温度が低すぎると反応速度が遅くなりすぎる場合があり、反応温度が高すぎると副反応として（メタ）アクリル基の重合や、ジオルガノシリレン基及び（メタ）アクリル基含有シラノール化合物同士の脱水縮合が起きてしまう可能性がある。

　式（１１）で表される含フッ素反応性シラン化合物とジオルガノシリレン基及び（メタ）アクリル基含有シラノール化合物との反応において、ジオルガノシリレン基及び（メタ）アクリル基含有シラノール化合物の量は、反応系中に存在する式（１１）で表される含フッ素反応性シラン化合物に含まれるＭの総モル量に対して、０．９～２倍モル、好ましくは０．９５～１．１倍モルを使用することができるが、また、ジオルガノシリレン基及び（メタ）アクリル基含有シラノール化合物を式（１１）で表される含フッ素反応性シラン化合物中のＭの総モル量に対して過剰に使用し、反応途中に適切な反応率で反応を停止し、余剰のシラノール化合物を除去する方法をとることもできる。

　この反応において、反応の速度を増加するために適切な触媒を加えてもよい。例えば式（１１）で表される含フッ素反応性シラン化合物中のＭがアルコキシ基の場合、触媒としては、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクタン酸第１錫などのアルキル錫エステル化合物、テトライソプロポキシチタン、テトラ－ｎ－ブトキシチタン、チタンテトラ－２－エチルヘキソキシド、ジプロポキシビス（アセチルアセトナ）チタン、チタニウムイソプロポキシオクチレングリコール等のチタン酸エステル又はチタンキレート化合物、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムキレート化合物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類水酸化物などが例示される。これらはその１種に限定されず、２種もしくはそれ以上の混合物として使用できるが、特に環境への影響が低いチタン化合物、ジルコニウム化合物、アルカリ土類水酸化物の使用が好ましい。
　これらの触媒を反応物総質量に対して、０．０１～１０質量％、好ましくは０．０１～５質量％加えることにより、反応速度を増加させることができる。

　上記の反応は、必要に応じて適当な溶剤で希釈して行ってもよい。このような溶剤としては、反応系中の各反応性基と直接反応しない溶剤であれば特に制限なく用いることができ、具体的には、トルエン、キシレン、イソオクタンなどの炭化水素系溶剤、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、ｍ－キシレンヘキサフロライド、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル等のフッ素変性エーテル系溶剤などが挙げられる。この溶剤は、反応後に減圧留去等の公知の手法で除去してもよく、目的の用途に応じてそのまま希釈溶液として使用してもよい。
　溶剤を使用する場合、その使用量は、式（１１）で表される含フッ素反応性シラン化合物とジオルガノシリレン基及び（メタ）アクリル基含有シラノール化合物の合計１００質量部に対して、好ましくは０．１～１，０００質量部であり、より好ましくは２０～５００質量部である。これより多いと反応系の濃度が低下しすぎて、反応速度が大幅に低下する場合がある。

　反応終了後、必要に応じて未反応のジオルガノシリレン基、（メタ）アクリル基含有シラノール化合物、及び反応溶剤等を留去、吸着、再沈殿、濾過、洗浄等の方法で除去することにより、上記式（１）で表される含フッ素アクリル化合物を得ることができる。

〔成分（Ｂ）〕
　本発明の含フッ素硬化性組成物における第二の必須成分である成分（Ｂ）は、フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中のそれぞれの末端に（即ち、分子鎖両末端のそれぞれに）２個以上、好ましくは２～５個、より好ましくは２～４個の（メタ）アクリル基を有し、１分子中に平均して４～１０個、好ましくは４～８個の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる。

　このような化合物として、具体的には下記一般式（２）で表される含フッ素アクリル化合物を示すことができる。

　上記式（２）中、Ｒｆ^Bは２価のパーフルオロポリエーテル基であり、－ＣＦ₂Ｏ－Ｒｆ²－ＣＦ₂－で示すことができる。
　ここで、Ｒｆ²は上記式（１）のＲｆ^A中のＲｆ²と同じであり、上記Ｒｆ²と同様のものが例示できる。

　上記式（２）中、Ｚ¹は独立に上記式（１）のＺ¹と同じであり、上記Ｚ¹と同様のものが例示でき、中でも特に以下のものが好ましい。なお、下記の構造において、左側の結合手はＲｆ^Bと、右側の結合手はＱ¹と結合する。
－ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－

　上記式（２）中、Ｑ¹は独立に上記式（１）のＱ¹と同じであり、上記Ｑ¹と同様のものが例示でき、中でも特に以下のものが好ましい。但し、下記の構造において、（ａ１＋１）個の各ユニットの結合手は、Ｚ¹及び［　］で括られたａ個のＣＨ₂のいずれかの基と結合する。

（式中、ａ１は２又は３である。）

　上記式（２）中、Ｒ¹は独立に水素原子又は炭素数１～８、好ましくは１～６の１価の炭化水素基であり、１価の炭化水素基として、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基などが挙げられる。Ｒ¹としては、水素原子及びメチル基が好ましい。

　上記式（２）中、Ｒ²は独立に水素原子、又は酸素原子及び／もしくは窒素原子を含んでいてもよい（メタ）アクリル基を有する１価の有機基である。１価の有機基としては、末端に少なくとも１個、好ましくは１又は２個の（メタ）アクリル基を有する基が好ましい。また、構造途中にアミド結合、エーテル結合、エステル結合などを有していてもよい。

　このような構造として、例えば、以下のものを挙げることができる。
－Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣ（ＣＨ₃）（ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂）₂

　これらの中でも特に好適なのは、以下のものである。
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂

　上記式（２）中、ａは独立に２～５の整数であり、好ましくは２～４の整数であり、より好ましくは２又は３である。ａが２未満では成分（Ｃ）に対する溶解性が低下する場合があり、５より大きいと成分（Ａ）に対する溶解性が低下する場合がある。

　上記式（２）中、Ｚ²はそれぞれ独立に酸素原子及び／又は窒素原子を含んでいてもよい炭素数１～１００、好ましくは１～４０の２価の炭化水素基であり、途中環状構造を含んでいてもよい。

　Ｚ²の好ましい構造としては、以下のものを挙げることができる。
－ＣＨ₂［ＯＣ₂Ｈ₄］_d［ＯＣ₃Ｈ₆］_e［ＯＣ₄Ｈ₈］_fＯＣ_cＨ_2c－
（式中、ｄは０～２９の整数、好ましくは０～１０の整数であり、ｅは０～２９の整数、好ましくは０～１０の整数であり、ｆは０～１４の整数、好ましくは０～７の整数であり、ｃは２～４の整数である。上記構造の合計として炭素数３～１００、好ましくは３～３０を満たせばよい。繰り返し単位の配列は、種類にかかわらずランダムである。また各繰り返し単位は単体でなく構造異性体の混合物でもよい。）

　Ｚ²として、特に好ましい構造としては、以下の２つのものが挙げられ、中でもｄが０～１０の整数、ｅが０～１０の整数であるものが好適である。なお、下記の構造において、左側の結合手はＣＨＲ¹と、右側の結合手はＯＲ²と結合する。
－ＣＨ₂［ＯＣ₂Ｈ₄］_dＯＣ₂Ｈ₄－
－ＣＨ₂［ＯＣ₃Ｈ₆］_eＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）－

　上記式（２）で表される含フッ素アクリル化合物として、より好ましい構造としては、下記一般式（３）、（４）で表されるものが例示できる。

（式中、Ｚ¹、Ｑ¹、ａは上記の通りであり、Ｒｆ^B’は－ＣＦ₂Ｏ（ＣＦ₂Ｏ）_m（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_nＣＦ₂－であり、ｍ、ｎ、ｍ＋ｎは上記と同じであり、－（ＣＦ₂Ｏ）－と－（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）－の配列はランダムであり、Ｒ³は水素原子又はメチル基であり、ｄ１、ｅ１は０～１０の整数である。）

　成分（Ｂ）として具体的には、下記に示すものが例示できる。

（式中、Ｒｆ^B’は上記と同じであり、ｅ２は１～１０の整数であり、例えば４である。）

　また、上記成分（Ｂ）の式（２）で表される含フッ素アクリル化合物は、例えば、特開２０１０－２８５５０１号公報、特開２０１５－１９９９１０号公報に示される方法により合成が可能である。

　例えば、上記式（２）で表される含フッ素アクリル化合物は、まず下記一般式（１２）

（式中、Ｒｆ^B、Ｚ¹、Ｑ¹、ａは上記と同じであり、［　］で括られたａ個のＨはすべてＱ¹構造中のケイ素原子と結合している。）
で表される多官能Ｓｉ－Ｈ基を有するフルオロポリエーテル化合物と、下記一般式（１３）
　　ＣＨ₂＝ＣＲ¹－Ｚ²－ＯＨ　　　（１３）
（式中、Ｒ¹、Ｚ²は上記と同じである。）
で表される末端不飽和基含有アルコール（分子末端にアルケニル基と水酸基を有する化合物）とをヒドロシリル化反応させることにより、中間体である含フッ素アルコール化合物を得ることができる。

　ここで、上記式（１２）で表される多官能Ｓｉ－Ｈ基を有するフルオロポリエーテル化合物としては、例えば、下記に示すものが例示できる。

（式中、Ｒｆ^B’は上記と同じである。）

　また、上記式（１３）で表される末端不飽和基含有アルコールとしては、下記に示すものが例示できる。
ＣＨ₂＝ＣＨ－ＣＨ₂－ＯＣＨ₂ＣＨ₂－ＯＨ
ＣＨ₂＝ＣＨ－ＣＨ₂－ＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）－ＯＨ
ＣＨ₂＝ＣＨ－ＣＨ₂－（ＯＣ₃Ｈ₆）₂－ＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）－ＯＨ
ＣＨ₂＝ＣＨ－ＣＨ₂－（ＯＣ₃Ｈ₆）₄－ＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）－ＯＨ
ＣＨ₂＝ＣＨ－ＣＨ₂－（ＯＣ₃Ｈ₆）₉－ＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）－ＯＨ

　このヒドロシリル化（付加）反応は、式（１２）で表される多官能Ｓｉ－Ｈ基を有するフルオロポリエーテル化合物と、式（１３）で表される末端不飽和基含有アルコールを混合し、白金族金属系の付加反応触媒存在下、反応温度５０～１５０℃、好ましくは６０～１２０℃で、１分～４８時間、特に１０分～１２時間反応を行うことが望ましい。反応温度が低すぎると反応が十分に進行しないまま反応が停止してしまう場合があり、高すぎるとヒドロシリル化の反応熱による温度上昇で反応が制御できなくなり、突沸や原料の分解などが起こる場合がある。

　この場合、式（１２）で表される多官能Ｓｉ－Ｈ基を有するフルオロポリエーテル化合物と、式（１３）で表される末端不飽和基含有アルコールとの反応割合は、式（１０）で表される多官能Ｓｉ－Ｈ基を有するフルオロポリエーテル化合物の［　］で括られたＨの総モル数に対して、式（１３）で表される末端不飽和基含有アルコールの末端不飽和基を０．５～５倍モル、特に０．９～２倍モル使用して反応させることが望ましい。式（１３）で表される末端不飽和基含有アルコールが、これより少なすぎると高い溶解性を持つ含フッ素アルコール化合物を得ることが困難となる場合があり、これ以上多すぎると反応溶液の均一性が低下して反応速度が不安定となり、また反応後に式（１３）で表される末端不飽和基含有アルコールの除去を行う場合に加熱、減圧、抽出等の条件を余剰の未反応のアルコールが増える分だけ厳しくする必要が出てくる。

　付加反応触媒は、例えば、白金、ロジウム又はパラジウム等の白金族金属を含む化合物を使用することができる。中でも白金を含む化合物が好ましく、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸六水和物、白金カルボニルビニルメチル錯体、白金－ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金－シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金－オクチルアルデヒド／オクタノール錯体、あるいは活性炭に担持された白金を用いることができる。
　付加反応触媒の配合量は、式（１２）で表される多官能Ｓｉ－Ｈ基を有するフルオロポリエーテル化合物に対し、含まれる金属量が０．１～５，０００質量ｐｐｍとなる量であることが好ましく、より好ましくは０．２～１，０００質量ｐｐｍとなる量である。

　上記の付加反応は、溶剤が存在しなくても実施可能であるが、必要に応じて溶剤で希釈してもよい。このとき希釈溶剤は、トルエン、キシレン、イソオクタンなど、広く一般に用いられている有機溶剤を利用することができるが、沸点が目的とする反応温度以上でかつ反応を阻害せず、反応後に生成する含フッ素アルコール化合物が、上記反応温度において可溶であるものが好ましい。このような溶剤としては、例えば、ｍ－キシレンヘキサフロライド、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル等のフッ素変性エーテル系溶剤等の部分フッ素変性された溶剤が望ましく、特にｍ－キシレンヘキサフロライドが好ましい。
　溶剤を使用する場合、その使用量は、式（１２）で表される多官能Ｓｉ－Ｈ基を有するフルオロポリエーテル化合物１００質量部に対して、好ましくは５～２，０００質量部であり、より好ましくは５０～５００質量部である。これより少なければ溶剤による希釈の効果が薄くなり、多ければ希釈度が高くなりすぎて反応速度の低下を招く場合がある。

　反応終了後、未反応の式（１３）で表される末端不飽和基含有アルコールや希釈溶剤を減圧留去、抽出、吸着等の公知の方法で除去することが好ましいが、これらを含んだ反応混合物のまま次の反応に使用することもできる。

　このように一般式（１２）で表される多官能Ｓｉ－Ｈ基を有するフルオロポリエーテル化合物と一般式（１３）で表される末端不飽和基含有アルコールをヒドロシリル化反応させることで、下記一般式（１４）で表される含フッ素アルコール化合物を得ることができる。

（式中、Ｒｆ^B、Ｑ¹、Ｒ¹、Ｚ¹、Ｚ²、ａは上記と同じである。また、それぞれの［　］で括られたａ個のＣＨ₂はすべてＱ¹構造中のケイ素原子と結合している。）

　このようにして得られる式（１４）で表される含フッ素アルコール化合物としては、下記に示すものが例示できる。

（式中、Ｒｆ^B’、ｅは上記と同じである。）

　次いで、上記で得られた式（１４）で表される含フッ素アルコール化合物に（メタ）アクリル基を導入することにより、目的とする含フッ素アクリル化合物を得ることができる。
　このような式（１４）で表される含フッ素アルコール化合物に（メタ）アクリル基を導入する方法として、一つは下記式（１５）で表される（メタ）アクリル酸ハライドと反応させてエステルを形成する方法、もう一つは下記式（１６）で表される（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物と反応させる方法が挙げられ、これらの方法により、上記式（２）で表される含フッ素アクリル化合物を得ることができる。
　　ＸＣ（＝Ｏ）ＣＲ³＝ＣＨ₂　　　（１５）
　　Ｏ＝Ｃ＝Ｎ－ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＲ³＝ＣＨ₂　　　（１６）
（式中、Ｒ³、Ｘは上記と同じである。）

　ここで、式（１５）で表される（メタ）アクリル酸ハライドとしては、下記に示すものが挙げられる。
ＸＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
ＸＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
（式中、Ｘは上記と同じである。）
　特にアクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリドが好ましい。

　また、式（１６）で表される（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物としては、下記に示すものが挙げられる。
Ｏ＝Ｃ＝Ｎ－ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
Ｏ＝Ｃ＝Ｎ－ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂

　これらの反応は、必要に応じて適当な溶剤で希釈して反応を行ってもよい。このような溶剤としては、含フッ素アルコール化合物の水酸基、（メタ）アクリル酸ハライドのハロゲン原子、（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物のイソシアネート基と反応しない溶剤であれば特に制限なく用いることができ、具体的には、トルエン、キシレン、イソオクタンなどの炭化水素系溶剤、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、ｍ－キシレンヘキサフロライド、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル等のフッ素変性エーテル系溶剤などが挙げられる。この溶剤は、反応後に減圧留去等の公知の手法で除去してもよく、目的の用途に応じてそのまま希釈溶液として使用してもよい。
　溶剤の使用量は特に限定されないが、反応成分の全合計質量に対して１０倍以下が好ましい。溶媒の使用量が多すぎると、反応速度が大幅に低下する危険がある。

　また、反応の際には、必要に応じて重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては特に制限はないが、通常、アクリル化合物の重合禁止剤として用いられるものを用いることができる。具体的には、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ジブチルヒドロキシトルエン等を挙げることができる。
　重合禁止剤の使用量は反応条件、反応後の精製条件、最終的な使用条件から決定すればよく、特に制限はされないが、通常、反応成分の全合計質量に対して０．０１～５，０００ｐｐｍ、特に好ましくは０．１～５００ｐｐｍである。

　（メタ）アクリル酸ハライドの滴下は、反応混合物の温度を０～３５℃に維持し、２０～６０分かけて行う。その後、更に３０分～１０時間攪拌を継続する。反応終了後、未反応の（メタ）アクリル酸ハライド、反応により発生した塩及び反応溶媒等を留去、吸着、濾過、洗浄等の方法で除去することで、上記式（２）で表される含フッ素アクリル化合物を得ることができる。

　この反応において、反応の速度を増加するために適切な触媒を加えてもよい。触媒としては、例えば、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクタン酸第１錫などのアルキル錫エステル化合物、テトライソプロポキシチタン、テトラｎ－ブトキシチタン、テトラキス（２－エチルヘキソキシ）チタン［別名：オルトチタン酸テトラキス（２－エチルヘキシル）］、ジプロポキシビス（アセチルアセトナ）チタン、チタニウムイソプロポキシオクチレングリコール等のチタン酸エステル又はチタンキレート化合物、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムキレート化合物等が例示される。これらはその１種に限定されず、２種もしくはそれ以上の混合物として使用できるが、特に環境への影響が低いチタン化合物や錫化合物の使用が好ましい。これらの触媒を反応物総質量に対して、０．０１～２質量％、好ましくは０．０５～１質量％加えることにより、反応速度を増加させることができる。

　反応終了後、未反応のイソシアネート化合物及び反応溶媒等を留去、吸着、濾過、洗浄等の方法で除去することで、上記式（２）で表される含フッ素アクリル化合物を得ることができる。

　また、反応停止の際に、メタノール、エタノール等のアルコール化合物を系内に添加し、未反応のイソシアネート化合物とウレタン結合を形成させてもよい。生成したウレタン（メタ）アクリレート類は、未反応のイソシアネート化合物と同様の方法で除去できるが、残存させたまま使用することもできる。

〔成分（Ｃ）〕
　本発明の含フッ素硬化性組成物における第三の必須成分である成分（Ｃ）は、フルオロポリエーテル構造を含まず、１分子中に平均して２個以上の（メタ）アクリル基を有する非フッ素化アクリル化合物である。成分（Ｃ）は、分子内にウレタン結合を有するウレタン（メタ）アクリレート類や、各種重合体の側鎖や末端に任意の方法で２個以上の（メタ）アクリル基を導入した化合物も含む。

　このような非フッ素化アクリル化合物（Ｃ）としては、１分子中に２個以上（メタ）アクリル基を有するものであればよく、例えば、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素－（２，２，２－トリ－（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート等の２～６官能の（メタ）アクリル化合物、これらの（メタ）アクリル化合物をエチレンオキシド、プロピレンオキシド、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品、エポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を付加させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート類、及び（メタ）アクリル酸エステル共重合体の側鎖に（メタ）アクリロイル基を導入した共重合体等を含むものが挙げられる。

　また、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリイソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリレートを反応させて得られるもの、ポリイソシアネートと末端ジオールのポリエステルに水酸基を有する（メタ）アクリレートを反応させて得られるもの、ポリオールに過剰のジイソシアネートと反応させて得られるポリイソシアネートに、水酸基を有する（メタ）アクリレートを反応させて得られるものを使用することもできる。中でも、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート、及びペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートから選ばれる水酸基を有する（メタ）アクリレートと、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、メチレンビス（４－シクロヘキシルイソシアネート）、２－メチル－１，３－ジイソシアナトシクロヘキサン、２－メチル－１，５－ジイソシアナトシクロヘキサン及びジフェニルメタンジイソシアネートから選ばれるポリイソシアネートを反応させたウレタン（メタ）アクリレート類が好ましい。

　成分（Ｃ）は、１種単独でも使用できるが、塗工性や硬化後被膜の特性を高めるために該当する複数の化合物を配合して使用することもできる。

　特に１分子中に２個以上の（メタ）アクリル基を有し、ウレタン結合を有さない多官能アクリル化合物、又はこの多官能アクリル化合物と、脂肪族ポリイソシアネートと水酸基を有するアクリル化合物とを反応させて得られた１分子中に３個以上の（メタ）アクリル基を有する多官能ウレタン（メタ）アクリレート類からなるものとを含む少なくとも２種類のアクリル化合物の混合物を用いることが好ましい。

　ここで、１分子中に２個以上の（メタ）アクリル基を有し、ウレタン結合を有さない多官能アクリル化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、及びこれらをエチレンオキサイド又はプロピレンオキシドで変性させた化合物が挙げられる。

　脂肪族ポリイソシアネートと水酸基を有するアクリル化合物とを反応させて得られた１分子中に３個以上の（メタ）アクリル基を有する多官能ウレタン（メタ）アクリレート類としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート及びこれらの３量化物、並びにこれらの２官能、３官能のイソシアネート類のいずれかに、脂肪族ジオール又は脂肪族ポリオールを反応させて得られる２官能以上のポリイソシアネートに、側鎖に水酸基を有するポリ（メタ）アクリレート類、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ビス（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びこれらのエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド変性体のいずれかを反応させたものや、脂肪族ポリオール及び側鎖に水酸基を有するポリ（メタ）アクリレート類と２－イソシアナトエチル（メタ）アクリラートや１，１－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート等のイソシアネート基を有するアクリル化合物を反応させたものを示すことができる。

　また、成分（Ｃ）としては、液状の成分だけでなく、微粒子状の高分子量体の表面や無機フィラー微粒子の表面を（メタ）アクリル基で修飾したものを含んでいてもよい。

　本発明の含フッ素硬化性組成物においては、各成分の組成比率は成分（Ｃ）１００質量部に対して、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の配合量の合計が０．０５～５０質量部、特に好ましくは０．１～１０質量部であり、かつ成分（Ｂ）１００質量部に対する成分（Ａ）の配合量が１～１００質量部、特に好ましくは３～５０質量部の範囲内にあることが望ましい。成分（Ｃ）に対して成分（Ａ）、（Ｂ）の合計がこれより多すぎると、ハードコート被膜としての性能が低下し、少なすぎると十分な防汚性能を発揮できない。成分（Ｂ）に対して成分（Ａ）の量がこれより多すぎると、成分（Ｃ）に対する溶解性が悪くなりすぎて塗工不良が発生するおそれがあり、少なすぎると成分（Ｂ）単独での使用に対しての差がみられなくなる。

　本発明の含フッ素硬化性組成物は、上述した成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の３種の成分を必須とし、これらのみを配合したものを熱、電子線等で硬化させることもできるが、作業性や必要に応じてこれら３成分以外の成分を含有することもできる。

　特に成分（Ｄ）として光重合開始剤を含有することで、活性エネルギー線として紫外線を用いた場合の硬化性を高めた硬化性組成物とすることができる。

〔成分（Ｄ）〕
　成分（Ｄ）の光重合開始剤は、紫外線照射によりアクリル化合物を硬化させることができるものであれば特に限定されないが、好ましくは、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド、１，２－オクタンジオン－１－［４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン等が挙げられ、１種単独でも２種以上を併用してもよい。

　成分（Ｄ）の含有量は、硬化条件と目的とする該組成物の物性に応じて適宜決めることができるが、例えば成分（Ｃ）１００質量部に対して、０．１～１５質量部、特に１～１０質量部となる量であることが望ましい。添加量がこれより少ないと硬化性が低下する場合があり、これより多くなると硬化後の物性への影響が大きくなるおそれがある。

　これら成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）は、それぞれの化合物の定義において構造が該当する１種類の化合物あるいは複数化合物の混合物として使用することができる。複数の化合物の混合物である場合、配合量を考えるには各化合物群の総質量をそれぞれの質量と考えればよい。

　本発明の含フッ素硬化性組成物には、更に、目的に応じて、反応性希釈剤としての１官能アクリル化合物、チオール化合物やマレイミド化合物など、（メタ）アクリル基以外の活性エネルギー線反応性化合物、有機溶剤、重合禁止剤、帯電防止剤、消泡剤、粘度調整剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、界面活性剤、着色剤、及び高分子や無機物のフィラー等を配合することもできる。

　有機溶剤としては、１－プロパノール、２－プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、アニソール、ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエーテル類；酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸シクロヘキシルなどのエステル類、トルエン、キシレン、トリエチルベンゼン、アルキルベンゼン類の芳香族類などを挙げることができる。上記溶剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。

　溶剤の使用量は特に制限されるものではないが、成分（Ａ）～（Ｃ）の合計１００質量部に対し、２０～１０，０００質量部が好ましく、特に１００～１，０００質量部が好ましい。

　また、重合禁止剤、帯電防止剤、消泡剤、粘度調整剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、界面活性剤、着色剤、及びフィラーとしては特に制限されず、公知のものを本発明の目的を損なわない範囲で使用することができる。

　更に、本発明の目的と効果を阻害しない範囲内においては本発明における成分（Ａ）、（Ｂ）を製造するにあたって発生する副生成物、残存する未反応成分等を含んでいてもよい。このような成分としては、例えば上述した式（７）あるいは式（１４）で表される含フッ素アルコール化合物が未反応成分として残留した場合などが考えられる。

　なお、成分（Ｃ）及び各種添加物が配合されたハードコート剤は、各社からさまざまなものが市販されている。本発明の含フッ素硬化性組成物は、このような市販品のハードコート剤に成分（Ａ）と成分（Ｂ）を添加したものであってもよい。市販品のハードコート剤として、例えば、荒川化学工業（株）「ビームセット」、大橋化学工業（株）「ユービック」、オリジン電気（株）「ＵＶコート」、カシュー（株）「カシューＵＶ」、ＪＳＲ（株）「デソライト」、大日精化工業（株）「セイカビーム」、日本合成化学（株）「紫光」、藤倉化成（株）「フジハード」、三菱レイヨン（株）「ダイヤビーム」、武蔵塗料（株）「ウルトラバイン」等が挙げられる。

　また、上記のように市販品のハードコート剤を用いる場合であっても、目的に応じて、有機溶剤、重合禁止剤、帯電防止剤、消泡剤、粘度調整剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、界面活性剤、着色剤、及びフィラー等を追加して配合することができる。

　以上のような成分（Ｃ）、（Ｄ）、及びその他任意に配合可能な添加剤については、例えばテクノネット社編「光硬化技術データブック　材料編」（２０００年、テクノネット社）、フォトポリマー懇話会編「フォトポリマーハンドブック」（１９８９年、工業調査会）、総合技術センター編「ＵＶ・ＥＢ硬化技術」（１９８２年、総合技術センター）、ラドテック研究会編「ＵＶ・ＥＢ硬化材料」（１９９２年、シーエムシー）、技術情報協会編「ＵＶ硬化における硬化不良・阻害原因とその対策」（２００３年、技術情報協会）、技術情報協会編「ＵＶ硬化樹脂の配合設計、特性評価と新しい応用」（２０１７年、技術情報協会）、シーエムシー出版編「ＵＶ・ＥＢ硬化材料・製品の市場実態と展望」（２００７年、シーエムシー出版）、サイエンス＆テクノロジー編「ＵＶ硬化プロセスの最適化」（２００８年、サイエンス＆テクノロジー）等に公知のものが多く示されており、これらを任意の組み合わせで使用できる。

　本発明の含フッ素硬化性組成物の配合方法については用途に応じて任意の方法で行えばよく、特に制限はされないが、他の成分と混合させる前に成分（Ａ）と成分（Ｂ）が良く混合されていることが望ましく、例えば成分（Ａ）と成分（Ｂ）を必要とする比率で混合し必要に応じて溶剤で希釈したものを成分（Ｃ）及びその他の成分と混合する、あるいは溶剤で希釈された成分（Ａ）と溶剤で希釈された成分（Ｂ）を混合して成分（Ｃ）及びその他の成分と混合する方法などが好適である。

　本発明の含フッ素硬化性組成物の硬化方法は特に限定されず、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を含む組成物を、適宜溶剤で希釈、塗布したものを熱や電子線等の活性エネルギー線によって硬化させることもできるが、更に成分（Ｄ）の光重合開始剤を含有する場合は、紫外線によって硬化させることができる。紫外線による硬化の場合、紫外線照射を空気中で行うこともできるが、酸素による硬化阻害を防止するため酸素濃度を５，０００ｐｐｍ以下に抑えることが好ましく、窒素、二酸化炭素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で硬化させることが特に好ましい。

　また、本発明の含フッ素硬化性組成物の一般的な使用形態としては、本発明の含フッ素硬化性組成物層が硬化後に密着又は接着するものであればいかなる基材上に塗布することもできるが、特に樹脂基材、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリイミド、フッ素樹脂、ナイロン、アクリル樹脂等の樹脂を挙げることができる。これらは、フィルム、板状、及び成形部材等任意の形態をとるものに対してその表面に使用できる。

　また、フィルム基材に塗工した場合、含フッ素硬化性組成物層を塗布・形成したのと反対の面に粘着剤を塗布した構造をとっていてもよく、更に粘着剤を保護するための離型フィルムを配置してもよい。

　また、前記フィルム基材は、上記で挙げた樹脂フィルムのみからなる基材であってもよいが、本発明の含フッ素硬化性組成物との密着性を向上させるために、前記樹脂フィルムにプライマー層を設けたフィルム基材であってもよい。前記プライマー層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等からなるものが挙げられる。

　また、本発明の含フッ素硬化性組成物は、硬化・未硬化の本発明に該当しない硬化性組成物層上に塗工硬化してもよい。例えば、硬度、耐久性、帯電防止性、カールなどの変形防止性がより高い硬化物層の上に本発明の含フッ素硬化性組成物を重ね塗りすることができる。

　また、本発明の含フッ素硬化性組成物との密着性を向上させる目的で、樹脂フィルム表面を、サンドブラスト法、溶剤処理法等による表面の凹凸化処理、コロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理、酸化処理等により処理を施すこともできる。

　本発明の含フッ素硬化性組成物を上記基材や物品に塗布する方法としては、特に制限はされないが、例えば、ロールコート、グラビアコート、フローコート、カーテンコート、ディップコート、スプレーコート、スピンコート、バーコート、スクリーン印刷等の公知の塗工方法を用いることができる。

　塗工後、塗膜に活性エネルギー線を照射してこれを硬化させる。ここで、活性エネルギー線としては、電子線、紫外線等任意のものを用いることができるが、特に紫外線が好ましい。紫外線源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＬＥＤランプが好適である。紫外線照射量としては、少なすぎると未硬化成分が残存し、多すぎると塗膜及び基材が劣化する可能性があるため、１０～１０，０００ｍＪ／ｃｍ²、特に１００～４，０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にあることが望ましい。

　また、酸素による硬化阻害を防止するために、紫外線照射時に照射雰囲気を窒素、二酸化炭素、アルゴン等の酸素分子を含まない不活性ガスで置換したり、塗膜表面を離型性を持つ紫外線透過性のある保護層で覆い、その上から紫外線を照射したり、基材が紫外線透過性を有する場合は塗膜表面を離型性のある保護層で覆った上で基材の塗工面とは反対側から紫外線を照射してもよい。また塗膜のレベリングあるいは塗膜中の（メタ）アクリル基の重合を効果的に行うため、紫外線照射前及び照射中に塗膜及び基材を赤外線や熱風乾燥炉等任意の手法で加熱してもよい。

　このようにして得られる含フッ素硬化性組成物の硬化物層の厚みとしては特に制限されないが、０．０１～５，０００μｍ、特に０．０５～２００μｍであることが好ましい。

　また、このようにして得られる本発明の含フッ素硬化性組成物の硬化物層は、イオン交換水の２μＬの液滴が接液から１秒後に液面と固体面とのなす角により測定した静的水接触角が１００°以上、特に１０５°以上、オレイン酸の４μＬの液滴が接液から１秒後に液面と固体面とのなす角により測定した静的オレイン酸接触角が６０°以上、特に６５°以上である撥水撥油性表面となり得ることが好ましい。なお、上記接触角とするためには、本発明の含フッ素硬化性組成物の硬化物層が、該硬化物層の全表面積に対して平均して厚さ１０ｎｍ以上の層をなせる量であることが好ましい。また、硬化物層表面には未反応の（メタ）アクリル基が残存していないほど好ましく、このため窒素、二酸化炭素等の不活性ガス雰囲気下で硬化させた硬化物層であることが望ましい。

　以上のように、本発明の含フッ素硬化性組成物は、紫外線等の活性エネルギー線によって硬化可能であり、物品の表面に、撥水撥油性、防汚性、滑り性、耐摩耗性に優れた硬化樹脂層を形成することができる。

　更に、本発明では、上述した本発明の含フッ素硬化性組成物を表面に塗布し硬化させた硬化被膜を有する物品を提供する。上述したように、本発明の含フッ素硬化性組成物を用いれば、基材（物品）の表面に優れた表面特性を有する硬化被膜（硬化樹脂層）を形成することが可能になる。特に、アクリルハードコートの表面に撥水性、撥油性、防汚性を付与するのに有用である。これによって、指紋、皮脂、汗などの人脂、化粧品等による汚れ、機械油などが付着し難くなり、かつ拭き取り性にも優れたハードコート表面を基材に与えることができる。このため、本発明の含フッ素硬化性組成物は、人が触れて人脂、化粧品等により汚される可能性のある基材（物品）、また作業者の人脂や機械油などで汚染される可能性のある機械内部に用いられる工程材料フィルム等の表面に対する防汚塗装膜もしくは保護膜を提供することができる。

　本発明の含フッ素硬化性組成物を用いて形成される硬化被膜（硬化樹脂層）は、タブレット型コンピュータ、ノートＰＣ、携帯電話・スマートフォン等の携帯（通信）情報端末、デジタルメディアプレイヤー、電子ブックリーダーなど各種機器の筐体、時計型・眼鏡型ウェアラブルコンピュータ、ヘッドマウントディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、フィールドエミッションプロジェクションディスプレイ、ＣＲＴ、トナー系ディスプレイ、量子ドット（ＱＤ）ディスプレイなどの各種フラットパネルディスプレイ及びＴＶの画面などの表示操作機器表面並びにこれらの内部に使用される各種光学フィルム類、自動車の外装、ピアノや家具の光沢表面、大理石等の建築用石材表面、トイレ、風呂、洗面所等の水周りの装飾建材、美術品展示用保護ガラス、ショーウインドー、ショーケース、フォトフレーム用カバー、腕時計、化粧品容器の外装、装飾品容器の外装、自動車窓用ガラス、列車、航空機等の窓ガラス、自動車ヘッドライト、テールランプなどの透明なガラス製又は透明なプラスチック製（アクリル、ポリカーボネートなど）部材、ミリ波レーダー等の車用センサーのカバー部材、各種ミラー部材等の塗装膜及び表面保護膜として有用である。

　中でも特に、タッチパネルディスプレイなど人の指あるいは手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器、例えば、タブレット型コンピュータ、ノートＰＣ、スマートフォン、携帯電話、その他携帯（通信）情報端末、スマートウォッチ、デジタルメディアプレイヤー、電子ブックリーダー、デジタルフォトフレーム、ゲーム機、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＧＰＳ表示記録機器、自動車用等のナビゲーション装置、自動車用等の制御パネル、自動現金引出し預け入れ装置、現金自動支払機、自動販売機、デジタルサイネージ（電子看板）、セキュリティーシステム端末、ＰＯＳ端末、リモートコントローラなど各種コントローラ、車載装置用パネルスイッチなどの表示入力装置などの表面保護膜として有用である。

　更に本発明の含フッ素硬化性組成物により形成される硬化被膜は、光磁気ディスク、光ディスク等の光記録媒体；メガネレンズ、プリズム、レンズシート、ペリクル膜、偏光板、光学フィルター、レンチキュラーレンズ、フレネルレンズ、反射防止膜、各種カメラ用レンズ、各種レンズ用保護フィルター、光ファイバーや光カプラーなどの光学部品・光デバイスの表面保護被膜としても有用である。

　以上のような、本発明の含フッ素硬化性組成物は、目的とする物品の表面に本発明に係る成分（Ａ）、（Ｂ）の化合物中のフルオロポリエーテル構造を配置させることにより、撥水性、撥油性、滑り性、防汚性、指紋の目立ちにくさ、指紋拭き取り性、耐摩耗性、低屈折率特性、耐溶剤性、耐薬品性等の優れた性質を与えることをその本質としている。

　このような本発明の含フッ素硬化性組成物を使用する際は、配合物の組み合わせ、組成比、どのような特性を重視するかに応じて、適切な使用方法をそれぞれの用途に応じた公知の技術を元に選定すればよい。このような公知の技術は、フッ素を含む組成物に対するものだけでなく、既存の活性エネルギー線硬化性組成物に用いられている手法を含めて検討の範囲に含めることができる。

　例えば、本発明の含フッ素硬化性組成物を配合調製する際に、本発明に係る成分（Ａ）、（Ｂ）に加えて、前記した本含フッ素硬化性組成物における各種配合物を組み合わせる際に、低屈折率特性やこれを利用した低反射特性を重視する場合には、反応性中空シリカや反応性基を有しない中空シリカ、あるいは成分（Ｃ）として特に３官能以上の非フッ素系の多官能アクリル化合物を使用すること、また被膜強度や耐擦傷性を向上させる場合には、成分（Ｃ）として２種類以上の非フッ素系多官能アクリル化合物を好適な量に配合すること、あるいは硬度と屈曲性のバランスをとるためには、成分（Ｃ）として非フッ素系の６官能以上の多官能アクリル化合物と３官能以下のアクリル化合物の組み合わせを行うこと等は、公知のアクリル硬化性組成物配合の知見から容易に類推できる。

　また、本発明の含フッ素硬化性組成物を塗布することで物品を得る場合、例えば、フィルム基材への塗工を行う際、干渉縞を防ぐために適切な塗工膜厚となるように調整を行うこと、フィルム基材の厚さを調整してカールを抑制しやすくしたり、基材フィルムの弾性率を調整したりすることで含フッ素硬化性組成物の塗膜硬化後の変形や塗膜の割れを抑制すること等は、それぞれの特性に応じた既存の条件の組み合わせを元にスクリーニング作業を行って選定させるものであり、本発明と既存技術の組み合わせにより容易に達成可能である。

　以下に、合成例、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。

［合成例１］含フッ素アクリル化合物（Ａ－１）の合成
　還流装置と攪拌装置を備えた３００Ｌ四つ口フラスコに、平均構造が下記式（Ｉ）

で表される化合物（但し、－ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ－と－ＣＦ₂Ｏ－の繰り返し単位の配列はランダムである）１００ｇ（Ｓｉ－Ｈ基　０．０７３７モル）、下記式（ＩＩ）の化合物
　　ＣＨ₂＝ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃　　　（ＩＩ）
１２．０ｇ（０．０８１１モル）、ｍ－キシレンヘキサフロライド２００ｇを仕込み、乾燥空気雰囲気下で攪拌しながら９０℃まで加熱した。ここに白金／１，３－ジビニル－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．０８８４ｇ（Ｐｔ単体として２．２×１０^-7モルを含有）を投入し、４時間加熱攪拌を継続してから停止した。反応液の¹Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲにより、Ｓｉ－Ｈ基に由来するピークの消失を確認した。得られた反応液を減圧留去し、以下の構造で示される化合物（ＩＩＩ）１０１．１ｇを得た。

　還流装置と攪拌装置を備えた１００ｍＬ三つ口フラスコに、上記で得られた化合物（ＩＩＩ）２０ｇ（－Ｓｉ－ＯＣＨ₃基として０．０３９８モル）、下記式（ＩＶ）
　　ＣＨ₂＝ＣＨＣ（＝Ｏ）ＯＣＨ₂Ｓｉ（ＣＨ₃）₂ＯＨ　　　（ＩＶ）
で表される化合物（ＩＶ）６．７４ｇ（０．０４２１モル）、ｍ－キシレンヘキサフロライド４０ｇを仕込み、窒素雰囲気下４０℃で攪拌した。そこにチタンテトラ－２－エチルヘキソキシドの１０質量％ｍ－キシレンヘキサフロライド溶液０．２ｇを加え、４時間攪拌を継続した。冷却後の反応液を室温（２５℃、以下同じ）にもどし、５００ｍＬのイソプロパノールに投入し、１時間攪拌後に２４時間静置して得られた沈殿物をアセトン５０ｇで溶解し、エバポレーターで５０℃／２６７Ｐａの条件で１時間留去し、白色軟膏状物質２３．４ｇを得た。¹Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲの結果から下記に示す含フッ素アクリル化合物（Ａ－１）であることを確認した。

［合成例２］含フッ素アクリル化合物（Ａ－２）の合成
　乾燥空気雰囲気下で、上記合成例１で用いた化合物（Ｉ）１００．０ｇ（Ｓｉ－Ｈ基量０．０７３７モル）に対して、２－アリルオキシエタノール８．０６ｇ（０．０７８９モル）、ｍ－キシレンヘキサフロライド５０．０ｇ、及び塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液０．０４４２ｇ（Ｐｔ単体として１．１×１０^-7モルを含有）を混合し、１００℃で４時間攪拌した。¹Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲでＳｉ－Ｈ基が消失したのを確認した後、溶剤と過剰の２－アリルオキシエタノールを減圧溜去し、活性炭処理を行い、下記式で示される淡無色透明の液体含フッ素アルコール化合物（Ｖ）５３．６ｇを得た。

　乾燥空気雰囲気下で、得られた液体含フッ素アルコール化合物（Ｖ）５０．０ｇ（水酸基量０．０３４３モル）に対して、ＴＨＦ５０．０ｇとアクリロイルオキシエチルイソシアネート４．９３ｇ（０．０３４９モル）を混合し、５０℃に加熱した。そこにオルトチタン酸テトラキス（２－エチルヘキシル）０．１５ｇを添加し、５０℃下２４時間攪拌した。加熱終了後、８０℃／０．２６６ｋＰａで減圧留去を行い、やや白濁した液状高粘調物質５２．０ｇを得た。¹Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲの結果から下記に示す含フッ素アクリル化合物（Ａ－２）であることを確認した。

［合成例３］含フッ素アクリル化合物（Ｂ－１）の合成
　乾燥窒素雰囲気下で、還流装置と攪拌装置を備えた５，０００ｍＬ三つ口フラスコに、下記式
ＣＨ₂＝ＣＨ－ＣＨ₂－Ｏ－ＣＨ₂－Ｒｆ^B1－ＣＨ₂－Ｏ－ＣＨ₂－ＣＨ＝ＣＨ₂
Ｒｆ^B1：－ＣＦ₂Ｏ（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_20.9（ＣＦ₂Ｏ）_21.2ＣＦ₂－
で表されるパーフルオロポリエーテル１，０００ｇ（０．２４５モル）と、ｍ－キシレンヘキサフロライド１，４００ｇ、及びテトラメチルシクロテトラシロキサン７２２ｇ（３．００モル）を投入し、攪拌しながら９０℃まで加熱した。ここに白金／１，３－ジビニル－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．８８４ｇ（Ｐｔ単体として２．２×１０^-6モルを含有）を投入し、内温を９０℃以上に維持したまま４時間攪拌を継続した。¹Ｈ－ＮＭＲで原料のアリル基が消失したのを確認した後、溶剤と過剰のテトラメチルシクロテトラシロキサンを減圧留去した。その後活性炭処理を行い、下記式で示される無色透明の液状化合物（ＶＩ）９９３ｇを得た。

Ｒｆ^B1：－ＣＦ₂Ｏ（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_20.9（ＣＦ₂Ｏ）_21.2ＣＦ₂－

　乾燥空気雰囲気下で、上記で得られた化合物（ＶＩ）５０．０ｇ（Ｓｉ－Ｈ基量０．０６５７モル）に対して、２－アリルオキシエタノール７．０５ｇ（０．０６９０モル）、ｍ－キシレンヘキサフロライド５０．０ｇ、及び塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液０．０４４２ｇ（Ｐｔ単体として１．１×１０^-7モルを含有）を混合し、１００℃で４時間攪拌した。¹Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲでＳｉ－Ｈ基が消失したのを確認した後、溶剤と過剰の２－アリルオキシエタノールを減圧溜去し、活性炭処理を行い、下記式で示される淡黄色透明の液体含フッ素アルコール化合物（ＶＩＩ）５４．９ｇを得た。

　乾燥空気雰囲気下で、得られた含フッ素アルコール化合物（ＶＩＩ）５０．０ｇ（水酸基量０．０５８モル）に対して、ＴＨＦ５０．０ｇとアクリロイルオキシエチルイソシアネート９．００ｇ（０．０６３８モル）を混合し、５０℃に加熱した。そこにオルトチタン酸テトラキス（２－エチルヘキシル）０．１５ｇを添加し、５０℃下２４時間攪拌した。加熱終了後、８０℃／０．２６６ｋＰａで減圧留去を行い、淡黄色のペースト状物質５８．５ｇを得た。¹Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲの結果から下記に示す含フッ素アクリル化合物（Ｂ－１）であることを確認した。

［合成例４］含フッ素アクリル化合物（Ｂ－２）の合成
　乾燥窒素雰囲気下で、還流装置と攪拌装置を備えた５００ｍＬ三つ口フラスコに、下記式
ＣＨ₂＝ＣＨ－ＣＨ₂－Ｏ－ＣＨ₂－Ｒｆ^B2－ＣＨ₂－Ｏ－ＣＨ₂－ＣＨ＝ＣＨ₂
Ｒｆ^B2：－ＣＦ₂Ｏ（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_9.8（ＣＦ₂Ｏ）_9.1ＣＦ₂－
で表されるパーフルオロポリエーテル１００ｇ（０．０５０１モル）と、ｍ－キシレンヘキサフロライド１００ｇ、及びテトラメチルシクロテトラシロキサン１２１ｇ（０．５０２モル）を投入し、攪拌しながら９０℃まで加熱した。ここに白金／１，３－ジビニル－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．４４２ｇ（Ｐｔ単体として１．１×１０^-6モルを含有）を投入し、内温を９０℃以上に維持したまま４時間攪拌を継続した。¹Ｈ－ＮＭＲで原料のアリル基が消失したのを確認した後、溶剤と過剰のテトラメチルシクロテトラシロキサンを減圧留去した。その後活性炭処理を行い、下記式で示される無色透明の液状化合物（ＶＩＩＩ）１１２ｇを得た。

Ｒｆ^B2：－ＣＦ₂Ｏ（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_9.8（ＣＦ₂Ｏ）_9.1ＣＦ₂－

　乾燥空気雰囲気下で、上記で得られた化合物（ＶＩＩＩ）５０．０ｇ（Ｓｉ－Ｈ基量０．１２１モル）に対して、２－アリルオキシエタノール１５．１ｇ（０．１４９モル）、ｍ－キシレンヘキサフロライド１００．０ｇ、及び塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液０．０８８４ｇ（Ｐｔ単体として２．２×１０^-7モルを含有）を混合し、１００℃で４時間攪拌した。¹Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲでＳｉ－Ｈ基が消失したのを確認した後、溶剤と過剰の２－アリルオキシエタノールを減圧溜去し、活性炭処理を行い、下記式で示される淡黄色透明の液体含フッ素アルコール化合物（ＩＸ）６０．２ｇを得た。

　乾燥空気雰囲気下で、得られた含フッ素アルコール化合物（ＩＸ）５０．０ｇ（水酸基量０．０９７モル）に対して、ＴＨＦ５０．０ｇとアクリロイルオキシエチルイソシアネート１７．７ｇ（０．１２５モル）を混合し、５０℃に加熱した。そこにジオクチル錫ジラウレート０．０５ｇを添加し、５０℃下２４時間攪拌した。加熱終了後、８０℃／０．２６６ｋＰａで減圧留去を行い、淡黄色の高粘調液体６３．５ｇを得た。¹Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲの結果から下記に示す含フッ素アクリル化合物（Ｂ－２）であることを確認した。

［実施例１～９、比較例１～６］
　本発明の含フッ素硬化性組成物の原料成分を下記に示す。
（Ａ）含フッ素アクリル化合物
（Ａ－１）合成例１で得られた含フッ素アクリル化合物
（Ａ－２）合成例２で得られた含フッ素アクリル化合物
（Ｂ）含フッ素アクリル化合物
（Ｂ－１）合成例３で得られた含フッ素アクリル化合物
（Ｂ－２）合成例４で得られた含フッ素アクリル化合物
（Ｃ）非フッ素化アクリル化合物
（Ｃ－１）ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート
　　　　［ダイセルオルネクス（株）製　ＥＢＥＣＲＹＬ　４０］
（Ｃ－２）ペンタエリスリトールトリアクリレート
（Ｃ－３）ペンタエリスリトールトリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートの反応物からなる多官能アクリレート［共栄社化学（株）製　ＵＡ－３０６Ｈ］
（Ｄ）光重合開始剤
（Ｄ－１）１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４、ＢＡＳＦジャパン（株）製）
（Ｄ－２）２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１２７、ＢＡＳＦジャパン（株）製）

［含フッ素硬化性組成物の調製］
　成分（Ａ）及び（Ｂ）は全てメチルエチルケトンで２０質量％に、成分（Ｃ）は酢酸ブチルで４０質量％に希釈を行った。また（Ｃ－１）の希釈溶剤を酢酸ブチルから２－プロパノールに替えて４０質量％に希釈したものを（Ｃ－４）として配合した。
　成分（Ａ）～（Ｄ）の各成分の溶媒成分を除いた配合比として下記表１となるように混合し、含フッ素硬化性組成物を得た。

実施例及び比較例における成分（Ａ）～（Ｄ）の配合比（溶媒成分を除く）

塗工と硬化物の作製
　実施例及び比較例の各組成物をポリカーボネート基板上にワイヤーバーＮｏ．７で塗工した（ウエット膜厚１６．０μｍ）。塗工後１００℃、１分間の乾燥を行った後、コンベヤ式メタルハライドＵＶ照射装置（パナソニック電工（株）製）を使用し、窒素雰囲気中で、積算照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を塗工面に照射して組成物を硬化させ、厚み５μｍの硬化膜を得た。

［組成物の塗工状態］
　各組成物の塗工（塗工表面外観）を目視で観察した。なお、平滑に塗工できなかった組成物についてはこれ以降の評価を行わなかった。結果を表２に示す。

［撥水撥油性の評価］
１）水接触角測定
　接触角計（協和界面科学（株）製　ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ）を用い、水２μＬの液滴を硬化膜上に滴下して１秒後の水接触角を測定した。Ｎ＝５の平均値を測定値とした。結果を表２に示す。

２）オレイン酸接触角測定
　接触角計（協和界面科学（株）製　ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ）を用い、オレイン酸４μＬの液滴を硬化膜上に滴下して１秒後のオレイン酸接触角を測定した。Ｎ＝５の平均値を測定値とした。結果を表２に示す。

［動摩擦係数の測定］
　ベンコット（旭化成（株）製）に対する硬化膜の動摩擦係数を、表面性試験機１４ＦＷ（新東科学（株）製）を用いて下記条件で測定した。結果を表２に示す。
接触面積：１０ｍｍ×３５ｍｍ
荷重：１００ｇ

［マジックハジキ性の評価］
　硬化膜表面にマジックペン（ゼブラ（株）製　ハイマッキー太字）で直線を描き、そのはじき具合を目視観察によって評価した。結果を表２に示す。

［マジック拭き取り性の評価］
　硬化膜表面にマジックペン（ゼブラ（株）製　ハイマッキー太字）で直線を描き、１分後にティッシュペーパーで軽く３回擦って、マジックの跡が残らなかったものを「拭き取れる」、跡が残ったものを「拭き取れない」で評価した。結果を表２に示す。

　上記の結果から明らかなように、成分（Ｂ）を配合せず、成分（Ａ）、（Ｃ）のみを配合した比較例１、２の組成物は、塗工性が悪く平滑な表面が得られないが、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を配合した本発明の実施例１～９の組成物は、平滑な塗工面を作製することができ、また、本発明の実施例１～９の組成物は、成分（Ａ）を配合せず、成分（Ｂ）、（Ｃ）のみを配合した比較例３、４、６の組成物、及び成分（Ａ）、（Ｂ）を配合せず、成分（Ｃ）のみを配合した比較例５に比べて、高い撥液性と滑り性を持つ表面を形成することができる。

Claims

　フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中の片方の末端にトリフルオロメチル基を有し、他方の末端に２個以上の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる成分（Ａ）、フルオロポリエーテルを主鎖に持つ直鎖ポリマーであって、１分子中のそれぞれの末端に２個以上の（メタ）アクリル基を有し、１分子中に平均して４～１０個の（メタ）アクリル基を有する化合物からなる成分（Ｂ）、及びフルオロポリエーテル構造を含まず、１分子中に平均して２個以上の（メタ）アクリル基を有する非フッ素化アクリル化合物からなる成分（Ｃ）を必須成分とし、成分（Ｃ）１００質量部に対して、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の配合量の合計が０．０５～５０質量部であり、かつ成分（Ｂ）１００質量部に対する成分（Ａ）の配合量が１～１００質量部である含フッ素硬化性組成物。
　更に、光重合開始剤（Ｄ）を含有する請求項１に記載の含フッ素硬化性組成物。
　成分（Ａ）が、下記一般式（１）で表される含フッ素アクリル化合物である請求項１又は２に記載の含フッ素硬化性組成物。
　　Ｒｆ^A－Ｚ¹－Ｑ¹［Ｘ¹］_a　　　（１）
（式中、Ｒｆ^AはＺ¹と結合しない側の末端がトリフルオロメチル基である１価のパーフルオロポリエーテル基である。Ｚ¹は酸素原子、窒素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも１種のヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～２０の２価の炭化水素基からなる連結基であり、途中環状構造を含んでいてもよく、炭素原子に結合した水素原子の一部がフッ素原子に置換されていてもよい。Ｑ¹は少なくとも（ａ＋１）個のケイ素原子を含む（ａ＋１）価の連結基であり、環状構造をなしていてもよい。ａは２～５の整数である。Ｘ¹は独立に酸素原子、窒素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも１種のヘテロ原子を含んでいてもよい（メタ）アクリル基を有する１価の有機基である。）
　成分（Ｂ）が、下記一般式（２）で表される含フッ素アクリル化合物である請求項１～３のいずれか１項に記載の含フッ素硬化性組成物。

（式中、Ｒｆ^Bは２価のパーフルオロポリエーテル基である。Ｚ¹は独立に酸素原子、窒素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも１種のヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１～２０の２価の炭化水素基からなる連結基であり、途中環状構造を含んでいてもよく、炭素原子に結合した水素原子の一部がフッ素原子に置換されていてもよい。Ｑ¹は独立に少なくとも（ａ＋１）個のケイ素原子を含む（ａ＋１）価の連結基であり、環状構造をなしていてもよい。ａは２～５の整数である。Ｚ²はそれぞれ独立に酸素原子及び／又は窒素原子を含んでいてもよい炭素数１～１００の２価の炭化水素基であり、途中環状構造を含んでいてもよい。Ｒ¹は独立に水素原子又は炭素数１～８の１価の炭化水素基である。Ｒ²は独立に水素原子、又は酸素原子及び／もしくは窒素原子を含んでいてもよい（メタ）アクリル基を有する１価の有機基であり、但し、Ｒ²は１分子中のそれぞれの末端に２個以上、かつ１分子中に平均して４～１０個の前記１価の有機基を有する。）
　成分（Ａ）において、一般式（１）のＸ¹が、下記のいずれかで示されるものである請求項３又は４に記載の含フッ素硬化性組成物。
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ（ＣＨ₃）［ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ（ＣＨ₃）［ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂
－ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ［ＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂］₃
－ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ［ＯＳｉ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂］₃
　成分（Ａ）において、一般式（１）のＱ¹が、下記のいずれかで示されるものである請求項３～５のいずれか１項に記載の含フッ素硬化性組成物。

（式中、ａは２～５の整数であり、ｂは１～５の整数である。）
　成分（Ａ）において、一般式（１）で表される含フッ素アクリル化合物が、下記式で表される化合物から選ばれるものである請求項３～６のいずれか１項に記載の含フッ素硬化性組成物。

（式中、Ｒｆ^Aは上記と同じである。）
　成分（Ｂ）において、一般式（２）のＺ¹が、下記式のいずれかで表されるものである請求項４～７のいずれか１項に記載の含フッ素硬化性組成物。
－ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂－
－ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂－
　成分（Ｂ）において、一般式（２）のＱ¹が、下記式で表されるものである請求項４～８のいずれか１項に記載の含フッ素硬化性組成物。

（式中、ａ１は２又は３である。）
　成分（Ｂ）において、一般式（２）で表される含フッ素アクリル化合物が、下記一般式（３）又は（４）で表される含フッ素アクリル化合物である請求項４～９のいずれか１項に記載の含フッ素硬化性組成物。

（式中、Ｚ¹、Ｑ¹、ａは上記の通りであり、Ｒｆ^B’は－ＣＦ₂Ｏ（ＣＦ₂Ｏ）_m（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_nＣＦ₂－であり、ｍは１～２００の整数、ｎは１～１７０の整数、ｍ＋ｎは６～２０１の整数であり、－（ＣＦ₂Ｏ）－と－（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）－の配列はランダムであり、Ｒ³は水素原子又はメチル基であり、ｄ１、ｅ１は０～１０の整数である。）
　成分（Ｃ）の非フッ素化アクリル化合物が、１分子中に２個以上の（メタ）アクリル基を有しウレタン結合を有さない多官能アクリル化合物、又はこの多官能アクリル化合物と脂肪族ポリイソシアネートと水酸基を有するアクリル化合物とを反応させて得られた１分子中に３個以上の（メタ）アクリル基を有する多官能ウレタン（メタ）アクリレート類、又は前記多官能アクリル化合物と多官能ウレタン（メタ）アクリレート類とを含む２種類以上のアクリル化合物の混合物である請求項１～１０のいずれか１項に記載の含フッ素硬化性組成物。
　請求項１～１１のいずれか１項に記載の含フッ素硬化性組成物の硬化被膜を表面に有する物品。