JP2013194209A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、起泡力、洗浄力、乳化力、可溶化力、分散力等の基本的界面活性能に優れた洗浄剤組成物に関する。前記洗浄剤組成物は、食品、食器、衣料、皮膚及び毛髪用の洗浄剤等として有用である。
従来、衣料用洗剤、台所用洗剤、毛髪用洗剤、皮膚及び/又は毛髪用洗剤においては、起泡力、乳化力、可溶化力、分散力などの基本的界面活性能に優れたアニオン界面活性剤が主に使用されてきた。しかし、難分解性であること、皮膚刺激性が強いこと等が問題であった。
そこで、主成分をアニオン界面活性剤からノニオン界面活性剤にシフトしようとする試みが積極的になされ、ポリオキシエチレンアルキルエ−テル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等のポリオキシエチレン系界面活性剤が用いられている。ポリオキシエチレン系界面活性剤は低刺激性であるが、起泡力、洗浄力の点で劣る。起泡力及び洗浄力を補うために、衣料用洗剤の場合はアルカリ剤、キレートビルダー、蛍光剤、漂白剤、酵素等、台所用洗剤や毛髪用洗剤の場合は脂肪酸アルカノールアミドやアルコールエトキシレート系ノニオン界面活性剤等を併用することが行われてきたが、上記組み合わせでは、各成分の性能における積算的結果と同等又はそれ以下に過ぎず、また、併用により、ポリオキシエチレン系界面活性剤の低刺激性であるという利点が損なわれることが問題であった。
一方、皮膚低刺激性の洗浄剤組成物としては、糖系非イオン界面活性剤並びに糖残基及びカチオン性基を用いた洗浄剤組成物や、特定リン酸エステル系界面活性剤と糖アルコール類と特定グリセリン誘導体を用いた洗浄剤組成物が報告されている(例えば、特許文献1、2等)。しかし、組成物の安定性が低く、その上、起泡性及び洗浄性の点でも未だ不十分であった。
従って、本発明の目的は、安全性に優れ、且つ、起泡力、洗浄力、乳化力、可溶化力、分散力等の基本的界面活性能に優れた洗浄剤組成物を提供することにある。
本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討した結果、アルコールとグリシジルエーテルとを反応させて得られる、2級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルに、更にグリシドールを2当量以上反応させて得られる化合物は、2つの疎水基が短いスペーサーで結合し、更に水溶性の高いポリグリセリン部分を親水基として有するため、皮膚低刺激性であり、且つ、優れた界面活性能を有し、優れた起泡力及び洗浄力を発揮することができることを見いだした。また、前記化合物を含有する洗浄剤組成物は、極めて少量の使用で十分な洗浄力を発揮することができ、環境負荷及び皮膚刺激性を極めて小さく抑制することができることを見出した。本発明はこれらの知見に基づき、さらに研究を重ねて完成したものである。
すなわち、本発明は、下記式(1)
(式中、R1、R2は、同一又は異なって、ヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基である。nはグリセリン単位の数を示し、2以上の整数である)
で表される化合物を含むポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを少なくとも含有する洗浄剤組成物を提供する。
で表される化合物を含むポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを少なくとも含有する洗浄剤組成物を提供する。
本発明の洗浄剤組成物は、食品、食器、衣料、皮膚又は毛髪の洗浄用として使用することが好ましい。
本発明の洗浄剤組成物は、2分子のモノメリック型界面活性剤(一疎水基一親水基型界面活性剤)が短いスペーサーで結合した形状を有する特定のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを含有する。そして、前記特定のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは水相と油相の界面に密に吸着することができ、優れた界面活性能を発揮することができる。また、皮膚低刺激性である。
そのため、本発明に係る洗浄剤組成物は、安全性に優れ、且つ、起泡力、洗浄力、乳化力、可溶化力、分散力等の基本的界面活性能に優れる。また、環境負荷も極めて小さくすることができる。本発明に係る洗浄剤組成物は、食品、食器、衣料、皮膚、及び毛髪用の洗浄剤等として有用である。
そのため、本発明に係る洗浄剤組成物は、安全性に優れ、且つ、起泡力、洗浄力、乳化力、可溶化力、分散力等の基本的界面活性能に優れる。また、環境負荷も極めて小さくすることができる。本発明に係る洗浄剤組成物は、食品、食器、衣料、皮膚、及び毛髪用の洗浄剤等として有用である。
本発明の洗浄剤組成物は、ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを少なくとも含有する。
式(1)中、R1、R2は、同一又は異なって、ヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基である。nはグリセリン単位の数を示し、2以上の整数である。
式(1)の括弧内のC3H6O2は、下記式(2)及び(3)で示される両方の構造を有する。
−CH2−CHOH−CH2O− (2)
−CH(CH2OH)CH2O− (3)
−CH2−CHOH−CH2O− (2)
−CH(CH2OH)CH2O− (3)
R1、R2における直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基としては、例えば、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル、n−ウンデシル、n−ラウリル(ドデシル)、n−トリデシル、n−テトラデシル(ミリスチル)、n−ペンタデシル、n−ヘキサデシル、n−ヘプタデシル、n−ステアリル、n−ノナデシル、n−エイコシル、n−ヘンエイコシル、n−ドコシル基等のC6-22直鎖状アルキル基;イソヘキシル、s−ヘキシル、t−ヘキシル、イソヘプチル、s−ヘプチル、t−ヘプチル、イソオクチル、s−オクチル、t−オクチル、イソノニル、s−ノニル、t−ノニル、イソデシル、s−デシル、t−デシル、イソウンデシル、s−ウンデシル、t−ウンデシル、イソラウリル、s−ラウリル、t−ラウリル、トリデシル、s−トリデシル、t−トリデシル、イソテトラデシル、s−テトラデシル、t−テトラデシル、イソペンタデシル、s−ペンタデシル、t−ペンタデシル、ヘキシルデシル、イソヘキサデシル、s−ヘキサデシル、t−ヘキサデシル、イソヘプタデシル、s−ヘプタデシル、t−ヘプタデシル、イソステアリル、イソノナデシル、s−ノナデシル、t−ノナデシル、イソエイコシル、s−エイコシル、t−エイコシル、イソヘンイコシル、s−ヘンイコシル、t−ヘンイコシル、イソドコシル、s−ドコシル、t−ドコシル等のC6-22分岐鎖状アルキル基等を挙げることができる。
R1、R2におけるヒドロキシル基を有している直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基としては、例えば、前記C6-22直鎖状若しくは分岐鎖状アルキル基に1以上のヒドロキシル基を有するC6-22直鎖状若しくは分岐鎖状ヒドロキシアルキル基を挙げることができる。
R1、R2における直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基としては、例えば、n−ヘキセニル、n−ヘプテニル、n−オクテニル、n−ノネニル、n−デセニル、n−ウンデセニル、n−ドデセニル、n−トリデセニル、n−テトラデセニル、n−ペンタデセニル、n−ヘキサデセニル、n−ヘプタデセニル、n−オレイル、n−ノナデセニル、n−エイコセニル、n−ヘンエイコセニル、n−ドコセニル基等のC6-22直鎖状アルケニル基;イソヘキセニル、s−ヘキセニル、t−ヘキセニル、イソヘプテニル、s−ヘプテニル、t−ヘプテニル、イソオクテニル、s−オクテニル、t−オクテニル、イソノネニル、s−ノネニル、t−ノネニル、イソデセニル、s−デセニル、t−デセニル、イソウンデセニル、s−ウンデセニル、t−ウンデセニル、イソドデセニル、s−ドデセニル、t−ドデセニル、イソトリデセニル、s−トリデセニル、t−トリデセニル、イソテトラデセニル、s−テトラデセニル、t−テトラデセニル、イソペンタデセニル、s−ペンタデセニル、t−ペンタデセニル、イソヘキサデセニル、s−ヘキサデセニル、t−ヘキサデセニル、イソヘプタデセニル、s−ヘプタデセニル、t−ヘプタデセニル、イソオレイル、イソノナデセニル、s−ノナデセニル、t−ノナデセニル、イソエイコセニル、s−エイコセニル、t−エイコセニル、イソヘンイコセニル、s−ヘンイコセニル、t−ヘンイコセニル、イソドコセニル、s−ドコセニル、t−ドコセニル等のC6-22分岐鎖状アルケニル基等を挙げることができる。
本発明におけるR1、R2としては、なかでも、界面上に強固な柵層(パリセード層)を形成することができ、それにより、ラメラ液晶相を形成することができる点で、炭素数8〜20(より好ましくは炭素数8〜18、更に好ましくは10〜18、特に好ましくは10〜16、最も好ましくは10〜13)の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基(特に、直鎖状アルキル基)が好ましい。
nはグリセリン単位の数を示し、2以上の整数であり、例えば2〜25、好ましくは2〜20、更に好ましくは3〜15、特に好ましくは5〜12である。nが上記範囲を下回ると、ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルのHLB値が低下(親水性が低下)し、すすぎ性が低下する傾向がある。一方、nが過剰であると、HLB値が大きくなり過ぎ(親油性が低下し)、泡立ち性、洗浄性が低下する傾向がある。
本発明の式(1)で表される化合物としては、例えば、トリグリセリンジオクチルエーテル、トリグリセリンジデシルエーテル、トリグリセリンジラウリルエーテル、トリグリセリンジテトラデシルエーテル、トリグリセリンジオレイルエーテル、トリグリセリンジステアリルエーテル、トリグリセリンジイソステアリルエーテル、テトラグリセリンジオクチルエーテル、テトラグリセリンジデシルエーテル、テトラグリセリンジラウリルエーテル、テトラグリセリンジテトラデシルエーテル、テトラグリセリンジオレイルエーテル、テトラグリセリンジステアリルエーテル、テトラグリセリンジイソステアリルエーテル、ペンタグリセリンジデシルエーテル、ペンタグリセリンジラウリルエーテル、ペンタグリセリンジテトラデシルエーテル、ペンタグリセリンジオレイルエーテル、ペンタグリセリンジステアリルエーテル、ペンタグリセリンジイソステアリルエーテル、ヘキサグリセリンジオクチルエーテル、ヘキサグリセリンジデシルエーテル、ヘキサグリセリンジラウリルエーテル、ヘキサグリセリンジテトラデシルエーテル、ヘキサグリセリンジオレイルエーテル、ヘキサグリセリンジステアリルエーテル、ヘキサグリセリンジイソステアリルエーテル、ヘプタグリセリンジオクチルエーテル、ヘプタグリセリンジデシルエーテル、ヘプタグリセリンジラウリルエーテル、ヘプタグリセリンジテトラデシルエーテル、ヘプタグリセリンジオレイルエーテル、ヘプタグリセリンジステアリルエーテル、ヘプタグリセリンジイソステアリルエーテル、オクタグリセリンジオクチルエーテル、オクタグリセリンジデシルエーテル、オクタグリセリンジラウリルエーテル、オクタグリセリンジテトラデシルエーテル、オクタグリセリンジオレイルエーテル、オクタグリセリンジステアリルエーテル、オクタグリセリンジイソステアリルエーテル、ノナグリセリンジオクチルエーテル、ノナグリセリンジデシルエーテル、ノナグリセリンジラウリルエーテル、ノナグリセリンジテトラデシルエーテル、ノナグリセリンジオレイルエーテル、ノナグリセリンジステアリルエーテル、ノナグリセリンジイソステアリルエーテル、デカグリセリンジオクチルエーテル、デカグリセリンジデシルエーテル、デカグリセリンジラウリルエーテル、デカグリセリンジテトラデシルエーテル、デカグリセリンジオレイルエーテル、デカグリセリンジステアリルエーテル、デカグリセリンジイソステアリルエーテル、ウンデカグリセリンジオクチルエーテル、ウンデカグリセリンジデシルエーテル、ウンデカグリセリンジラウリルエーテル、ウンデカグリセリンジテトラデシルエーテル、ウンデカグリセリンジオレイルエーテル、ウンデカグリセリンジステアリルエーテル、ウンデカグリセリンジイソステアリルエーテル、ヘンイコサグリセリンジオクチルエーテル、ヘンイコサグリセリンジデシルエーテル、ヘンイコサグリセリンジラウリルエーテル、ヘンイコサグリセリンジテトラデシルエーテル、ヘンイコサグリセリンジオレイルエーテル、ヘンイコサグリセリンジステアリルエーテル、ヘンイコサグリセリンジイソステアリルエーテル等を挙げることができる。
本発明の式(1)で表される化合物としては、なかでも、ペンタグリセリンジラウリルエーテル、ヘプタグリセリンジラウリルエーテル、及びウンデカグリセリンジラウリルエーテル等の、上記式(1)で表される化合物のうち、nが5〜12で、R1、R2が同一又は異なって、炭素数10〜13の直鎖状アルキル基である化合物が、起泡力、洗浄力、乳化力、及び可溶化に優れる点で特に好ましい。
本発明の式(1)で表される化合物は、2つの疎水基(R1、R2)が短いスペーサーで結合しているため反発すること無く界面に密に吸着することができ、それにより極めて優れた界面活性能を発揮することができる。そのため、使用量を従来の半分以下にまで低減することができ、環境負荷が少なく、また、皮膚等への刺激性も極めて小さく抑制することができる。また、ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは、親水基であるポリグリセリンの2級ヒドロキシル基が水と水素結合を形成することができるため水への溶解度が高く、クラフト点が低い(例えば10℃以下、好ましくは0〜5℃)。そのため、低温でも優れた溶解性及び可溶化力を発揮することができる。
前記式(1)で表される化合物は、例えば、触媒の存在下、脂肪族アルコールにアルキル又はアルケニルグリシジルエーテルを反応させてグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを得、得られたグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルにグリシドールを反応させる方法により製造することができる。
より具体的には、式(1)で表される化合物は、例えば、下記工程(1)及び工程(2)を経て製造することができる。尚、下記式中のR1、R2、nは前記に同じ。
工程(1):下記式(4)で表されるアルコールに下記式(5)で表されるグリシジルエーテルを反応させることにより下記式(6)で表される2級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを得る
工程(2):工程(1)で得られた下記式(6)で表される2級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル1当量に対し、グリシドールをn当量反応させる
工程(1):下記式(4)で表されるアルコールに下記式(5)で表されるグリシジルエーテルを反応させることにより下記式(6)で表される2級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを得る
工程(2):工程(1)で得られた下記式(6)で表される2級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル1当量に対し、グリシドールをn当量反応させる
式(4)で表されるアルコールにおけるR1は、上記式(1)で表される化合物におけるR1に対応し、ヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基であり、炭素数8〜20(より好ましくは炭素数8〜18、更に好ましくは10〜18、特に好ましくは10〜16、最も好ましくは10〜13)の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基(特に、直鎖状アルキル基)が好ましい。
式(4)で表されるアルコールとしては、例えば、デシルアルコール、ウンデシルアルコール、ラウリルアルコール、トリデシルアルコール、テトラデシルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール等の飽和アルコール;オレイルアルコール、イソオレイルアルコール、リノリルアルコール、リノレニルアルコール等の不飽和アルコール等を挙げることができる。これらは単独で、又は2種以上を混合して使用することができる。
式(5)で表されるグリシジルエーテルにおけるR2は、上記式(1)で表される化合物におけるR2に対応し、ヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基であり、炭素数8〜20(より好ましくは炭素数8〜18、更に好ましくは10〜18、特に好ましくは10〜16、最も好ましくは10〜13)の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基(特に、直鎖状アルキル基)が好ましい。
式(5)で表されるグリシジルエーテルとしては、例えば、デシルグリシジルエーテル、ウンデシルグリシジルエーテル、ラウリルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、イソステアリルグリシジルエーテル等のR2が直鎖状又は分岐鎖状アルキル基であるグリシジルエーテル;オレイルグリシジルエーテル、イソオレイルグリシジルエーテル、リノリルグリシジルエーテル(=リノレニルグリシジルエーテル)等のR2が直鎖状又は分岐鎖状アルケニル基であるグリシジルエーテル等を挙げることができる。これらは単独で、又は2種以上を混合して使用することができる。
上記工程(1)の反応における式(5)で表されるグリシジルエーテルの使用量としては、式(4)で表されるアルコール 1当量に対して、例えば3〜10当量程度、好ましくは6〜8当量である。式(5)で表されるグリシジルエーテルの使用量が上記範囲を外れると、上記式(1)で表される化合物の収率が低下する傾向がある。
上記工程(1)の反応は、酸触媒の存在下で行うことが好ましい。酸触媒としては、プロトン酸、ルイス酸の何れも使用できる。プロトン酸としては、例えば、超強酸(例えば、SbF5、SbF5−HF、SbF5−FSO3H、SbF5−CF3SO3H等)、硫酸、塩酸、リン酸、フッ化ホウ素酸、p−トルエンスルホン酸、クロロ酢酸、ピクリン酸、ヘテロポリ酸等の有機酸及び無機酸が挙げられる。また、ルイス酸としては、例えば、BF3、BF3O(C2H5)2、AlCl3、FeCl3、スズアルコキシド(例えば、スズテトライソプロポキシド等)、スズハライド(例えば、四塩化スズ(=塩化スズ(IV))、四臭化スズ等)等を挙げることができる。
前記酸触媒の使用量としては、式(4)で表されるアルコールに対して、例えば0.5〜6モル%程度、好ましくは1〜5モル%である。酸触媒の使用量が上記範囲を上回ると、副生成物の生成が促進されるため、上記式(1)で表される化合物の純度が低下する傾向がある。一方、酸触媒の使用量が上記範囲を下回ると、上記式(1)で表される化合物の収率が低下する傾向がある。
工程(1)の反応温度としては、例えば50〜150℃程度、好ましくは60〜100℃である。反応時間は、例えば30分〜5時間程度、好ましくは30分〜2時間である。
工程(1)の反応の雰囲気は反応を阻害しない限り特に限定されず、例えば、空気雰囲気、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の何れであってもよい。また、反応はバッチ式、セミバッチ式、連続式等の何れの方法で行うこともできる。
反応終了後、反応生成物は、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。
工程(2)の反応は、塩基性触媒の存在下で行うことが好ましい。
前記塩基性触媒としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水酸化物;炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム等のアルカリ土類金属炭酸塩;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド;酢酸ナトリウム等のアルカリ金属有機酸塩;トリエチルアミン、ピペリジン、N−メチルピペリジン、ピリジン等のアミン類(第3級アミン等)や含窒素複素環化合物等を挙げることができる。
塩基触媒としては、なかでも、製造コストを抑えることができる点で、ナトリウムメトキシド等のアルカリ金属アルコキシドを使用することが好ましい。
前記塩基性触媒の使用量としては、式(6)で表される2級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルに対して、例えば20〜100モル%程度、好ましくは90〜100モル%である。塩基性触媒の使用量が上記範囲を上回ると、副生成物であるポリグリセリンの生成を助長する傾向がある。一方、塩基性触媒の使用量が上記範囲を下回ると、式(6)で表される2級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルが未反応のまま残存する傾向がある。
工程(2)の反応の雰囲気は反応を阻害しない限り特に限定されず、例えば、空気雰囲気、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の何れであってもよい。また、反応はバッチ式、セミバッチ式、連続式等の何れの方法で行うこともできる。
工程(2)の反応温度としては、例えば50〜150℃程度、好ましくは60〜120℃である。反応時間は、例えば30分〜24時間程度、好ましくは5時間〜15時間、特に好ましくは7時間〜12時間である。工程(2)の反応は、例えば、リン酸水溶液、硫酸、塩酸、酢酸等を添加することにより停止することができる。
反応終了後、反応生成物は、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。
本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル(100重量%)における式(1)で表される化合物の含有量としては、例えば50重量%以上、好ましくは70重量%以上である。
本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルのHLB(Hydrophile-Lipophile Balance;親水親油バランス)値は、例えば5.0以上であり、好ましくは5.5〜15.0、特に好ましくは6.0〜12.0である。ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルのHLB値が上記範囲を下回ると、親水性が低下する傾向がある。HLB値は、例えば有機概念図を用い下記式により算出することができる。尚、化合物の物理化学的物性について、主にVan Der Waals力による物性の程度を「有機性」、主に電気的親和力による物性の程度を「無機性」と称する。「有機性値」及び「無機性値」は、化合物の構造等から、構造各部の合算値として算出することができる(界面活性劑の合成と其應用 / 小田良平, 寺村一広著(東京 : 槙書店 , 1957.3))。また、HLB値の計算式は下記式に限ったものではない。
HLB値=(無機性値÷有機性値)×10
HLB値=(無機性値÷有機性値)×10
本発明の洗浄剤組成物におけるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの含有量(2種以上を含有する場合は総量)としては、特に限定されることなく適宜調整することができ、例えば、洗浄剤組成物全量(100重量%)の0.01〜50重量%程度である。ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの含有量の上限は、好ましくは35重量%、特に好ましくは30重量%で、最も好ましくは25重量%ある。下限は、好ましくは0.5重量%、特に好ましくは5重量%、最も好ましくは10重量%である。ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの含有量が上記範囲を下回ると、十分な泡立ち、洗浄力が得られにくくなる傾向がある。一方、ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの含有量が上記範囲を上回ると、粘度が高くなって調製が困難となり、容器から取り出し難くなる傾向がある。
[水]
本発明の洗浄剤組成物には、ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル以外にも他の成分を含有していてもよく、例えば水を含有していてもよい。
本発明の洗浄剤組成物には、ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル以外にも他の成分を含有していてもよく、例えば水を含有していてもよい。
水としては、硬水、軟水の何れでもよく、例えば、工業用水、水道水、イオン交換水、蒸留水などを使用することができる。
水の配合量としては、例えば、洗浄剤組成物全量(100重量%)の0.05〜95重量%程度である。水の含有量の下限は、好ましくは1重量%、特に好ましくは5重量%、さらに好ましくは30重量%、最も好ましくは50重量%である。上限は、好ましくは90重量%、特に好ましくは85重量%である。水を上記範囲で含有することにより、洗浄剤組成物の粘度を調整することができ、調製し易く、また、容器から取り出しやすい粘度の洗浄剤組成物を得ることができる。
[その他の成分]
本発明の洗浄剤組成物には、上記ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル以外にも、他の界面活性剤を含有していてもよい。例えば、アニオン界面活性剤、両性界面活性剤、ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル以外の非イオン性界面活性剤から選択される界面活性剤を併用することにより、泡立ち等の性能をより向上させることができる。
本発明の洗浄剤組成物には、上記ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル以外にも、他の界面活性剤を含有していてもよい。例えば、アニオン界面活性剤、両性界面活性剤、ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル以外の非イオン性界面活性剤から選択される界面活性剤を併用することにより、泡立ち等の性能をより向上させることができる。
前記アニオン界面活性剤としては、食品、食器、衣料、皮膚又は毛髪用等の洗浄用に使用しているものであれば特に制限されるものではないが、例えば、ポリオキシエチレンアルキル硫酸塩、アルキル硫酸塩等の硫酸エステル型アニオン界面活性剤;アルキルベンゼンスルホン酸塩、オレフィンスルホン酸塩、アルカンスルホン酸塩、α−スルホ脂肪酸塩等のスルホネート型アニオン界面活性剤;アルキレンオキサイド付加アルキル又はアルケニルエーテル硫酸塩又は脂肪酸塩等を挙げることができる。
前記両性界面活性剤としては、食品、食器、衣料、皮膚又は毛髪用等の洗浄用に使用しているものであれば特に制限されるものではないが、例えば、アルキルベタイン、アルキルヒドロキシスルホベタイン、アルキルアミドベタイン、イミダゾリニウムベタイン、N−アルキルアミノ酸等を挙げることができる。
前記非イオン界面活性剤としては、食品、食器、衣料、皮膚又は毛髪用等の洗浄用に使用しているものであれば特に制限されるものではないが、例えば、脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアシルエステル、アルキルポリグリコシド、脂肪酸グリコシドエステル、脂肪酸メチルグリコシドエステル、アルキルメチルグルカミド等を挙げることができる。
洗浄剤組成物全量(100重量%)における他の界面活性剤の使用量(2種以上を組み合わせて使用する場合はその総量)としては、例えば30重量%以下程度である。他の界面活性剤の使用量の上限は、好ましくは25重量%、特に好ましくは20重量%である。下限は、好ましくは0.1重量%、特に好ましくは0.5重量%、最も好ましくは0.8重量%である。他の界面活性剤を上記範囲で併用することにより、泡立ちや肌感触をより一層向上することができる。
本発明の洗浄剤組成物には、上記界面活性剤の他、通常の洗浄剤組成物に用いられる成分、例えば、ビルダー、可溶化剤[例えば、高級アルコール、1価乃至多価アルコール、糖アルコール(単糖類、2糖類)等]、アニオン性、ノニオン性、又はカチオン性ポリマー等の粘度調整剤;保湿成分;アマイド、脂肪酸等の増泡剤;スクワラン、ホホバ油、オリーブ油、ラノリン、エステル、シリコーン等の油性成分;水溶性高分子、pH調整剤、パール化剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、香料、色素、防腐剤等を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜配合することができる。
前記ビルダーには、金属イオン封鎖能を有する無機ビルダー又は有機ビルダーが含まれる。無機ビルダーとしては、例えば、ピロリン酸、トリポリリン酸、ヘキサメタリン酸などの縮合リン酸及びそのアルカリ金属塩、ゼオライト等を挙げることができる。有機ビルダーとしては、例えば、グルタミン酸、グリシン、アラニンなどのアミノ酸類;コハク酸、リンゴ酸、クエン酸、シュウ酸、酒石酸、フマル酸、乳酸、グルコン酸などの有機酸及びこれらのアルカリ金属塩(特に、リンゴ酸及びクエン酸のナトリウム塩又はカリウム塩);エチレンジアミンテトラ酢酸及びそのアルカリ金属塩等を挙げることができる。
洗浄剤組成物全量(100重量%)におけるビルダーの配合割合としては、例えば0.1〜10重量%程度であり、好ましくは1〜6重量%である。ビルダーの配合割合が少なすぎると洗浄力を向上する効果が得られにくい。一方、ビルダーの配合割合が多すぎると洗浄剤組成物の保存安定性が低下する場合がある。
洗浄剤組成物全量(100重量%)における可溶化剤の配合割合としては、洗浄剤組成物の温度経時保存安定性の向上や、洗浄剤の増粘調製、増泡等の観点から、例えば0.05〜95重量%程度、好ましくは1〜60重量%、最も好ましくは5〜30重量%である。
本発明の洗浄剤組成物は、例えば、40〜80℃の温度環境下で上記成分を混合し撹拌することにより調製することができる。
本発明の洗浄剤組成物のpHとしては、例えば4〜11程度(好ましくは5〜10)である。
本発明の洗浄剤組成物は、上記構成を有するため、安全性に優れ、且つ、起泡性、洗浄性、乳化性、可溶化性、分散性に優れる。本発明の洗浄剤組成物は、特に用途限定されるものではないが、例えば、台所用洗浄剤、食器洗浄剤、衣料用洗浄剤、工業用洗浄剤、皮膚又は毛髪洗浄剤(例えば、ボディーシャンプー、シャンプー)等に好適に使用することができる。
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
製造例1(ジラウリルグリセロールの製造)
下記ラウリルグリシジルエーテル1当量に対して8当量となる量のラウリルアルコール(和光純薬工業(株)製試薬、1490g)を仕込んだ後、窒素雰囲気下、1mol%塩化スズ(IV)(2g)を添加し、反応温度を80℃に維持しつつ、ラウリルグリシジルエーテル(四日市合成(株)製、242g)を1時間かけて滴下した。滴下終了後、1時間の熟成を行い、反応を停止するため水を加えた。
得られた反応粗液に、炭酸カリウム(和光純薬工業(株)製、2g)を加え、水分を除去した後に、ヘプタン(和光純薬工業(株)製、800g)にて希釈した。
ブフナー漏斗を使用して吸引ろ過し、少量のヘプタンで反応器のリンスを行い、ろ液を得た。
ろ液中のヘプタンをエバポレーターで留去後、150℃、減圧度2mmHgの減圧留去をすることにより未反応のラウリルグリシジルエーテル留去し、ジラウリルグリセロール 340gを得た。
下記ラウリルグリシジルエーテル1当量に対して8当量となる量のラウリルアルコール(和光純薬工業(株)製試薬、1490g)を仕込んだ後、窒素雰囲気下、1mol%塩化スズ(IV)(2g)を添加し、反応温度を80℃に維持しつつ、ラウリルグリシジルエーテル(四日市合成(株)製、242g)を1時間かけて滴下した。滴下終了後、1時間の熟成を行い、反応を停止するため水を加えた。
得られた反応粗液に、炭酸カリウム(和光純薬工業(株)製、2g)を加え、水分を除去した後に、ヘプタン(和光純薬工業(株)製、800g)にて希釈した。
ブフナー漏斗を使用して吸引ろ過し、少量のヘプタンで反応器のリンスを行い、ろ液を得た。
ろ液中のヘプタンをエバポレーターで留去後、150℃、減圧度2mmHgの減圧留去をすることにより未反応のラウリルグリシジルエーテル留去し、ジラウリルグリセロール 340gを得た。
製造例2(ジテトラデシルグリセロールの製造)
ラウリルグリシジルエーテルに代えて、テトラデシルグリシジルエーテルを使用し、ラウリルアルコールに代えてテトラデシルアルコールを使用した以外は製造例1と同様にして、ジテトラデシルグリセロールを得た。
ラウリルグリシジルエーテルに代えて、テトラデシルグリシジルエーテルを使用し、ラウリルアルコールに代えてテトラデシルアルコールを使用した以外は製造例1と同様にして、ジテトラデシルグリセロールを得た。
調製例1(トリグリセリンジラウリルエーテルの製造)
製造例1で得られたジラウリルグリセロール43gに対し、200℃、2mmHgでラウリルグリシジルエーテルを留去した後、28%ナトリウムメトキシドメタノール溶液(4g)を加え、100℃、2mmHg、10時間、減圧留去することによりメタノールを留去した。
その後、上記ジラウリルグリセロール1当量に対して2当量となる量のグリシドール(15g)を、70℃を維持しつつ、10時間かけて滴下し、1時間の熟成を経て、85%リン酸水溶液1.5gを加えて反応を停止した。
得られた反応粗液にメタノール150gを加え希釈した。
その後、加圧ろ過にて粗液中のリン酸塩を除去した後、150℃、常圧にてメタノールを留去し、さらに2mmHgで他の低沸成分を留去することによりトリグリセリンジラウリルエーテル(HLB:8.2)158gを得た。
製造例1で得られたジラウリルグリセロール43gに対し、200℃、2mmHgでラウリルグリシジルエーテルを留去した後、28%ナトリウムメトキシドメタノール溶液(4g)を加え、100℃、2mmHg、10時間、減圧留去することによりメタノールを留去した。
その後、上記ジラウリルグリセロール1当量に対して2当量となる量のグリシドール(15g)を、70℃を維持しつつ、10時間かけて滴下し、1時間の熟成を経て、85%リン酸水溶液1.5gを加えて反応を停止した。
得られた反応粗液にメタノール150gを加え希釈した。
その後、加圧ろ過にて粗液中のリン酸塩を除去した後、150℃、常圧にてメタノールを留去し、さらに2mmHgで他の低沸成分を留去することによりトリグリセリンジラウリルエーテル(HLB:8.2)158gを得た。
調製例2(トリグリセリンジテトラデシルエーテルの製造)
製造例1で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例2で得られたジテトラデシルグリセロールを使用した以外は調製例1と同様にして、トリグリセリンジテトラデシルエーテル(HLB:7.3)を得た。
製造例1で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例2で得られたジテトラデシルグリセロールを使用した以外は調製例1と同様にして、トリグリセリンジテトラデシルエーテル(HLB:7.3)を得た。
調製例3(テトラグリセリンジラウリルエーテルの製造)
グリシドールの使用量を2当量から3当量に変更した以外は調製例1と同様にして、テトラグリセリンジラウリルエーテル(HLB:9.2)を得た。得られた化合物の1H−NMR(400MHz、CDCl3)スペクトルデータを図1に示す。
グリシドールの使用量を2当量から3当量に変更した以外は調製例1と同様にして、テトラグリセリンジラウリルエーテル(HLB:9.2)を得た。得られた化合物の1H−NMR(400MHz、CDCl3)スペクトルデータを図1に示す。
調製例4(ペンタグリセリンジラウリルエーテルの製造)
グリシドールの使用量を2当量から4当量に変更した以外は調製例1と同様にして、ペンタグリセリンジラウリルエーテル(HLB:10.0)を得た。得られた化合物の1H−NMR(400MHz、DMSO)スペクトルデータを図2に示す。
グリシドールの使用量を2当量から4当量に変更した以外は調製例1と同様にして、ペンタグリセリンジラウリルエーテル(HLB:10.0)を得た。得られた化合物の1H−NMR(400MHz、DMSO)スペクトルデータを図2に示す。
調製例5(ヘプタグリセリンジラウリルエーテルの製造)
グリシドールの使用量を2当量から6当量に変更した以外は調製例1と同様にして、ヘプタグリセリンジラウリルエーテル(HLB:11.3)を得た。
グリシドールの使用量を2当量から6当量に変更した以外は調製例1と同様にして、ヘプタグリセリンジラウリルエーテル(HLB:11.3)を得た。
調製例6(ウンデカグリセリンジラウリルエーテルの製造)
グリシドールの使用量を2当量から10当量に変更した以外は調製例1と同様にして、ウンデカグリセリンジラウリルエーテル(HLB:12.8)を得た。
グリシドールの使用量を2当量から10当量に変更した以外は調製例1と同様にして、ウンデカグリセリンジラウリルエーテル(HLB:12.8)を得た。
調製例7(ウンデカグリセリンジテトラデシルエーテルの製造)
製造例1で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例2で得られたジテトラデシルグリセロールを使用し、グリシドールの使用量を2当量から10当量に変更した以外は調製例1と同様にして、ウンデカグリセリンジテトラデシルエーテル(HLB:11.9)を得た。
製造例1で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例2で得られたジテトラデシルグリセロールを使用し、グリシドールの使用量を2当量から10当量に変更した以外は調製例1と同様にして、ウンデカグリセリンジテトラデシルエーテル(HLB:11.9)を得た。
調製例8(ヘンイコサグリセリンジラウリルエーテルの製造)
グリシドールの使用量を2当量から20当量に変更した以外は調製例1と同様にして、ヘンイコサグリセリンジラウリルエーテル(HLB:14.8)を得た。
グリシドールの使用量を2当量から20当量に変更した以外は調製例1と同様にして、ヘンイコサグリセリンジラウリルエーテル(HLB:14.8)を得た。
実施例1〜8、比較例1〜6
原料を下記表に示される割合(重量%比)で配合し、60℃にて撹拌して、洗浄剤組成物を得た。得られた洗浄剤組成物について、下記の方法により評価した。
原料を下記表に示される割合(重量%比)で配合し、60℃にて撹拌して、洗浄剤組成物を得た。得られた洗浄剤組成物について、下記の方法により評価した。
[起泡力試験]
実施例及び比較例で得られた各洗浄剤組成物について、20倍希釈水溶液を調製し、この溶液100mL(液温30℃)を500mLメスシリンダーに注入した。ついで、撹拌羽根を上記溶液中に設置し、1000rpmの回転数で1分間撹拌した。その後生じた泡の体積(mL)を測定して泡立ち量とし、下記基準に従って起泡力を評価した。
評価基準
◎:泡立ち量が300mL以上
○:泡立ち量が250mL以上、300mL未満
△:泡立ち量が200mL以上、250mL未満
×:泡立ち量が200mL未満
尚、◎および○を合格品とした。
実施例及び比較例で得られた各洗浄剤組成物について、20倍希釈水溶液を調製し、この溶液100mL(液温30℃)を500mLメスシリンダーに注入した。ついで、撹拌羽根を上記溶液中に設置し、1000rpmの回転数で1分間撹拌した。その後生じた泡の体積(mL)を測定して泡立ち量とし、下記基準に従って起泡力を評価した。
評価基準
◎:泡立ち量が300mL以上
○:泡立ち量が250mL以上、300mL未満
△:泡立ち量が200mL以上、250mL未満
×:泡立ち量が200mL未満
尚、◎および○を合格品とした。
[洗浄力試験]
実施例及び比較例で得られた各洗浄剤組成物の0.2%水溶液700mL(液温30℃)に、人工汚巧を付着させた平面20cm2のガラス板を専用台にセットして沈め、撹拌羽を回転数250rpmで3分間回転させた。回転終了後、ガラス板を取り出し、乾燥させた後の重量を測定し、下記算出式を用いて洗浄率を算出し、下記基準に従って洗浄力を評価した。
洗浄率(%)={(洗浄前の重量−洗浄後の重量)/洗浄前の重量}×100
評価基準
◎:洗浄力95%以上
○:洗浄力85%以上95%未満
△:洗浄力50%以上85%未満
×:洗浄力50%未満
尚、◎および○を合格品とした。
実施例及び比較例で得られた各洗浄剤組成物の0.2%水溶液700mL(液温30℃)に、人工汚巧を付着させた平面20cm2のガラス板を専用台にセットして沈め、撹拌羽を回転数250rpmで3分間回転させた。回転終了後、ガラス板を取り出し、乾燥させた後の重量を測定し、下記算出式を用いて洗浄率を算出し、下記基準に従って洗浄力を評価した。
洗浄率(%)={(洗浄前の重量−洗浄後の重量)/洗浄前の重量}×100
評価基準
◎:洗浄力95%以上
○:洗浄力85%以上95%未満
△:洗浄力50%以上85%未満
×:洗浄力50%未満
尚、◎および○を合格品とした。
表1、2より、本発明の洗浄剤組成物は、従来の洗浄剤と比較して、飛躍的に高い起泡力と洗浄力とを有することが明らかとなった。
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