JP6099577B2 - ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル、及びこれを含有する化粧料用組成物 - Google Patents

Description

本発明は、新規なポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル、及びこれを含有する化粧料用組成物に関する。前記ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは、親水性の高いジェミニ型界面活性剤として有用である。

化粧品分野において、メイクアップ汚れを落とすためのクレンジング剤には、多量の油剤を配合したクリーム状、乳液状、オイル状、油性ジェル状等のタイプから、油剤を全く配合しない又は微量配合したローション状、水性ジェル状等のタイプまで様々なものがある。多量の油剤を配合したタイプは洗浄力の点では優れているが、ベタベタ感があり、水では簡単にすすぎ落とせないため再度洗顔料等で洗浄する必要がある他、皮膚が濡れた状態ではメイクアップ汚れと馴染み難く、浴室での使用は困難である等、使用性の点で劣っていた。一方、油剤を全く配合しないか微量配合したタイプは、使用性には優れるが、洗浄力が弱いという問題があった。

洗浄力と使用性を兼ね備えたクレンジング剤として、モノメリック型界面活性剤（一疎水基一親水基型界面活性剤）の１つであるポリオキシエチレン脂肪酸エステルと、多価アルコール又はグリコールエーテル、及び水溶性高分子化合物を配合した水系ジェル状クレンジング化粧料（特許文献１）が報告されている。しかし、未だ、洗浄力の点で十分ではなかった。

一方、ジェミニ型界面活性剤は、２分子のモノメリック型界面活性剤が短いスペーサーで結合した形状を有する化合物である。ジェミニ型界面活性剤は上記構成を有するため、短いスペーサーで結合した２つの分子が反発すること無く、水相と油相の界面に密に吸着することができる。そのため、モノメリック型界面活性剤と、その半分のモル数のジェミニ型界面活性剤を比較すると、親水基及び疎水基の数は等しいにもかかわらず、ジェミニ型界面活性剤の方が優位に高い界面活性能を示し、界面活性剤の使用量を従来の半分以下にまで低減することができ環境に優しいこと、クラフト点が低く、低温でも優れた溶解性、及び可溶化力を発揮できることが知られている。

上記のように優れた性能を有するジェミニ型界面活性剤は、オレイン酸から合成されるものや、天然物から抽出されるもの等が知られている。オレイン酸からの合成や、天然物からの抽出には複雑な工程を要し、その上、低収率である。そのため、ジェミニ型界面活性剤は非常に価格が高いことが問題であった。また、疎水性の高いジェミニ型界面活性剤の研究は進んでいるが、親水性の高いジェミニ型界面活性剤についてはほとんど知られていないのが現状である（特許文献２〜４）。

特開平８−２８３１２３号公報 特開昭５９−１０５０７３号公報 特開昭６４−９３０４号公報 特開２００１−３５４９９８号公報

従って、本発明の目的は、親水性の高いジェミニ型界面活性剤として有用な、新規なポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを提供することにある。
本発明の他の目的は、前記ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを含有する化粧料用組成物を提供する。
本発明の他の目的は、洗浄力及び使用性を兼ね備えるクレンジング化粧料用組成物、すなわち、皮膚が濡れた状態でも、また濡れていない状態でもメイクアップ汚れに容易に馴染み、優れた洗浄力を発揮することができ、且つ、水ですすぐことによりすっきりと油性感を残すことなく洗い流すことができるクレンジング化粧料用組成物を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、前記クレンジング化粧料用組成物を含有するクレンジング化粧料を提供することにある。

本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討した結果、アルコールとグリシジルエーテルとを反応させて得られる、２級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルに、更にグリシドールを２当量以上反応させて得られる化合物は、２つの疎水基が短いスペーサーで結合し、更に水溶性の高いポリグリセリン部分を親水基として有するため、優れた界面活性能を有し、且つ、ＨＬＢ値が大きい（親水性が大きい）ことを見いだした。

また、前記化合物は少量でも優れた界面活性能を発揮することができるため、化粧料に添加することにより、皮膚への刺激性を極めて低く抑制しつつ、優れた浸透作用、乳化作用、及び分散作用を発揮することができること、前記化合物を含有するクレンジング化粧料は、皮膚が濡れた状態でも、また濡れていない状態でもメイクアップ汚れに容易に馴染み、優れた洗浄力を発揮することができ、且つ、水ですすぐことによりすっきりと油性感を残すことなく洗い流すことができることを見出した。本発明はこれらの知見に基づき、さらに研究を重ねて完成したものである。

すなわち、本発明は、下記式（１）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、ヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基である。ｎはグリセリン単位の数を示し、２以上の整数である）
で表されるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを提供する。

本発明は、また、Ｒ¹、Ｒ²が、同一又は異なって、ヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状のＣ_6-22アルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のＣ_6-22アルケニル基であり、ｎが２〜２５の整数である前記のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを提供する。

本発明は、また、前記のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを含有する化粧料用組成物を提供する。

本発明は、また、前記のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを１〜７０重量％、水を３０〜９９重量％含有するクレンジング化粧料用組成物を提供する。

本発明は、また、前記のクレンジング化粧料用組成物を含有するクレンジング化粧料を提供する。

本発明は、更に、高分子化合物を含有する前記のクレンジング化粧料を提供する。

本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは上記構成を有するため、極めて優れた界面活性能を示すことができる。そのため、本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを界面活性剤として使用すると、従来に比べて少ない量でも十分な効果を発揮することができ、環境負荷及び皮膚刺激性を極めて低く低減することができる。また、本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは、上記構成を有するためクラフト点が低く、低温でも優れた溶解性、及び可溶化力を発揮することができ、例えば、洗浄用に使用した場合、水でも綺麗に洗い流すことができる。本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは、化粧料用組成物［例えば、毛髪化粧料（ヘアコンディショニング剤等）用組成物、皮膚化粧料（スキンケアローション等）用組成物、クレンジング化粧料（メイクアップ化粧料のクレンジング剤等）用組成物等］、洗浄剤組成物、可溶化剤、分散剤、乳化剤、濡れ剤、染料、抗菌剤、帯電防止剤、展着剤等に好適に使用することができる。

そして、本発明のクレンジング化粧料用組成物は、上記ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを含有するため、べたつくことがなくさっぱりとした使用感である。また、皮膚が濡れた状態でも、濡れていない状態でもメイクアップ汚れに容易に馴染み、優れた洗浄力を発揮することができ、且つ、水ですすぐことによりすっきりと油性感を残すことなく洗い流すことができる。本発明のクレンジング化粧料用組成物は、メイクアップ化粧料のクレンジング剤に好適に使用することができる。

図１は、実施例３で得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）スペクトルデータである。 図２は、実施例４で得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）スペクトルデータである。 図３は、実施例６で得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）スペクトルデータである。 図４は、実施例７で得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）スペクトルデータである。

［ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル］
本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは、下記式（１）で表される。式中、Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、ヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基である。ｎはグリセリン単位の数を示し、２以上の整数である。

式（１）の括弧内のＣ₃Ｈ₆Ｏ₂は、下記式（２）及び（３）で示される両方の構造を有する。
−ＣＨ₂−ＣＨＯＨ−ＣＨ₂Ｏ− （２）
−ＣＨ（ＣＨ₂ＯＨ）ＣＨ₂Ｏ− （３）

Ｒ¹、Ｒ²における直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基としては、例えば、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ラウリル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル（ミリスチル）、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−ステアリル、ｎ−ノナデシル、ｎ−エイコシル、ｎ−ヘンエイコシル、ｎ−ドコシル基等のＣ_6-22直鎖状アルキル基；イソヘキシル、ｓ−ヘキシル、ｔ−ヘキシル、イソヘプチル、ｓ−ヘプチル、ｔ−ヘプチル、イソオクチル、ｓ−オクチル、ｔ−オクチル、イソノニル、ｓ−ノニル、ｔ−ノニル、イソデシル、ｓ−デシル、ｔ−デシル、イソウンデシル、ｓ−ウンデシル、ｔ−ウンデシル、イソラウリル、ｓ−ラウリル、ｔ−ラウリル、イソトリデシル、ｓ−トリデシル、ｔ−トリデシル、イソテトラデシル、ｓ−テトラデシル、ｔ−テトラデシル、イソペンタデシル、ｓ−ペンタデシル、ｔ−ペンタデシル、イソセチル、イソヘキサデシル、ｓ−ヘキサデシル、ｔ−ヘキサデシル、イソヘプタデシル、ｓ−ヘプタデシル、ｔ−ヘプタデシル、イソステアリル、イソノナデシル、ｓ−ノナデシル、ｔ−ノナデシル、イソエイコシル、ｓ−エイコシル、ｔ−エイコシル、イソヘンイコシル、ｓ−ヘンイコシル、ｔ−ヘンイコシル、イソドコシル、ｓ−ドコシル、ｔ−ドコシル等のＣ_6-22分岐鎖状アルキル基等を挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²におけるヒドロキシル基を有している直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基としては、例えば、前記Ｃ_6-22直鎖状若しくは分岐鎖状アルキル基に１以上のヒドロキシル基を有するＣ_6-22直鎖状若しくは分岐鎖状ヒドロキシアルキル基を挙げることができる。

Ｒ¹、Ｒ²における直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基としては、例えば、ｎ−ヘキセニル、ｎ−ヘプテニル、ｎ−オクテニル、ｎ−ノネニル、ｎ−デセニル、ｎ−ウンデセニル、ｎ−ドデセニル、ｎ−トリデセニル、ｎ−テトラデセニル、ｎ−ペンタデセニル、ｎ−ヘキサデセニル、ｎ−ヘプタデセニル、ｎ−オレイル、ｎ−ノナデセニル、ｎ−エイコセニル、ｎ−ヘンエイコセニル、ｎ−ドコセニル基等のＣ_6-22直鎖状アルケニル基；イソヘキセニル、ｓ−ヘキセニル、ｔ−ヘキセニル、イソヘプテニル、ｓ−ヘプテニル、ｔ−ヘプテニル、イソオクテニル、ｓ−オクテニル、ｔ−オクテニル、イソノネニル、ｓ−ノネニル、ｔ−ノネニル、イソデセニル、ｓ−デセニル、ｔ−デセニル、イソウンデセニル、ｓ−ウンデセニル、ｔ−ウンデセニル、イソドデセニル、ｓ−ドデセニル、ｔ−ドデセニル、イソトリデセニル、ｓ−トリデセニル、ｔ−トリデセニル、イソテトラデセニル、ｓ−テトラデセニル、ｔ−テトラデセニル、イソペンタデセニル、ｓ−ペンタデセニル、ｔ−ペンタデセニル、イソヘキサデセニル、ｓ−ヘキサデセニル、ｔ−ヘキサデセニル、イソヘプタデセニル、ｓ−ヘプタデセニル、ｔ−ヘプタデセニル、イソオレイル、イソノナデセニル、ｓ−ノナデセニル、ｔ−ノナデセニル、イソエイコセニル、ｓ−エイコセニル、ｔ−エイコセニル、イソヘンイコセニル、ｓ−ヘンイコセニル、ｔ−ヘンイコセニル、イソドコセニル、ｓ−ドコセニル、ｔ−ドコセニル等のＣ_6-22分岐鎖状アルケニル基等を挙げることができる。

本発明におけるＲ¹、Ｒ²としては、なかでも、界面上に強固な柵層（パリセード層）を形成することができ、それにより、ラメラ液晶相を形成することができる点で、炭素数８〜２０（より好ましくは８〜１８、更に好ましくは１０〜１８、特に好ましくは１０〜１６、最も好ましくは１０〜１４）の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基（特に、直鎖状アルキル基）が好ましい。

ｎはグリセリン単位の数を示し、２以上の整数であり、例えば２〜２５、好ましくは２〜１５、特に好ましくは２〜１０である。ｎが上記範囲を下回ると、ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルのＨＬＢ値が低下（親水性が低下）し、水性成分への溶解性が低下する傾向がある。一方、ｎが過剰であると、ＨＬＢ値が大きくなり過ぎ（親油性が低下し）、油性成分への溶解性が低下する傾向がある。特に、洗浄剤組成物に使用する場合には、洗浄力と起泡力に優れる点で、ｎは２〜２０が好ましく、特に好ましくは２〜１２、最も好ましくは２〜１０である。特に、化粧料用組成物（例えば、クレンジング化粧料用組成物）に使用する場合には、皮膚刺激性が極めて低く、起泡力（特に、濡れた状態での起泡力）と使用感に優れる点で、ｎは３〜１０が好ましく、より好ましくは５〜１０、特に好ましくは７〜１０、最も好ましくは８〜１０である。

本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル_のＨＬＢ（Hydrophile-Lipophile Balance；親水親油バランス）は例えば５．０以上であり、好ましくは５．５〜１５．０、特に好ましくは６．０〜１５．０である。ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル_のＨＬＢが上記範囲を下回ると、親水性が低下し、水性成分への溶解性が低下する傾向がある。ＨＬＢ値は、例えば有機概念図を用い下記式により算出することができる。尚、化合物の物理化学的物性について、主にＶａｎ Ｄｅｒ Ｗａａｌｓ力による物性の程度を「有機性」、主に電気的親和力による物性の程度を「無機性」と称する。「有機性値」及び「無機性値」は、化合物の構造等から、構造各部の合算値として算出することができる（界面活性劑の合成と其應用／小田良平、寺村一広著，東京：槙書店，１９５７．３）。また、ＨＬＢ値の計算式は下記式に限ったものではない。
ＨＬＢ値＝（無機性値÷有機性値）×１０

本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルとしては、例えば、トリグリセリンジオクチルエーテル、トリグリセリンジデシルエーテル、トリグリセリンジラウリルエーテル、トリグリセリンジテトラデシルエーテル、トリグリセリンジオレイルエーテル、トリグリセリンジステアリルエーテル、トリグリセリンジイソステアリルエーテル、テトラグリセリンジオクチルエーテル、テトラグリセリンジデシルエーテル、テトラグリセリンジラウリルエーテル、テトラグリセリンジテトラデシルエーテル、テトラグリセリンジオレイルエーテル、テトラグリセリンジステアリルエーテル、テトラグリセリンジイソステアリルエーテル、ペンタグリセリンジオクチルエーテル、ペンタグリセリンジデシルエーテル、ペンタグリセリンジラウリルエーテル、ペンタグリセリンジテトラデシルエーテル、ペンタグリセリンジオレイルエーテル、ペンタグリセリンジステアリルエーテル、ペンタグリセリンジイソステアリルエーテル、ヘキサグリセリンジオクチルエーテル、ヘキサグリセリンジデシルエーテル、ヘキサグリセリンジラウリルエーテル、ヘキサグリセリンジテトラデシルエーテル、ヘキサグリセリンジオレイルエーテル、ヘキサグリセリンジステアリルエーテル、ヘキサグリセリンジイソステアリルエーテル、ヘプタグリセリンジオクチルエーテル、ヘプタグリセリンジデシルエーテル、ヘプタグリセリンジラウリルエーテル、ヘプタグリセリンジテトラデシルエーテル、ヘプタグリセリンジオレイルエーテル、ヘプタグリセリンジステアリルエーテル、ヘプタグリセリンジイソステアリルエーテル、オクタグリセリンジオクチルエーテル、オクタグリセリンジデシルエーテル、オクタグリセリンジラウリルエーテル、オクタグリセリンジテトラデシルエーテル、オクタグリセリンジオレイルエーテル、オクタグリセリンジステアリルエーテル、オクタグリセリンジイソステアリルエーテル、ノナグリセリンジオクチルエーテル、ノナグリセリンジデシルエーテル、ノナグリセリンジラウリルエーテル、ノナグリセリンジテトラデシルエーテル、ノナグリセリンジオレイルエーテル、ノナグリセリンジステアリルエーテル、ノナグリセリンジイソステアリルエーテル、デカグリセリンジオクチルエーテル、デカグリセリンジデシルエーテル、デカグリセリンジラウリルエーテル、デカグリセリンジテトラデシルエーテル、デカグリセリンジオレイルエーテル、デカグリセリンジステアリルエーテル、デカグリセリンジイソステアリルエーテル、ウンデカグリセリンジオクチルエーテル、ウンデカグリセリンジデシルエーテル、ウンデカグリセリンジラウリルエーテル、ウンデカグリセリンジテトラデシルエーテル、ウンデカグリセリンジオレイルエーテル、ウンデカグリセリンジステアリルエーテル、ウンデカグリセリンジイソステアリルエーテル等を挙げることができる。

本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは、２つの疎水基（Ｒ¹、Ｒ²）が短いスペーサーで結合した構造を有するため、反発すること無く界面に密に吸着することができ、それにより極めて優れた界面活性能を示すことができる。そのため、使用量を従来の半分以下にまで低減することができ、環境負荷が少なく、また、皮膚等への刺激性も極めて小さく抑制することができる。また、本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは、親水基であるポリグリセリンの２級ヒドロキシル基が水と水素結合を形成するため水への溶解度が高く、クラフト点が低い（例えば１０℃以下、好ましくは０〜５℃）。そのため、低温でも優れた溶解性、及び可溶化力を発揮することができる。

本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは、上記特性を有するため、例えば、化粧料用組成物［例えば、毛髪化粧料（ヘアコンディショニング剤等）用組成物、皮膚化粧料（スキンケアローション等）用組成物、クレンジング化粧料（メイクアップ化粧料のクレンジング剤等）用組成物等］、洗浄剤組成物、可溶化剤、分散剤、乳化剤、濡れ剤、染料、抗菌剤、帯電防止剤、展着剤等に好適に使用することができる。

［ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの製造方法］
式（１）で表されるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは、例えば、触媒の存在下、脂肪族アルコールにアルキル又はアルケニルグリシジルエーテルを反応させてグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを得、得られたグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルにグリシドールを反応させる方法により製造することができる。

より具体的には、式（１）で表されるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは、例えば、下記工程（１）及び工程（２）を経て製造することができる。尚、下記式中のＲ¹、Ｒ²、ｎは前記に同じ。
工程（１）：下記式（４）で表されるアルコールに下記式（５）で表されるグリシジルエーテルを反応させることにより下記式（６）で表される２級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを得る
工程（２）：工程（１）で得られた下記式（６）で表される２級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル１当量に対し、グリシドールをｎ当量反応させる

尚、上記工程（１）により、下記式（６’）

で表されるグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルも副生され、それにより、工程（２）において下記式（１’）

で表されるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルが得られるが、その副生率は２０％以下（好ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下）が望ましい。式（１’）及び（６’）中、Ｒ¹、Ｒ²、ｎは前記に同じ。上記式（１’）で表されるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの副生率は、例えば、触媒の添加量、反応温度をコントロールすることにより調整することができる。

式（４）で表されるアルコールにおけるＲ¹は、上記式（１）で表されるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルにおけるＲ¹に対応し、ヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基であり、炭素数８〜２０（より好ましくは８〜１８、更に好ましくは１０〜１８、特に好ましくは１０〜１６、最も好ましくは１０〜１４）の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基（特に、直鎖状アルキル基）が好ましい。

式（４）で表されるアルコールとしては、例えば、デシルアルコール、ウンデシルアルコール、ラウリルアルコール、トリデシルアルコール、テトラデシルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール等の飽和アルコール；オレイルアルコール、イソオレイルアルコール、リノリルアルコール（＝リノレニルアルコール）等の不飽和アルコール等を挙げることができる。これらは単独で、又は２種以上を混合して使用することができる。

式（５）で表されるグリシジルエーテルにおけるＲ²は、上記式（１）で表されるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルにおけるＲ²に対応し、ヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のアルケニル基であり、炭素数８〜２０（より好ましくは８〜１８、更に好ましくは１０〜１８、特に好ましくは１０〜１６、最も好ましくは１０〜１４）の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基（特に、直鎖状アルキル基）が好ましい。

式（５）で表されるグリシジルエーテルとしては、例えば、デシルグリシジルエーテル、ウンデシルグリシジルエーテル、ラウリルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、イソステアリルグリシジルエーテル等のＲ²が直鎖状又は分岐鎖状アルキル基であるグリシジルエーテル；オレイルグリシジルエーテル、イソオレイルグリシジルエーテル、リノリルグリシジルエーテル（＝リノレニルグリシジルエーテル）等のＲ²が直鎖状又は分岐鎖状アルケニル基であるグリシジルエーテル等を挙げることができる。これらは単独で、又は２種以上を混合して使用することができる。

上記工程（１）の反応における式（５）で表されるグリシジルエーテルの使用量としては、式（４）で表されるアルコール１当量に対して、例えば３〜１０当量程度、好ましくは６〜８当量である。式（５）で表されるグリシジルエーテルの使用量が上記範囲を外れると、上記式（１）で表されるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの収率が低下する傾向がある。

上記工程（１）の反応は、酸触媒の存在下で行うことが好ましい。酸触媒としては、プロトン酸、ルイス酸の何れも使用できる。プロトン酸としては、例えば、超強酸（例えば、ＳｂＦ₅、ＳｂＦ₅−ＨＦ、ＳｂＦ₅−ＦＳＯ₃Ｈ、ＳｂＦ₅−ＣＦ₃ＳＯ₃Ｈ等）、硫酸、塩酸、リン酸、フッ化ホウ素酸、ｐ−トルエンスルホン酸、クロロ酢酸、ピクリン酸、ヘテロポリ酸等の有機酸及び無機酸を挙げることができる。また、ルイス酸としては、例えば、ＢＦ₃、ＢＦ₃Ｏ（Ｃ₂Ｈ₅）₂、ＡｌＣｌ₃、ＦｅＣｌ₃、スズアルコキシド（例えば、スズテトライソプロポキシド等）、スズハライド（例えば、四塩化スズ（＝塩化スズ（IV））、四臭化スズ等）等を挙げることができる。

前記酸触媒の使用量としては、式（４）で表されるアルコールに対して、例えば０．５〜６モル％程度、好ましくは１〜５モル％である。酸触媒の使用量が上記範囲を上回ると、副生成物の生成が促進されるため、上記式（１）で表されるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの純度が低下する傾向がある。一方、酸触媒の使用量が上記範囲を下回ると、上記式（１）で表されるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの収率が低下する傾向がある。

工程（１）の反応温度としては、例えば５０〜１５０℃程度、好ましくは６０〜１００℃である。反応時間は、例えば３０分〜５時間程度、好ましくは３０分〜２時間である。

工程（１）の反応の雰囲気は反応を阻害しない限り特に限定されず、例えば、空気雰囲気、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の何れであってもよい。また、反応はバッチ式、セミバッチ式、連続式等の何れの方法で行うこともできる。

反応終了後、反応生成物は、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。

工程（２）の反応は、塩基性触媒の存在下で行うことが好ましい。

前記塩基性触媒としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド；酢酸ナトリウム等のアルカリ金属有機酸塩；トリエチルアミン、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン等のアミン類（第３級アミン等）や含窒素複素環化合物等を挙げることができる。

塩基触媒としては、なかでも、製造コストを抑えることができる点で、ナトリウムメトキシド等のアルカリ金属アルコキシドを使用することが好ましい。

前記塩基性触媒の使用量としては、式（６）で表される２級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルに対して、例えば２０〜１００モル％程度、好ましくは９０〜１００モル％である。塩基性触媒の使用量が上記範囲を上回ると、副生成物であるポリグリセリンの生成を助長する傾向がある。一方、塩基性触媒の使用量が上記範囲を下回ると、式（６）で表される２級ヒドロキシル基を有するグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルが未反応のまま残存する傾向がある。

工程（２）の反応の雰囲気は反応を阻害しない限り特に限定されず、例えば、空気雰囲気、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の何れであってもよい。また、反応はバッチ式、セミバッチ式、連続式等の何れの方法で行うこともできる。

工程（２）の反応温度としては、例えば、５０〜１５０℃程度、好ましくは６０〜１２０℃である。反応時間は、例えば３０分〜２４時間程度、好ましくは５時間〜１５時間、特に好ましくは７時間〜１２時間である。工程（２）の反応は、例えば、リン酸水溶液、硫酸、塩酸、酢酸等を添加することにより停止することができる。

反応終了後、反応生成物は、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製できる。

［クレンジング化粧料用組成物］
本発明のクレンジング化粧料用組成物は、上記ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルと水を含有する。

本発明のクレンジング化粧料用組成物全量（１００重量％）におけるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの含有量（２種以上を含有する場合はその総量）は、例えば１〜７０重量％程度である。ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの含有量の上限は、好ましくは５０重量％、特に好ましくは３０重量％、最も好ましくは２０重量％である。下限は、好ましくは５重量％である。ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの含有量が上記範囲を下回ると、洗浄力が低下する傾向がある。一方、ポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルの含有量が上記範囲を上回ると、増粘しハンドリング性が低下する傾向がある。

水としては、硬水、軟水の何れでもよく、例えば、工業用水、水道水、イオン交換水、蒸留水等を使用することができる。

本発明のクレンジング化粧料用組成物全量（１００重量％）における水の含有量は、例えば３０〜９９重量％程度である。水の含有量の下限は、好ましくは５０重量％、特に好ましくは６０重量％、最も好ましくは８０重量％である。上限は、好ましくは９５重量％、特に好ましくは９３重量％である。水の含有量が上記範囲を下回ると、使用性が低下する傾向がある。一方、水の含有量が上記範囲を上回ると、洗浄力が低下する傾向がある。

本発明のクレンジング化粧料用組成物は、例えば４０〜８０℃の温度環境下で上記成分を混合し撹拌することにより調製することができる。

本発明のクレンジング化粧料用組成物のｐＨとしては、水で１０倍希釈したクレンジング化粧料用組成物のｐＨが例えば４〜１０程度（好ましくは５〜９）である。

［クレンジング化粧料］
本発明のクレンジング化粧料は、上記クレンジング化粧料用組成物を含有することを特徴とする。本発明のクレンジング化粧料は、ローション状、溶液状、乳液状、クリーム状、ジェル状等のいずれのタイプであっても良い。

本発明のクレンジング化粧料には、上記クレンジング化粧料用組成物以外にも他の成分を配合することができる。本発明においては高分子化合物を含有することが、使用感及び使用性を向上することができる点で好ましい。

前記高分子化合物としては、水溶性の高分子化合物が好ましく、例えば、カラギーナン、グアーガム等の植物系天然高分子化合物；キサンタンガム等の微生物系天然高分子化合物；カゼイン、ゼラチン等の動物系天然高分子化合物；カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系高分子化合物；カルボキシメチルデンプン等のデンプン系高分子化合物；ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸ナトリウム、カルボキシビニルポリマー等のビニル系高分子化合物；ポリエチレングリコール等のポリエーテル系高分子化合物等を単独で、又は２種以上を混合して使用することができる。

本発明においては、なかでも、ポリエチレングリコール等のポリエーテル系高分子化合物、カラギーナン等の植物系天然高分子化合物、カルボキシビニルポリマー等のビニル系高分子化合物、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系高分子化合物が好ましい。

高分子化合物の配合量（２種以上を含有する場合はその総量）としては、例えば、クレンジング化粧料全量（１００重量％）の０．１〜５０重量％程度である。高分子化合物の配合量の上限は、好ましくは１０重量％、特に好ましくは３重量％である。下限は、好ましくは０．２重量％、特に好ましくは０．３重量％である。

本発明のクレンジング化粧料には、上記成分以外にも、本発明の目的を達成できる範囲で他の成分を適宜配合することができる。他の成分としては、例えば、本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル以外の非イオン性界面活性剤、アニオン界面活性剤、両性界面活性剤、アルコール類、粉末成分、酸化防止剤、酸化防止助剤、紫外線吸収剤、保湿剤、消炎剤、防腐剤、ｐＨ調整剤、抽出物（動物、植物、魚介類、又は微生物の抽出物）、香料等を挙げることができる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

前記本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル以外の非イオン性界面活性剤は、親水基としてイオン化する基を有しない界面活性剤であって、例えば、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリアルキレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、糖脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン硬化ヒマシ油脂肪酸エステル、脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシアルキレングリコール、ポリオキシアルキレングリコールと１価又は多価アルコールとのエステル、ポリオキシアルキレン糖エーテル、脂肪酸アミドとポリオキシアルキレングリコールとの縮合物、脂肪族アミンとポリオキシアルキレングリコールとの縮合物、アルキル又はアルケニルポリグリコシド等を挙げることができる。

前記アニオン界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、アルキル硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、α−オレフィンスルホン酸塩類、アミノ酸系界面活性剤（例えば、グルタミン酸等）、Ｎ−アシルメチルタウリン塩、アルキルリン酸塩等を挙げることができる。

前記両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン型、イミダゾリニウム型、スルホベタイン型、及びアラニン型両性界面活性剤等を挙げることができる。

前記アルコール類としては、例えば、エタノール、プロピルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール等の低級アルコール等を挙げることができる。

前記粉末成分には無機粉末と有機粉末が含まれる。前記無機粉末としては、例えば、タルク、カオリン、雲母、絹雲母（セリサイト）、白雲母、金雲母、合成雲母、紅雲母、黒雲母、リチア雲母、バーミキュライト、炭酸マグネシウム、珪酸ジルコニウム、珪酸アルミニウム、珪酸バリウム、珪酸カルシウム、珪酸亜鉛、珪酸マグネシウム、珪酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、マグネシウム、シリカ、ゼオライト、硫酸バリウム、焼成硫酸カルシウム（焼セッコウ）、燐酸カルシウム、フッ素アパタイト、ヒドロキシアパタイト、セラミックパウダー、活性炭、薬用炭、金属石鹸（ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム等）、窒化ホウ素等を挙げることができる。前記有機粉末としては、例えば、ポリアミド樹脂粉末（ナイロン粉末）、ポリエチレン粉末、ポリメタクリル酸メチル粉末、ポリスチレン粉末、スチレンとアクリル酸の共重合体樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、セルロース粉末等を挙げることができる。

前記酸化防止剤としては、例えば、ビタミンＥ、ジブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、没食子酸エステル類等を挙げることができる。

前記酸化防止助剤としては、例えば、アスコルビン酸、フィチン酸、ケファリン、マレイン酸等を挙げることができる。

前記紫外線吸収剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸及びその塩、ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体；パラアミノ安息香酸、パラアミノ安息香酸エチル等のパラアミノ安息香酸誘導体；パラメトキシ桂皮酸エチル、パラメトキシ桂皮酸イソプロピル、パラメトキシ桂皮酸オクチル、メトキシ桂皮酸誘導体等のパラメトキシ桂皮酸誘導体；サリチル酸オクチル、サリチル酸フェニル等のサリチル酸誘導体；ウロカニン酸及び誘導体、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、２−（２’−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、アントラニル酸メチル等を挙げることができる。

前記保湿剤としては、例えば、グリセリン、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ソルビトール、乳酸ナトリウム、ピロリドンカルボン酸及びその塩等を挙げることができる。

前記消炎剤としては、例えば、グリチルリチン酸及びその誘導体、グリチルレチン酸及びその誘導体、アラントイン、酢酸ヒドロコーチゾン、アズレン等を挙げることができる。

前記防腐剤としては、例えば、メチルパラベン、プロピルパラベン、フェノキシエタノール等を挙げることができる。

前記ｐＨ調整剤としては、例えば、クエン酸、塩酸、硫酸、リン酸、水酸化ナトリウム、アンモニア等を挙げることができる。

前記抽出物（動物、植物、魚介類、又は微生物の抽出物）としては、例えば、茶エキス、アロエエキス、イチョウエキス、センブリエキス、ヨモギエキス、ニンニクエキス、オウゴンエキス、ローズマリーエキス、ヘチマエキス、胎盤抽出物、乳酸菌培養抽出物、海草エキス等を挙げることができる。

本発明のクレンジング化粧料は、例えば、上記クレンジング化粧料用組成物及び必要に応じて他の成分（例えば、高分子化合物等）を混合し撹拌することにより調製することができる。

本発明のクレンジング化粧料は上記構成を有するため、安全性とさっぱりとした使用感と優れた界面活性能を併せ持つ。本発明のクレンジング化粧料は、皮膚が濡れた状態でも、また濡れていない状態でもメイクアップ汚れに容易に馴染み、優れた洗浄力を発揮することができる。そのため、浴室内でも使用することができる。また、水ですすぐことによりすっきりとメイクアップ汚れを洗い流すことができる。本発明のクレンジング化粧料は、メイクアップ化粧料等のクレンジング剤として好適に使用することができる。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。

製造例１（ジデシルグリセロールの製造）
下記デシルグリシジルエーテル１当量に対して８当量となる量のデシルアルコール（和光純薬工業（株）製試薬、８８６ｇ）を仕込んだ後、窒素雰囲気下、１ｍｏｌ％塩化スズ（IV）（１．８２ｇ）を添加し、反応温度を８０℃に維持しつつ、デシルグリシジルエーテル（四日市合成（株）製、１５０ｇ）を１時間かけて滴下した。滴下終了後、１時間の熟成を行い、反応を停止するため水を加えた。
得られた反応粗液に、炭酸カリウム（和光純薬工業（株）製、９．６７ｇ）を加え、水分を除去した後に、ヘプタン（和光純薬工業（株）製、２５９ｇ）にて希釈した。
ブフナー漏斗を使用して吸引ろ過し、少量のヘプタンで反応器のリンスを行い、ろ液を得た。
ろ液中のヘプタンをエバポレーターで留去後、１５０℃、減圧度２ｍｍＨｇの減圧留去をすることにより未反応のデシルグリシジルエーテル留去し、ジデシルグリセロール３７２ｇを得た。

製造例２（ジラウリルグリセロールの製造）
デシルグリシジルエーテルに代えてラウリルグリシジルエーテルを使用し、デシルアルコールに代えてラウリルアルコールを使用した以外は製造例１と同様にして、ジラウリルグリセロールを得た。

製造例３（ジテトラデシルグリセロールの製造）
デシルグリシジルエーテルに代えてテトラデシルグリシジルエーテルを使用し、デシルアルコールに代えてテトラデシルアルコールを使用した以外は製造例１と同様にして、ジテトラデシルグリセロールを得た。

製造例４（ジオレイルグリセロールの製造）
デシルグリシジルエーテルに代えてオレイルグリシジルエーテルを使用し、デシルアルコールに代えてオレイルアルコールを使用した以外は製造例１と同様にして、ジオレイルグリセロールを得た。

実施例１（トリグリセリンジラウリルエーテルの製造）
製造例２で得られたジラウリルグリセロール１０４ｇに対し、２００℃、２ｍｍＨｇでラウリルグリシジルエーテルを留去した後、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液（４６．９ｇ）を加え、１００℃、２ｍｍＨｇ、１０時間、減圧留去することによりメタノールを留去した。
その後、上記ジラウリルグリセロール１当量に対して２当量となる量のグリシドール（５４．０ｇ）を、７０℃を維持しつつ、１０時間かけて滴下し、１時間の熟成を経て、８５％リン酸水溶液１８．７ｇを加えて反応を停止した。
得られた反応粗液にメタノール１５０ｇを加え希釈した。
その後、加圧ろ過にて粗液中のリン酸塩を除去した後、１５０℃、常圧にてメタノールを留去し、さらに２ｍｍＨｇで他の低沸成分を留去することによりトリグリセリンジラウリルエーテル（ＨＬＢ：６．３３）１５８ｇを得た。

実施例２（トリグリセリンジテトラデシルエーテルの製造）
製造例２で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例３で得られたジテトラデシルグリセロールを使用した以外は実施例１と同様にして、トリグリセリンジテトラデシルエーテル（ＨＬＢ：５．１４）を得た。

実施例３（テトラグリセリンジラウリルエーテルの製造）
グリシドールの使用量を２当量から３当量に変更した以外は実施例１と同様にして、テトラグリセリンジラウリルエーテル（ＨＬＢ：６．９４）を得た。得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）スペクトルデータを図１に示す。

実施例４（テトラグリセリンジデシルエーテルの製造）
製造例２で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例１で得られたジデシルグリセロールを使用し、グリシドールの使用量を２当量から３当量に変更した以外は実施例１と同様にして、テトラグリセリンジデシルエーテル（ＨＬＢ：６．８７）を得た。得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）スペクトルデータを図２に示す。

実施例５（テトラグリセリンジオレイルエーテルの製造）
製造例２で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例４で得られたジオレイルグリセロールを使用し、グリシドールの使用量を２当量から３当量に変更した以外は実施例１と同様にして、テトラグリセリンジオレイルエーテル（ＨＬＢ：５．２５）を得た。

実施例６（ペンタグリセリンジデシルエーテルの製造）
製造例２で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例１で得られたジデシルグリセロールを使用し、グリシドールの使用量を２当量から４当量に変更した以外は実施例１と同様にして、ペンタグリセリンジデシルエーテル（ＨＬＢ：８．８６）を得た。得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）スペクトルデータを図３に示す。

実施例７（ペンタグリセリンジラウリルエーテルの製造）
グリシドールの使用量を２当量から４当量に変更した以外は実施例１と同様にして、ペンタグリセリンジラウリルエーテル（ＨＬＢ：１０．０）を得た。得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）スペクトルデータを図４に示す。

実施例８（ヘプタグリセリンジデシルエーテルの製造）
製造例２で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例１で得られたジデシルグリセロールを使用し、グリシドールの使用量を２当量から６当量に変更した以外は実施例１と同様にして、ヘプタグリセリンジデシルエーテル（ＨＬＢ：１０．５）を得た。

実施例９（ヘプタグリセリンジラウリルエーテルの製造）
グリシドールの使用量を２当量から６当量に変更した以外は実施例１と同様にして、ヘプタグリセリンジラウリルエーテル（ＨＬＢ：１１．３）を得た。

実施例１０（ヘプタグリセリンジテトラデシルエーテルの製造）
製造例２で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例３で得られたジテトラデシルグリセロールを使用し、グリシドールの使用量を２当量から６当量に変更した以外は実施例１と同様にして、ヘプタグリセリンジテトラデシルエーテル（ＨＬＢ：８．７８）を得た。

実施例１１（ノナグリセリンジラウリルエーテルの製造）
グリシドールの使用量を２当量から８当量に変更した以外は実施例１と同様にして、ノナグリセリンジラウリルエーテル（ＨＬＢ：１２．３）を得た。

実施例１２（デカグリセリンジテトラデシルエーテルの製造）
製造例２で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例３で得られたジテトラデシルグリセロールを使用し、グリシドールの使用量を２当量から９当量に変更した以外は実施例１と同様にして、デカグリセリンジテトラデシルエーテル（ＨＬＢ：１２．２）を得た。

実施例１３（ウンデカグリセリンジラウリルエーテルの製造）
グリシドールの使用量を２当量から１０当量に変更した以外は実施例１と同様にして、ウンデカグリセリンジラウリルエーテル（ＨＬＢ：１３．２）を得た。

実施例１４（ウンデカグリセリンジテトラデシルエーテルの製造）
製造例２で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例３で得られたジテトラデシルグリセロールを使用し、グリシドールの使用量を２当量から１０当量に変更した以外は実施例１と同様にして、ウンデカグリセリンジテトラデシルエーテル（ＨＬＢ：１１．０）を得た。

実施例１５（ウンデカグリセリンジオレイルエーテルの製造）
製造例２で得られたジラウリルグリセロールに代えて、製造例４で得られたジオレイルグリセロールを使用し、グリシドールの使用量を２当量から１０当量に変更した以外は実施例１と同様にして、ウンデカグリセリンジオレイルエーテル（ＨＬＢ：９．７４）を得た

実施例１６（ヘンイコサグリセリンジラウリルエーテルの製造）
グリシドールの使用量を２当量から２０当量に変更した以外は実施例１と同様にして、ヘンイコサグリセリンジラウリルエーテル（ＨＬＢ：１４．６）を得た。

実施例１７〜２１
下記表１に示される割合（重量％）で原料を配合して洗浄剤組成物を調製した。尚、界面活性剤は実施例で得られたものを使用した。
得られた洗浄剤組成物について、下記試験方法により、洗浄力、及び起泡力を評価した。

＜洗浄力試験＞
洗浄剤組成物の０．２％水溶液７００ｍＬ（液温：３０℃）に、人工汚巧を付着させた平面２０ｃｍ²のガラス板を専用台にセットして沈め、撹拌羽を回転数２５０ｒｐｍで３分間回転させて洗浄した。
回転終了後、ガラス板を取り出し、乾燥させた後に重量を測定し、下記式を用いて洗浄率を算出し、下記基準で洗浄力を評価した。
洗浄率＝｛（洗浄前の重量−洗浄後の重量）／洗浄前の重量｝×１００％
評価基準
◎：洗浄力９５％以上
○：洗浄力８５％以上、９５％未満
△：洗浄力５０％以上、８５％未満
×：洗浄力５０％未満

＜起泡力試験＞
洗浄剤組成物の２０倍希釈水溶液を調製し、この溶液１００ｍＬ（液温：３０℃）を５００ｍＬメスシリンダーに注入した。次いで、撹拌羽根を上記溶液中に設置し、１０００ｒｐｍの回転数で１分間撹拌した。その後、生じた泡の体積（ｍＬ）を測定し泡立ち量と
した。前記泡立ち量から、下記基準により起泡力を評価した。
評価基準
◎：泡立ち３００ｍＬ以上
○：泡立ち２５０ｍＬ以上、３００ｍＬ未満
△：泡立ち２００ｍＬ以上、２５０ｍＬ未満
×：泡立ち２００ｍＬ未満

上記結果を下記表にまとめて示す。

表１より、本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは、優れた洗浄力及び起泡力を有することが分かる。

実施例２２〜３１、比較例１〜１０
下記表２、３に示される割合（重量％）で原料を配合し、６０℃にて撹拌して、クレンジング化粧料を得た。尚、界面活性剤は実施例で得られたものを使用した。
得られたクレンジング化粧料について、下記の方法により評価した。

［洗浄力試験及び使用感評価］
１．乾いた状態での洗浄力試験
口紅（商品名「マキアージュ スーペリアルージュ ＲＤ７５９」、資生堂（株）製）０．２ｇを前腕に塗布し、実施例及び比較例で得られたクレンジング化粧料約０．５ｇを手に取り、１０回マッサージして、口紅と馴染ませた。その後、水で洗い流し、口紅の落ち具合を目視で観察し、下記基準に従って評価した。また、洗浄後の皮膚感触を下記基準に従って官能評価した。
２．水に濡れた状態での洗浄力試験
口紅（商品名「マキアージュ スーペリアルージュ ＲＤ７５９」、資生堂（株）製）０．２ｇを前腕に塗布し、前腕を水で濡らした後、実施例及び比較例で得られたクレンジング化粧料約０．５ｇを手に取り、１０回マッサージして、口紅と馴染ませた。その後、水で洗い流し、口紅の落ち具合を目視で観察し、下記基準に従って評価した。
洗浄力評価基準：
◎：完全に落ちた
○：ほぼ落ちた
△：少し残った
×：ほとんど落ちなかった
使用感評価基準：
◎：非常にさっぱりしている
○：さっぱりしている
△：ややヌルつきがある
×：ヌルつきがある

上記結果を下記表にまとめて示す。

表２、３より、本発明のクレンジング化粧料は、皮膚が濡れた状態でも、濡れていない状態でもメイクアップ汚れに容易に馴染み、優れた洗浄力を発揮することができ、且つ、水ですすぐことにより油性感を残すことなくすっきりと洗い流すことができる。

本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルは極めて優れた界面活性能を示す。そのため、従来に比べて少ない量でも十分な界面活性能を発揮することができ、環境負荷及び皮膚刺激性を極めて低く低減することができる。そして、本発明のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを含むクレンジング化粧料用組成物は、べたつくことがなくさっぱりとした使用感である。また、皮膚が濡れた状態でも、濡れていない状態でもメイクアップ汚れに容易に馴染み、優れた洗浄力を発揮することができ、且つ、水ですすぐことによりすっきりと油性感を残すことなく洗い流すことができるため、メイクアップ化粧料のクレンジング剤として好適に使用することができる。

Claims (5)

1. 下記式（１）
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、直鎖状若しくは分岐鎖状のＣ _6-22 アルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のＣ _6-22 アルケニル基である。ｎはグリセリン単位の数を示し、２〜２５の整数である）
   で表されるポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテル。
2. 請求項１に記載のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを含有する化粧料用組成物。
3. 請求項１に記載のポリグリセリンジアルキル又はアルケニルエーテルを１〜７０重量％、水を３０〜９９重量％含有するクレンジング化粧料用組成物。
4. 請求項３に記載のクレンジング化粧料用組成物を含有するクレンジング化粧料。
5. 更に、高分子化合物を含有する請求項４に記載のクレンジング化粧料。

Images