JP2013174713A - 光透過部材の形成方法および撮像装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 光学特性に優れた光透過部材を提供する。
【解決手段】 狭帯域光透過特性を有する光透過部を第１種区域群に形成する第１種工程の後に、光透過部を第２種区域群に形成する第２種工程と、広帯域光透過特性を有する光透過部を第１区域１に形成する第４種工程を行う。
【選択図】 図５

Description

本発明は、狭帯域光透過特性を有する光透過部と広帯域光透過特性を有する光透過部を有する光透過部材に関する。

ＣＣＤイメージセンサやＣＭＯＳイメージセンサなどの撮像装置では、従来、赤色光、青色光、緑色光など原色光透過用の光透過部（カラーフィルタ）をベイヤー方式などで配列した光透過部材（カラーフィルタアレイ）が用いられてきた。近年、撮像装置の機能追加や性能向上を目的として、原色光透過用の光透過部に加えて、補色光透過用や白色光透過用の光透過部を追加することが検討されている。これら補色光透過用や白色光透過用の光透過部は、原色光透過用の光透過部よりも光透過波長帯域が広い光透過特性（広帯域光透過特性）を有する。換言すれば、原色光透過用の光透過部は、補色光透過用や白色光透過用の光透過部よりも光透過波長帯域が狭い光透過特性（狭帯域光透過特性）を有する。
特許文献１には、輝度成分を検出することを目的として白色光透過用の光透過部を設けることが開示されている。特許文献２には、ダイナミックレンジの拡大を目的として白色光透過用の光透過部を設けることが開示されている。特許文献３と特許文献４には、焦点検出を目的として白色光透過用の光透過部を設けることが開示されている。特許文献４では、白色光透過用の光透過部Ｗに隣り合う、赤色光透過用の光透過部Ｒや形状に起因した画質の低下が指摘されており、それを解決する技術を提案している。

特開２００９−１３０５７５号公報 特開２０１１−２４３８１７号公報 特開２０１０−０２００５５号公報 特開２０１０−１４７１４３号公報

しかし、特許文献４の提案では、光透過部Ｗに隣り合う緑色光透過用の光透過部Ｇの形状や、光透過部Ｒに隣り合う光透過部Ｗと光透過部Ｇに隣りあう光透過部Ｗとの形状が十分に考慮されていない。
光透過部材において、広帯域光透過特性を有する光透過部と、狭帯域光透過特性を有する光透過部とが互いに隣り合うと、両者の光透過部の位置や形状によっては、両者が相互に影響し合って、光透過部材の光学特性を低下させる場合がある。

上記課題を解決するための本発明は、所定面内の第１区域と第２区域と第３区域と第４区域と第５区域と第６区域と第７区域と第８区域と第９区域を含む複数の区域の各々に光透過部が配され、前記所定面内の第１方向において、前記第１区域が前記第２区域と前記第３区域の間にあり、前記第２区域および前記第３区域が前記第６区域と前記第７区域の間にあり、前記第２区域が前記第１区域と前記第６区域に隣り合い、前記第３区域が前記第１区域と前記第７区域に隣り合い、前記所定面内の前記第１方向に交差する第２方向において、前記第１区域が前記第４区域と前記第５区域の間にあり、前記第４区域および前記第５区域が前記第８区域と前記第９区域の間にあり、前記第４区域が前記第１区域と前記第８区域に隣り合い、前記第５区域が前記第１区域と前記第９区域に隣り合い、前記第２区域と前記第３区域と前記第４区域と前記第５区域の各々に配された光透過部が所定値以上の透過率を示す波長帯域の少なくとも一部において、前記第１区域に配された光透過部が前記所定値以上の透過率を示し、かつ、前記第２区域と前記第３区域と前記第４区域と前記第５区域の各々に配された前記光透過部が前記所定値未満の透過率を有する波長帯域の少なくとも一部において、前記第１区域に配された光透過部が前記所定値以上の透過率を示す、光透過部材の形成方法であって、前記複数の区域の各々に対応する光透過膜を成膜し、成膜された前記光透過膜を前記複数の区域のいずれかに残留させて光透過部を形成する工程を、互いに異なる光透過特性を有する光透過膜を成膜するごとに行う、一連の工程を有し、前記一連の工程において、前記第２区域と前記第３区域と前記第４区域と前記第５区域に光透過部を形成した後に、前記第１区域と前記第６区域と前記第７区域と前記第８区域と前記第９区域に光透過部を形成することを特徴とする。

本発明によれば、良好な光学特性を有する光透過部材を提供することができる。

撮像装置の一例の模式図。 撮像装置の一例の模式図。 光透過特性の一例。 複数の区域の説明図。 第１実施形態の説明図。 第１実施形態の説明図。 参考形態の説明図。 参考形態の説明図。 第２実施形態の説明図。 第３実施形態の説明図。 第４実施形態の説明図。 前工程、後工程の変形例の説明図。 実施例の説明図。 実施例の説明図。

＜光透過部材と撮像装置＞
図１、図２を用いて、光透過部材を有する撮像装置の一例を説明する。図１（ａ）には撮像装置１０００としてＣＭＯＳイメージセンサを示している。撮像装置１０００は撮像領域１１００と補助領域１２００と周辺領域１３００を有することができる。撮像領域１１００には光電変換部と画素回路を有する受光画素（有効画素）が行列状に配列されている。補助領域１２００には光電変換部と画素回路を有する遮光画素（ＯＢ画素）や、画素回路を有し光電変換部を有しない無効画素（ＮＵＬＬ画素）を設けることができる。周辺領域１３００には画素回路からの信号に対してノイズ除去やＡＤ変換等の信号処理を行う信号処理回路や、画素回路や信号処理回路を駆動する駆動回路、外部との通信を行う電極パッドを設けることができる。本発明はとりわけ撮像領域１１００に関する。

本例の撮像領域１１００は第１の画素パターンを有する第１撮像領域１１１０と、第２の画素パターンを有する第２撮像領域１１２０とを含む。第１撮像領域１１１０における１６行×１６列の第１の画素パターンを図１（ｂ−１）に、第２撮像領域１１２０における１６行×１６列の第２の画素パターンを図１（ｂ−２）に示す。第１撮像領域１１１０は撮像領域１１００の中央に配されており、第２撮像領域１１２０は撮像領域１１００において第１撮像領域１１１０の周囲に配されている。図１（ｂ−１）、図１（ｂ−２）では画素の特定を容易にする便宜的な目的で、１６行の各々に対してＲ０１〜Ｒ１６を、１６列の各々に対してＣ０１〜Ｃ１６を示している。

図２はＲ０５／Ｃ０７〜Ｃ１１の５画素からなる画素群１１１０Ｒ分のＸ−Ｚ断面図とＲ１０／Ｃ０６〜Ｃ１０の５画素からなる画素群１１１０Ｌ分のＸ−Ｚ断面図を併記して示している。撮像装置１０００は複数の光電変換部５０１、５０２、５０３、５０４、５０５、５０６、５０７、５０８、５０９、５１０を有する半導体基板５００を備える。半導体基板５００の上には、第１金属層６１０と第２金属層６２０と第３金属層６３０を含む複数の金属層および絶縁膜６００が設けられている。第１金属層６１０と半導体基板５００の間、および各金属層の間には、絶縁膜６００を構成する層間絶縁層が設けられている。絶縁膜６００の上にはパッシベーション層および／または平坦化層を含む中間膜７００が設けられている。光透過部材８００は基体としての中間膜７００の上に設けられている。なお、基体を中間膜７００でなく、半導体基板５００あるいは絶縁膜６００としてもよく、これ以外の不図示の部材を基体としてもよい。画素群１１１０Ｌにおいて、光透過部材８００は複数の光透過部２０６、１０２、４０１、１０３、２０７を有しており、画素群１１１０Ｒにおいて、光透過部材８００は複数の光透過部３０６、１０２’、４０１’、１０３’、３０７を有している。これら複数の光透過部は、中間膜７００の表面から所定距離Ｄだけ離れた位置の仮想的な平面である所定面ＰＰ内に位置しており、撮像領域１１００においては、複数の光透過部は撮像面に沿って２次元状に配列されている。また、光透過部材８００は、各光透過部２０６、１０２、４０１、１０３、２０７、３０６、１０２’、４０１’、１０３’、３０７の上設けられた、複数の集光部８６１、８６２、８６３、８６４、８６５、８６６、８６７、８６８、８６９、８７０を有する。複数の集光部は、それぞれがマイクロレンズである。複数の光電変換部５０１、５０２、５０３、５０４、５０５、５０６、５０７、５０８、５０９、５１０と、複数の光透過部２０６、１０２、４０１、１０３、２０７、３０６、１０２’、４０１’、１０３’、３０７と、複数の集光部８６１、８６２、８６３、８６４、８６５、８６６、８６７、８６８、８６９、８７０とが、それぞれ対応関係を有しており、画素を成している。

説明のために、所定面ＰＰを複数の区域に区分する。図３には複数の区域として、第１区域１、第２区域２、第３区域３、第４区域４、第５区域５、第６区域６、第７区域７、第８区域８、第９区域９、第１０区域１０、第１１区域１１、第１２区域１２、第１３区域１３を示している。本例では、各区域の形状は四角形であるが、少なくともいずれかの区域が六角形や八角形であってもよく、各区域の形状が互いに異なっていてもよい。

複数の区域の位置関係を説明するために、所定面ＰＰ内にＸ方向とＹ方向とφ方向とθ方向を定義する。Ｘ方向とＹ方向とφ方向とθ方向は互いに交差する。本例のように典型的には、Ｘ方向とＹ方向、θ方向とφ方向は、それぞれ互いに直交するが、これに限定されることはなく、例えばＸ方向とＹ方向の成す角度が６０度であってもよい。また、本例のように典型的にはＸ方向とφ方向、Ｙ方向とφ方向、Ｘ方向とθ方向、Ｙ方向とθ方向のそれぞれの成す角度は４５°であるが、４５度以外の角度であってもよい。本例では、撮像領域１１００に設けられた複数の水平走査線（不図示）がＸ方向に沿って設けられ、複数の垂直出力線（不図示）がＹ方向に沿って設けられる。しかし、複数の水平走査線がＸ方向およびＹ方向に交差して例えばφ方向に沿って設けられ、複数の水平走査線がＸ方向およびＹ方向に交差して例えばθ方向に沿って設けられていてもよい。

Ｘ方向において、第１区域１が第２区域２と第３区域３の間にある。Ｘ方向において、第２区域２および第３区域３が第６区域６と第７区域７の間にある。第２区域２が第１区域１と第６区域６に隣り合う。第３区域３が第１区域１と第７区域７に隣り合う。すなわち、Ｘ方向の−Ｘ側から＋Ｘ側へ向かって、第６区域６と第２区域２と第１区域１と第３区域３と第７区域７がこの順で連続して並んでいる。

Ｙ方向において、第１区域１が第４区域４と第５区域５の間にある。Ｙ方向において、第４区域４および第５区域５が第８区域８と第９区域９の間にある。第４区域４が第１区域１と第８区域８に隣り合い、第５区域５が第１区域１と第９区域９に隣り合う。すなわち、Ｙ方向の−Ｙ側から＋Ｙ側へ向かって、第８区域８と第４区域４と第１区域１と第５区域５と第９区域９がこの順で連続して並んでいる。

φ方向において第１区域１が第１０区域１０と第１１区域１１の間にある。第１０区域１０が第２区域２および第５区域５に隣り合う。第１１区域１１が第３区域３および第４区域４に隣り合う。すなわち、φ方向の−φ側から＋φ側へ向かって、第１０区域１０と第１区域１と第１１区域１１がこの順で並んでいる。

第１０区域１０と第１１区域１１の間隔は、第６区域６と第７区域７の間隔および第８区域８と第９区域９の間隔よりも狭い。本例では、第１０区域１０と第１１区域１１の間隔は第２区域２と第３区域３の間隔および第４区域４と第５区域５の間隔よりも広い。しかし第１０区域１０と第１１区域１１の間隔は第２区域２と第３区域３の間隔および第４区域４と第５区域５の間隔の少なくとも一方の間隔以下であってもよい。

なお、本例では、第１０区域１０は第１区域１に点で隣り合っているが、辺で隣り合っていてもよい。第１０区域１０と第１区域１との間に第２区域２と第５区域５の一部が位置する場合には、第１０区域１０が第１区域１に隣り合わなくてもよい。第１１区域１１と第１区域１と第３区域３と第４区域４についても同様である。

θ方向において第１区域１が第１２区域１２と第１３区域１３の間にある。第１２区域１２が第２区域２および第４区域４に隣り合う。第１３区域１３が第３区域３および第５区域５に隣り合う。すなわち、θ方向の−θ側から＋θ側へ向かって、第１２区域１２と第１区域１と第１３区域１３がこの順で並んでいる。

第１２区域１２と第１３区域１３の間隔は、第６区域６と第７区域７の間隔および第８区域８と第９区域９の間隔よりも狭い。本例では、第１２区域１２と第１３区域１３の間隔は第２区域２と第３区域３の間隔および第４区域４と第５区域５の間隔よりも広い。しかし、第１２区域１２と第１３区域１３の間隔は第２区域２と第３区域３の間隔および第４区域４と第５区域５の間隔の少なくとも一方の間隔以下であってもよい。

なお、本例では、第１２区域１２は第１区域１に点で隣り合っているが、辺で隣り合っていてもよい。第１２区域１２と第１区域１との間に第２区域２と第４区域４の一部が位置する場合には、第１２区域１２が第１区域１に隣り合わなくてもよい。第１３区域１１と第１区域１と第３区域と第５区域５についても同様である。

第２区域２と第３区域３と第４区域４と第５区域５を含む区域群を「第１種区域群」と称する。第１種区域群の各区域は第１区域１に隣り合う。第６区域６と第７区域７と第８区域８と第９区域９を含む区域群を「第２種区域群」と称する。第２種区域群の各区域は、第１種区域群に隣り合い、第１種区域群に対して第１区域１とは反対側に位置する。第１０区域１０と第１１区域１１と第１２区域１２と第１３区域１３を含む区域群を「第３種区域群」と称する。第３種区域群の各区域は、第１種区域群に隣り合い、第２種区域群よりも第１区域１の近くに位置する。本実施形態では、とりわけ、第１区域１と第１種区域群と第２種区域群が重要である。

図２に示した光透過部材８００の複数の光透過部２０６、１０２、４０１、１０３、２０７、３０６、１０２’、４０１’、１０３’、３０７、は、互いに光透過特性が異なる。具体的には、光透過部１０２、１０３、１０２’、１０３’は、第１光透過特性Ｇを有する。光透過部２０６、２０７は、第２光透過特性Ｂを有する。光透過部３０６、３０７は、第３光透過特性Ｒを有する。光透過部４０１、４０１’は第４光透過特性Ｗを有する。典型的な撮像装置においては、第１光透過特性Ｇを有する光透過部１０２、１０３、１０２’、１０３’と、第２光透過特性Ｂを有する光透過部２０６、２０７と、第３光透過特性Ｒを有する光透過部３０６、３０７は、それぞれカラーフィルタである。そのため、典型的な撮像装置においては、光透過部材８００はカラーフィルタアレイを含む。なお、図１（ｂ−１）、図１（ｂ−２）に示したＧ，Ｂ，Ｒ，Ｗは、図２に示した、中間膜７００の表面から所定距離Ｄだけ離れた位置の仮想的な平面である所定面ＰＰにおける各画素ごとの光透過部の光透過特性を表している。以下の説明では、第１区域１に位置する光透過部４０１、４０１’は、第４光透過特性を有するものとして説明を行う。例えば、図１（ｂ−１）に示したように、Ｒ１０／Ｃ０８の画素の光透過部４０１が第１区域１に位置するから、Ｒ１０／Ｃ０７とＲ１０／Ｃ０９とＲ０９／Ｃ０８とＲ１１／Ｃ０８の画素の光透過部が第１種区域群に位置することになる。また、Ｒ１０／Ｃ０６とＲ１０／Ｃ１０とＲ０８／Ｃ０８とＲ１２／Ｃ０８の画素の光透過部が第２種区域群に位置することになる。また、Ｒ０９／Ｃ０７とＲ０９／Ｃ０９とＲ１１／Ｃ０７とＲ１１／Ｃ０９の画素の光透過部が第３種区域群に位置することになる。

図４には第１光透過特性Ｇ，第２光透過特性Ｂ，第３光透過特性Ｒ，第４光透過特性Ｗの分光透過率の一例を示している。ここで、第１光透過特性Ｇ，第２光透過特性Ｂおよび第３光透過特性Ｒを狭帯域光透過特性と総称し、第４光透過特性Ｗを広帯域光透過特性と言い換える。狭帯域光透過特性の各々について、他の狭帯域光透過特性より高い透過率を示す波長帯域を「相対的透過波長帯域」と呼ぶことにする。狭帯域光透過特性の各々について、他の狭帯域光透過特性の透過率以下の透過率を示す波長帯域を「相対的不透過波長帯域」と呼ぶことにする。例えば、第１光透過特性Ｇを有する光透過部は、その相対的透過波長帯域である波長帯域ｇ１において、第２光透過特性Ｂを有する光透過部および第３光透過特性Ｒを有する光透過部よりも高い透過率を示す。第１光透過特性Ｇを有する光透過部は、その相対的不透過波長帯域である波長帯域ｂ１において、第２光透過特性Ｂを有する光透過部の透過率以下の透過率を示す。第１光透過特性Ｇを有する光透過部は、その相対的不透過波長帯域である波長帯域ｒ１において、第３光透過特性Ｒを有する光透過部の透過率以下の透過率を示す。第２光透過特性Ｂの相対的透過波長帯域である波長帯域ｂ１と、第２光透過特性Ｂの相対的不透過波長帯域である波長帯域ｇ１、ｒ１についても同様である。第３光透過特性Ｒの相対的透過波長帯域である波長帯域ｒ１と、第３光透過特性Ｒの相対的不透過波長帯域である波長帯域ｇ１、ｂ１についても同様である。

また、狭帯域光透過特性の各々について、所定値以上の透過率を示す波長帯域を「絶対透過波長帯域」と呼ぶことにする。狭帯域光透過特性の各々について、所定値未満の透過率を示す波長帯域を「絶対的不透過波長帯域」と呼ぶことにする。所定値は２５％以上であればよいが、実用的には所定値は５０％以上とする。図４には、所定値を５０％とした場合の、第１光透過特性Ｇの絶対的透過波長帯域である波長帯域ｇ２と第２光透過特性Ｂの絶対的透過波長帯域である波長帯域ｂ２と第３光透過特性Ｒの絶対的透過波長帯域である波長帯域ｒ２を示している。図４から理解されるように、光透過特性Ｒ，Ｇ，Ｂごとの相対的透過波長帯域は互いに重ならないが、絶対的透過波長帯域は重なる場合がある。所定値は、絶対的透過波長帯域が相対的波長帯域よりも狭くなるように設定するとよい。たとえば、図４の光透過特性Ｒ，Ｇ，Ｂにおいて、所定値を７５％に設定すると、各光透過特性の絶対的透過波長帯域は、その光透過特性の相対的透過波長よりも狭くなる。

本例では、狭帯域光透過特性を有する光透過部２０６、１０２、１０３、２０７、３０６、１０２’、１０３’、３０７は、原色光透過用のカラーフィルタである。そのため、第１光透過特性Ｇと第２光透過特性Ｂと第３光透過特性Ｇの各々について、相対的透過波長帯域および絶対的透過波長帯域が連続した１つの波長帯域のみで構成されている。具体的には、第１光透過特性Ｇの相対的透過波長帯域ｇ１と絶対的透過波長帯域ｇ２は緑色光の波長帯域にあり、青色光の波長帯域と赤色光の波長帯域にはない。第２光透過特性Ｂの相対的透過波長帯域ｂ１と絶対的透過波長帯域ｂ２は青色光の波長帯域にあり、緑色光と赤色光の波長帯域にはない。第３光透過特性Ｒの相対的透過波長帯域ｒ１と絶対的透過波長帯域ｒ２は赤色光の波長帯域にあり、緑色光と青色光の波長帯域にはない。

しかし、光透過部２０６、１０２、１０３、２０７、３０６、１０２’、１０３’、３０７は、原色光透過用のカラーフィルタであることには限定されない。例えば、各透過部のいずれかが青緑色（シアン）、赤紫色（マゼンタ）、黄色（イエロー）など、原色光に対する補色光透過用のカラーフィルタであってもよい。その場合、各透過部の光透過特性において、相対的透過波長帯域および／または絶対的透過波長帯域が互いに分離した複数の波長帯域で構成される場合がある。また、狭帯域光透過特性を有する光透過部が、原色光透過用のカラーフィルタである光透過部と、原色光に対する補色光透過用のカラーフィルタである光透過部を含んでいてもよい。

少なくとも第１種区域群の全区域に位置する光透過部は、それぞれが狭帯域光透過特性を有する。図１（ｂ−１）に示した例では、第１種区域群の全区域に位置する光透過部は全て第１光透過特性Ｇを有する。なお、第１種区域群の全区域に位置する光透過部が互いに異なる狭帯域光透過特性を有していてもよい。また、第２種区域群と第３種区域群に位置する光透過部は狭帯域光透過特性を有していてもよいし、広帯域光透過特性を有していてもよい。

そして、上述したように、第４光透過特性Ｗとして説明した、第１区域１に位置する光透過部４０１、４０１’の光透過特性（広帯域光透過特性）は次の条件（１）および条件（２）を満たす。

条件（１） 第４光透過特性Ｗは、第１種区域群の全区域の各々に位置する光透過部の光透過特性の絶対的透過波長帯域の少なくとも一部において、所定値以上の屈折率を示す。

条件（２） 第４光透過特性Ｗは、第１種区域群の全区域の各々に位置する光透過部の光透過特性の絶対的不透過波長帯域の少なくとも一部において、所定値以上の屈折率を示す。

例えば、第１種区域群の全区域に位置する光透過部が全て第１光透過特性Ｇを有する場合、第４光透過特性Ｗは、第１光透過特性Ｇの絶対的透過波長帯域である波長帯域ｇ２において、所定値以上の透過率を示すため、条件（１）を満たす。加えて、第４光透過特性Ｗは、第１光透過特性Ｇの絶対的透過波長帯域である波長帯域ｒ２とｂ２の少なくとも一方において、所定値以上の透過率を示すため、条件（２）を満たす。本例のように、第４光透過特性Ｗは、絶対的透過波長帯域および絶対的不透過波長帯域の全帯域において、所定値以上の屈折率を示すことが好ましい。

第１種区域群の全区域に位置する光透過部が全て同じ光透過特性を有する必要はない。第１種区域群の一部の区域に位置する光透過部が第１光透過特性Ｇを有し、第１種区域群の残りの一部の区域に位置する光透過部が第２光透過特性Ｂを有する場合について説明する。第４光透過特性Ｗは、第１光透過特性Ｇの絶対的透過波長帯域である波長帯域ｇ２において、所定値以上の透過率を示し、かつ、第４光透過特性Ｗは、第２光透過特性Ｂの絶対的透過波長帯域である波長帯域ｂ２において、所定値以上の透過率を示すため、条件（１）を満たす。加えて、第４光透過特性Ｗは、第１光透過特性Ｇの絶対的不透過波長帯域であり、かつ、第２光透過特性Ｂの絶対的不透過波長帯域である波長帯域ｒ２において、所定値以上の透過率を示すため、条件（２）を満たす。

第１区域１に位置する光透過部４０１、４０１’の光透過特性（広帯域光透過特性）は次の条件（３）を満たすことが好ましい。

条件（３） 第４光透過特性Ｗは、第１種区域群の全区域の各々に位置する光透過部の光透過特性の絶対的透過波長帯域において、第１種区域群の全区域の各々に位置する光透過部の透過率の最大値より高い透過率を示す。

図４の例では、第１光透過特性Ｇの絶対的透過波長帯域である波長帯域ｇ２において、第４光透過特性Ｗの透過率は５０％以上であり、さらには、第１光透過特性Ｇの透過率（８６％）より高い透過率（９５％以上）を示す。第２光透過特性Ｂの絶対的透過波長帯域である波長帯域ｂ２において、第４光透過特性Ｗの透過率は５０％以上であり、さらには、第２光透過特性Ｂの透過率（７８％）より高い透過率（９０％以上）を示す。第３光透過特性Ｒの絶対的透過波長帯域である波長帯域ｒ２において、第４光透過特性Ｗの透過率は５０％以上であり、さらには、第３光透過特性Ｒの透過率（９４％）より高い透過率（９５％以上）を示す。このように、典型的には、第４光透過特性Ｗを有する光透過部は白色光透過用の材料からなる。

第１区域１に位置する光透過部が白色光透過用の材料からなることには限定されない。第１種区域群の全区域に位置する光透過部が全て緑色光透過用のカラーフィルタである場合、第１区域１に位置する光透過部が、黄色光透過用または青緑色光透過用のカラーフィルタであっても上記条件（１）および条件（２）を満たすことができる。また、第１種区域群に位置する光透過部が緑色光透過用のカラーフィルタと青色光透過用のカラーフィルタである場合、第１区域１に位置する光透過部が赤紫光透過用のカラーフィルタであっても、上記条件（１）および条件（２）を満たすことができる。なお、第１種区域群に、赤色光透過用のカラーフィルタと緑色光透過用のカラーフィルタと青色光透過用のカラーフィルタが位置する場合には、第１区域１に位置する光透過部としては白色光透過用の材料が用いられる。また、第１種区域群に、原色光に対する補色光透過用のカラーフィルタが位置する場合にも、第１区域１に位置する光透過部としては白色光透過用の材料が用いられる。

図１に示した撮像装置は、撮像面で焦点検出が可能である。第１撮像領域１１１０は狭帯域光透過特性（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を有する光透過部が設けられた撮像用画素と、広帯域光透過特性（Ｗ）を有する光透過部が設けられた焦点検出用画素を含んでいる。第１撮像領域１１２０は撮像用画素のみを含み焦点検出用画素を含んでいない。なお、本例のように焦点検出用画素を撮像領域１１００の一部に偏在させた配置に限らず、焦点検出用画素を撮像領域１１００の全体に遍在させた配置を採用することもできる。また、焦点検出用画素は撮像用画素として兼用することもできる。

本例では、Ｒ０５／Ｃ０９（５行目９列目）とＲ１０／Ｃ０８（５行目９列目）の画素が焦点検出用画素であり、この２つの焦点検出用画素が対になって焦点検出を行う。このほか、図１（ｂ−１）では、Ｒ０３／Ｃ０３とＲ０６／Ｃ０２の焦点検出用画素が対になり、Ｒ０３／Ｃ１５とＲ０６／Ｃ１４の焦点検出用画素が対になり、Ｒ１５／Ｃ０３とＲ１２／Ｃ１４の焦点検出用画素が対になっている。

図２に示す様に、Ｒ０５／Ｃ０９の焦点検出用画素では第１金属層７１０の一部が光電変換部５０３の一部を遮光している。Ｒ０５／Ｃ０９の焦点検出用画素に入射した光は、第１金属層６１０のスリットを介して図面上、光電変換部５０３の左半分にのみ入射し得るように構成されている。図２に示す様に、Ｒ１０／Ｃ０８の焦点検出用画素では第１金属層６１０の一部が光電変換部５１３の一部を遮光している。図２Ｒ１０／Ｃ０８の焦点検出用画素に入射した光は、第１金属層６１０のスリットを介して、図面上光電変換部５０８の右半分にのみ入射し得るように構成されている。このような構成において、図２に示した光線のように、図面上で右斜め上から入射した光は、Ｒ０５／Ｃ０９の焦点検出用画素で検出される。また、図２には不図示であるが、図面上で左斜め上から入射した光線は、Ｒ１０／Ｃ０８の焦点検出用画素で検出される。対になるＲ０５／Ｃ０９の焦点検出用画素ＷとＲ１０／Ｃ０８の焦点検出用画素の信号を比較することにより、撮像領域１１００で撮影する像の合焦状態を判断することが可能になる。なお、図２に示す様に、焦点検出用画素の集光部８６３、８６８は、他の集光部に比べて焦点距離が短くなっている、すなわち、他の集光部に比べて集光部８６３、８６８の焦点が所定面ＰＰに近いことが好ましい。本例では、集光部８６３、８６８は他の集光部に比べて曲率が大きく、さらに、厚みも大きいが、曲率と厚みのどちらか一方のみが大きくてもよい。撮像用画素の集光部は第１金属層６１０に対して光電変換部側に焦点を形成するのに対し、焦点検出用画素の集光部は撮像用画素の集光部よりも光電変換部から遠い位置、本例では第１金属層６１０の高さに焦点を形成する。これにより、焦点検出の精度を向上することができる。本例では、対を成す２つの焦点検出用画素を用いて焦点検出を行うものとして説明したが、焦点検出用画素の光電変換部を、拡散分離や絶縁分離を用いて互いに電気的に分離した複数の光電変換領域を有するように構成することもできる。その場合、複数の光電変領域の各々で光電変換された信号電荷に基づく信号を比較することにより、一つの焦点検出用画素で焦点検出が可能となる。

なお、広帯域光透過特性を有する光透過部が設けられた画素が、焦点検出用画素であることは必須ではなく、単なる撮像用画素として用いてもよいし、測光用画素や、ダイナミックレンジを向上するための画素として用いてもよい。

＜光透過部材の形成方法＞
光透過部材の形成方法は、大別して、前工程、主工程、後工程を有することができる。前工程は、主工程に備えて基体を用意する工程である。主工程は、複数の区域の各々に光透過部を形成する工程である。後工程は、複数の集光部を形成する工程である。後工程は省略することもできる。

実施形態に係る光透過部材の形成方法においては、主工程で、第１区域１と第１種区域群と第２種区域群に少なくとも２種類の光透過特性を有する光透過部を形成する。第１区域１には第４光透過特性Ｗを有する光透過部が形成され、第１種区域群の全区域の各々には、第１光透過特性Ｇと第２光透過特性Ｂと第３光透過特性Ｒから選ばれた光透過特性を有する光透過部が形成される。

所定の光透過特性を有する光透過部は、成膜段階を含む形成工程によって形成される。成膜段階では所定の光透過特性を有する光透過膜を基体上に成膜する。成膜段階で成膜される光透過膜の厚みは所定距離Ｄよりも大きい。成膜段階で成膜する光透過膜は複数の区域の全区域に対応して成膜される。詳細には、光透過膜は、複数の区域の全区域の各々に対して、その区域に位置するか、その区域に位置せずにその区域の上方に位置するかのいずれかの状態で成膜される。第１区域１と第１種区域群と第２種区域群に少なくとも２種類の光透過特性を有する光透過部を形成するため、光透過部材の形成方法は、各々が、互いに異なる光透過特性を有する光透過膜を基体上に成膜する成膜段階を含む複数の形成工程を有する。複数の形成工程からなる一連の工程が主工程である。なお、複数の形成工程は、同じ光透過特性を有する光透過膜を基体上に成膜する成膜段階を２回に分けて有していてもよい。複数の形成工程の工程数をｎとして、複数の形成工程の最初の形成工程を第１次工程と称し、第１次工程の次の形成工程を第２次工程と称し、複数の形成工程の最後の形成工程を第ｎ次工程と称する。

各形成工程における成膜段階では、複数の区域の全区域に対応して成膜できる成膜法が選択され、液相成膜か固相成膜が用いられる。液相成膜では回転塗布法（スピンコーティング法）や浸漬法（ディッピング法）、噴霧法（スプレー法）などの塗布法を用いることができる。固相成膜では、スパッタ法や蒸着法などを用いることができる。なお、形成工程ごとに成膜法を変えてもよい。回転塗布法が特に実用的であり、好ましく用いることができる。液相成膜でもインクジェット法やスクリーン印刷法は、複数の区域のいずれかに光透過膜が成膜されない区域が生じやすいため、避けることが好ましい。

複数の形成工程の各々は、必要に応じて、その形成工程で成膜された光透過膜の一部を除去してパターニングするパターニング段階を含み得る。パターニング段階では、レジストマスクを用いて光透過膜のエッチングを行うことにより光透過膜をパターニングすることができる。感光性を有する光透過膜を用いることにより、フォトマスクを用いて光透過膜を露光し、現像することにより光透過膜をパターニングすることもできる。光透過部材の形成を簡略化する上では、後者の方法が好ましい。複数の工程の内、パターニング段階を行わない形成工程では、光透過膜が感光性を有する必要はない。

複数の形成工程の内、第１種区域群に残留させるパターニング段階を含む全ての形成工程を、「第１種工程」と称する。１つの形成工程のみが第１種工程に該当する場合もあるし、２つ以上の形成工程が第１種工程に該当する場合もある。

複数の形成工程の内、第２種区域群に残留させるパターニング段階を含む全ての形成工程を、「第２種工程」と称する。１つの形成工程のみが第２種工程に該当する場合もあるし、２つ以上の形成工程が第２種工程に該当する場合もある。

複数の形成工程の内、第３種区域群に残留させるパターニング段階を含む全ての形成工程を、「第３種工程」と称する。１つの形成工程のみが第３種工程に該当する場合もあるし、２つ以上の形成工程が第３種工程に該当する場合もある。

複数の形成工程の内、第１区域１に第４光透過特性Ｗを有する膜を成膜する形成段階を「第４種工程」と称する。

光透過部材の形成方法では、少なくとも次の条件（ｉ）、（ｉｉ）を満たす形成方法を採用する。条件（ｉ）および条件（ｉｉ）を満たすことで、良好な光学特性を有する光透過部材８００を形成することができる。

条件（ｉ） 第２種工程を第１種工程の後に行う。
条件（ｉｉ） 第４種工程を第１種工程の後に行う。

条件（ｉ）および条件（ｉｉ）を満たした上で、第１種工程と第２種工程と第３種工程の第４種工程の順序を適宜設定することができる。また、条件（ｉ）および条件（ｉｉ）を満たした上で、第２種工程と第３種工程と第４種工程の内の２つ以上の工程を同時に行うことができ、第１種工程と第３種工程を同時に行うこともできる。

複数の形成工程の内、少なくとも第４種工程の前に行う全ての形成工程では、各形成工程で成膜された光透過膜の第１区域１に位置する部分を除去するパターニング段階を含む。これは、第４種工程で第１区域１に光透過膜の一部を第１区域１に配置するためである。

また、各実施形態では、次の条件（ｉｉｉ）を満たす形成方法を採用することが好ましい。条件（ｉｉｉ）を満たすことで、より良好な光学特性を有する光透過部材８００を形成することができる。これは、第１種工程で形成される光透過部の形状が第３種工程で形成される光透過部の形状に影響されないことが一因として挙げられる。

条件（ｉｉｉ） 第３種工程を第１種工程の後に行う。

また、次の条件（ｉｖ）を満たす形成方法を採用することが好ましい。条件（ｉｖ）を満たすことで、より良好な光学特性を有する光透過部材８００を形成することができる。これは、第４種工程で形成される光透過部の形状が第３種工程で形成される光透過部の形状に影響されないことが一因として挙げられる。

条件（ｉｖ） 第４種工程を第３種工程の後に行う。

各実施形態では、次の条件（ｖ）を満たす形成方法を採用することが好ましい。条件（ｖ）を満たすことで、より良好な光学特性を有する光透過部材８００を形成することができる。また、光透過部材８００を簡単に形成することができる。

条件（ｖ） 第４種工程を最後に行う。

第４種工程の後に第２種工程と第３種工程の少なくとも一方を行う場合には、第４種工程の後に行う形成工程で成膜される光透過膜を残留させる区域から、第４種工程で成膜される光透過膜を除去するパターニング段階を第４種工程が含むことになる。一方、条件（ｖ）を満たす場合、第４種工程が、第４種工程で成膜される光透過膜を除去するパターニング段階を含む必要はない。

第１種工程と第２種工程と第３種工程と第４種工程の順序の組み合わせは４！＝２４通り考えられる。なお、下記の２４通りの中には順番が前後する２つ以上の工程を同時に行う場合も含まれる。例えば、２番目として記載した種類の工程と３番目として記載した種類の工程を同時に行うこともできる。表１には、２４通りの方法イ、ロ、ハ・・・ウについて、条件（ｉ）と条件（ｉｉ）のそれぞれについて、条件を満たす方法には○を、満たさない方法には×を付した。また、条件（ｉｉｉ）と条件（ｉｖ）と条件（ｖ）について、条件を満たす方法には○を、満たさない方法には△を付した。条件（ｉ）と条件（ｉｉ）の少なくとも一方を満たさない方法には×の判定を付している。条件（ｉｉｉ）と条件（ｉｖ）のうち、１つを満たし１つを満たさない方法には△または□の判定を付し、２つを満たす方法には○または◎の判定を付している。このうち、条件（ｖ）を満たす方法には□または◎を付している。判定が×よりも△、△よりも□、□よりも○、○よりも◎の方法が、良好な光学特性を有する光透過部材を得ることができる。方法イ、ロ、ハ、ニ、ホ、ヘ、チ、ヌが本実施形態の範疇に含まれる。

後工程では、複数の集光部を形成する。集光部としてのマイクロレンズは、リフロー法やエッチバック法、階調露光法、インプリント（型押し）法等を用いて形成することができる。必要に応じて平坦化層や反射抑制層を形成することもできる。

＜撮像装置の製造方法＞
撮像装置の製造方法は、半導体基板に複数の光電変換部、画素回路、制御回路、信号処理回路を構成するダイオードやトランジスタなどの半導体素子形成する素子工程を有する。素子工程では、イオン注入等の公知の方法を用いることが出来る。このようにして、複数の光電変換部を有する半導体基板５００を形成する。また、ダイオードやトランジスタなどを配線で必要に応じてこれらの半導体素子を配線する配線工程を有する。配線工程では、公知の方法で複数の金属層６１０〜６３０および複数の層間絶縁層を含む絶縁膜６００を形成する。そして、光透過性部材を形成する工程を有する。光透過性部材を上述した光透過性部材の形成方法を用いて形成する。典型的には、光透過性部材を形成する工程は素子工程および配線工程の後に行われるが、必要に応じて、配線工程の一部を光透過性部材の形成後に行ってもよい。

以下、光透過部材の形成方法の実施形態について具体的に説明する。

＜第１実施形態＞
図５（ａ）〜（ｆ）および図６（ａ）〜（ｆ）には方法イを採用した場合の一例である第１実施形態を示している。なお、図５（ａ）〜（ｆ）において、光透過部を形成済の区域を示す符号は□で囲んでいる。図６（ａ）〜（ｆ）は光透過部材の形成工程における断面図を示している。図６（ａ）〜（ｆ）において、下段は、図４においてＸ方向の−Ｘ側から＋Ｘ側にこの順で並んだ、第６区域６と第２区域２と第１区域１と第３区域３と第７区域７を含む領域の断面図である。図６（ａ）〜（ｆ）において、上段は、図４においてＸ方向の−Ｘ側から＋Ｘ側にこの順で並んだ、第１０区域１０と第５区域５と第１３区域１３を含む領域の断面図である。

前工程：絶縁膜６００の上に、窒化シリコンからなるパッシベーション層を形成し、樹脂からなる平坦化層を回転塗布法を用いて形成する。これにより、上面が平坦な中間膜７００が得られる。エッチバック法を用いて平坦化してもよい。このようにして、平坦な面を有する中間膜７００を基体として準備する。図５（ａ）、図６（ａ）は図４で説明したように、中間膜７００上に光透過部材８００を形成する前の所定面ＰＰの各区域を示している。

第１次工程：まず、中間膜７００上に第１光透過特性Ｇを有する光透過膜１００を成膜する成膜段階を行う（図６（ｂ−１））。そして、光透過膜１００を、第１種区域群の第２区域２、第３区域３、第４区域４、第５区域５に残留させ、第２種区域群の全区域、第２種区域群の全区域および第１区域１から除去するパターニング段階を行う（図６（ｂ−２））。この第１次工程により第１種区域群の全区域に第１光透過特性Ｇを有する光透過部（光透過部１０２、１０３、１０５のみ図示）を形成する（図５（ｂ））。この第１次工程が第１種工程に該当する。

第２次工程：第１次工程の後に、中間膜７００上に第２光透過特性Ｂを有する光透過膜２００を成膜する成膜段階を行う（図６（ｃ−１））。そして、光透過膜２００を、第２種区域群の第５区域５、第６区域６、第７区域７、第８区域および第９区域９に残留させ、第１種区域群の全区域の上方、第３種区域群および第１区域１から除去するパターニング段階を行う（図６（ｃ−２））。なお、第１種区域群の上方から除去するのは、第１種区域群にはすでに第１光透過特性Ｇを有する光透過部が存在しているため、光透過膜２００の一部は第１光透過特性Ｇを有する光透過部の上に位置していることを意味する。この第２次工程により第２種区域群の全区域に第２光透過特性Ｂを有する光透過部（光透過部２０６、２０７のみ図示）を形成する（図５（ｃ））。この第２次工程が第２種工程に該当する。

第３次工程：第２次工程の後に、中間膜７００上に第３光透過特性Ｒを有する光透過膜３００を成膜する成膜段階を行う（図６（ｄ−１））。そして、光透過膜３００を、第３種区域群の第１０区域１０、第１１区域１１、第１２区域１２および第１３区域１３に残留させ、第１種区域群の全区域の上方と、第２種区域群の全区域の上方と、第１区域１から除去するパターニング段階を行う（図６（ｄ−２））。この第３次工程により第３種区域群の全区域に第３光透過特性Ｒを有する光透過部（光透過部３１０、３１３のみ図示）を形成する（図５（ｄ））。この第３次工程が第３種工程に該当する。

第４次工程：第３次工程の後に、中間膜７００上に第４光透過特性Ｗを有する光透過膜４００を成膜する成膜段階を行う（図６（ｅ））。その後は、撮像領域１１００内でパターニング段階は行わない。したがって、光透過膜４００は、第１種区域群の上方、第２種区域群の上方および第３種区域群の上方に残留したままである。この第４次工程により第１区域１に第４光透過特性Ｗを有する光透過部４０１を形成する。この第４次工程が第４種工程に該当する（図５（ｅ））。

後工程：第４次工程の後に、光透過膜４００上に複数の集光部を形成する。複数の集光部の内、第１種区域群の全区域の上方に位置する集光部と第１種区域群に設けられた光透過部の間には光透過膜４００が介在している。

以上のようにして、光透過部材８００を形成することができる。

＜参考形態＞
図７（ａ）〜（ｆ）および図８（ａ）〜（ｆ）には方法リを採用した場合の参考形態を示している。図７（ａ）〜（ｆ）および図８（ｂ）〜（ｆ）の表現方法は図５（ａ）〜（ｆ）および図６（ａ）〜（ｆ）と同じであるので、説明を省略する。

前工程：図７（ａ）は図４で説明したように、中間膜７００上に光透過部材８００を形成する前の所定面ＰＰの各区域を示しており、図７（ａ）に対応する断面図は図６（ａ）と同様であるので説明を省略する。

第１次工程：まず、中間膜７００上に第２光透過特性Ｂを有する光透過膜２００を成膜する成膜段階を行う（図８（ｂ−１））。そして、光透過膜２００を、第２種区域群の第６区域６、第７区域７、第８区域８、第９区域９に残留させ、第１種区域群の全区域、第３種区域群の全区域および第１区域１から除去するパターニング段階を行う（図８（ｂ−２））。この第１次工程により第２種区域群の全区域に第２光透過特性Ｂを有する光透過部（光透過部３０６、３０７のみ図示）を形成する（図７（ｂ））。この第１次工程が第２種工程に該当する。

第２次工程：第１次工程の後に、中間膜７００上に第１光透過特性Ｇを有する光透過膜１００を成膜する成膜段階を行う（図８（ｃ−１））。そして、光透過膜１００を、第１種区域群の第２区域２、第３区域３、第４区域４、第５区域５に残留させ、第２種区域群の全区域の上方、第３種区域群および第１区域１から除去するパターニング段階を行う（図８（ｃ−２））。なお、第２種区域群の上方から除去するのは、第２種区域群にはすでに第２光透過特性Ｂを有する光透過部が存在しているため、光透過膜１００の一部は第２光透過特性Ｂを有する光透過部の上に位置していることを意味する。この第２次工程により第１種区域群の全区域に第１光透過特性Ｇを有する光透過部（光透過部１０２、１０３、１０５のみ図示）を形成する（図７（ｃ））。この第２次工程が第１種工程に該当する。

第３次工程：第２次工程の後に、中間膜７００上に第４光透過特性Ｗを有する光透過膜４００を成膜する成膜段階を行う（図８（ｄ−１））。そして、光透過膜４００を、第１区域１に残留させ、第１種区域群の全区域の上方と、第２種区域群の全区域の上方と第３区域群の全区域から除去するパターニング段階を行う（図８（ｄ−２））。この第３次工程により第１区域１に第４光透過特性Ｗを有する光透過部（光透過部４０１）を形成する（図７（ｄ））。この第３次工程が第４種工程に該当する。

第４次工程：第３次工程の後に、中間膜７００上に第３光透過特性Ｒを有する光透過膜３００を成膜する成膜段階を行う（図８（ｅ））。そして、光透過膜３００を、第３種区域群の第１０区域１０、第１１区域１１、第１２区域１２および第１３区域１３に残留させ、第１種区域群の全区域の上方と、第２種区域群の全区域の上方と、第１区域１の上方から除去するパターニング段階を行う（図８（ｄ−２））。この第４次工程により第１区域１に第３光透過特性Ｒを有する光透過部（光透過部３１０、３１３のみ図示）を形成する（図７（ｄ））。この第４次工程が第３種工程に該当する。

後工程：第４次工程の後に、中間膜７００上に平坦化膜８５０を成膜する。平坦化膜８５０上に複数の集光部を形成する。複数の集光部の内、第１区域１の上方に位置する集光部と第１区域１に設けられた光透過部の間には平坦化膜８５０が介在している。

以上のような参考形態を採用しても、光透過部材８００を形成することができる。

しかし、参考形態の場合、他の実施形態に比べて不利な点が存在する。不利な点の一つ目は、第１種区域群の各区域の光透過部の形状に関する点である。第１種区域群と第２種区域群を比較すると、第１種区域群の各区域に設けられる光透過部は、広帯域光透過特性を有する、第１区域１に設けられた光透過部の影響を、第２種区域群の各区域に設けられる光透過部よりも受けやすい。

これは、条件（ｉ）と条件（ｉｉ）の一方を満たさないことに理由がある。上記参考形態の場合には、条件（ｉ）を満たしていない。参考形態の第２次工程である第１種工程の時点では、第１区域１には光透過部が形成されていないが、第１種区域群の第１区域１とは反対側に位置する第２種区域群の全区域にすでに光透過部が形成されている。そのため、図８（ｃ−１）に示す様に、第１種工程の成膜段階では、第２種区域群の全区域の各々において、第２種区域群側では光透過膜１００が厚く、第１区域１側では薄く成膜される。また、第１区域１では光透過膜１００さらに薄く成膜される。そして、パターニング段階にてパターニングを行うと、図８（ｃ−２）に示す様に、光透過部１０２、１０３は第２種区域群側では厚く、第１区域１側では薄く形成される。光透過部が薄い十分な分光特性が得られないため、画質が低下してしまったり、焦点検出精度が低下したりしてしまう。

一方、方法イを採用した第１実施形態の場合は、第１次工程である第１種工程の時点では、第１区域１にも、第１種区域群の第１区域１とは反対側に位置する第２種区域群の全区域も光透過部が形成されていない。そのため、第１種区域群はＸ方向およびＹ方向において対称な状態で、第１種区域群の全区域に光透過部を形成することができる。そのため、第１種区域群の全区域に形成される光透過部の各々について、光透過部内での透過率のばらつきを低減することができる。

不利な点の２つ目は、第４種工程が複雑になる点である。これは条件（ｖ）を満たさないことに理由がある。条件（ｖ）を満たす場合、第４光透過特性Ｗを有する光透過膜４００をパターニングしないことにより工程を簡略化できる。一方、条件（ｖ）を満たさない場合には、第４種工程の後に形成する光透過膜を所望の区域に配置するために、第４種工程ではパターニングを行わざるを得なくなる。

＜第２実施形態＞
図９（ａ）〜（ｆ）には方法イ、ロに包含される一例としての第２実施形態を示している。図９（ａ）〜（ｆ）の表現方法は図５（ａ）〜（ｆ）と同じであるので、説明を省略する。

前工程：前工程は、第１実施形態と同様に行うことができるので説明を省略する。

第１次工程：まず、中間膜７００上に第２光透過特性Ｂを有する光透過膜２００を成膜する成膜段階を行う。そして、光透過膜２００を、第１種区域群の第２区域２と第３区域３に残留させ、第１種区域群の第４区域４と第５区域５、第２種区域群の全区域、第３種区域群の全区域および第１区域１から除去するパターニング段階を行う。この第１次工程により第１種区域群の一部の区域に第２光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する（図９（ｂ））。この第１次工程が第１種工程に該当する。

第２次工程：第１次工程の後に、中間膜７００上に第３光透過特性Ｒを有する光透過膜３００を成膜する成膜段階を行う。そして、光透過膜３００を、第１種区域群の第４区域４と第５区域５に残留させ、第１種区域群の第２区域２と第３区域３の上方、第２種区域群の全区域、第３種区域群の全区域および第１区域１から除去するパターニング段階を行う。この第２次工程により第１種区域群の残りの一部の区域に第３光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する（図９（ｃ））。この第２次工程も第１種工程に該当する。

第３次工程：第２次工程の後に、中間膜７００上に第１光透過特性Ｇを有する光透過膜１００を成膜する成膜段階を行う。そして、光透過膜１００を、第２種区域群の第６区域６と第７区域７と第８区域と第９区域９、第３種区域群の第１０区域１０と第１１区域１１と第１２区域１２と第１３区域１３に残留させる。第１種区域群の全区域の上方と、第１区域１から除去するパターニング段階を行う。この第３次工程により第２種区域群の全区域および第３種区域群の全区域に第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する（図９（ｄ））。この第３次工程が第２種工程と第３種工程を兼ねる。

第４次工程：第３次工程の後に、中間膜７００上に第４光透過特性Ｗを有する光透過膜４００を成膜する成膜段階を行う（図６（ｅ））。その後は、撮像領域１１００内でパターニング段階は行わない。したがって、光透過膜４００は、第１種区域群の上方、第２種区域群の上方および第３種区域群の上方に残留したままである。この第４次工程により第１区域１に第４光透過特性Ｗを有する光透過部４０１を形成する。この第４次工程が第４種工程に該当する（図５（ｅ））。

後工程：後工程は、第１実施形態と同様に行うことができるので説明を省略する。

以上のようにして、光透過部材８００を形成することができる。

＜第３実施形態＞
図１０（ａ）〜（ｆ）には方法チ、ヌに包含される一例としての第３実施形態を示している。図１０（ａ）〜（ｆ）の表現方法は図５（ａ）〜（ｆ）と同じであるので、説明を省略する。

前工程：前工程は、第１実施形態と同様に行うことができるので説明を省略する。

第１次工程：まず、中間膜７００上に第１光透過特性Ｇを有する光透過膜１００を成膜する成膜段階を行う。そして、光透過膜１００を、第３種区域群の第１０区域１０、第１１区域１１、第１２区域１２、第１３区域１３に残留させ、第１種区域群の全区域、第２種区域群の全区域、第３種区域群の全区域および第１区域１から除去するパターニング段階を行う。この第１次工程により第３種区域群の全区域に第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する（図１０（ｂ））。この第１次工程が第３種工程に該当する。

第２次工程：第１次工程の後に、中間膜７００上に第２光透過特性Ｂを有する光透過膜２００を成膜する成膜段階を行う。そして、光透過膜２００を、第１種区域群の第２区域２および第５区域５に残留させ、第３区域群の全区域の上方、第１種区域群の第４区域４と第５区域５、第３種区域群および第１区域１から除去するパターニング段階を行う。この第２次工程により第１種区域群の一部の区域に第２光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する（図１０（ｃ））。この第２次工程が第１種工程に該当する。

第３次工程：第２次工程の後に、中間膜７００上に第３光透過特性Ｒを有する光透過膜３００を成膜する成膜段階を行う。そして、光透過膜３００を、第１種区域群の第４区域４、第５区域５に残留させ、第１種区域群の第２区域２と第３区域３の上方、第３種区域群の上方、第２種区域群の全区域および第１区域１から除去するパターニング段階を行う。この第３次工程により第２区域群の残りの一部の区域に第３光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する（図１０（ｄ））。この第３次工程が第１種工程に該当する。

第４次工程：第３次工程の後に、中間膜７００上に第４光透過特性Ｗを有する光透過膜４００を成膜する成膜段階を行う（図６（ｅ））。その後は、撮像領域１１００内でパターニング段階は行わない。したがって、光透過膜４００は、第１種区域群の上方、第３区域群の上方、および第２種区域群の全区域および第１区域１に残留したままである。この第４次工程により第１区域１に第４光透過特性Ｗを有する光透過部４０１を形成する。この第４次工程が第４種工程に該当する（図１０（ｅ））。

後工程：後工程は、第１実施形態と同様に行うことができるので説明を省略する。

以上のようにして、光透過部材８００を形成することができる。

＜第４実施形態＞
図１１（ａ）〜（ｆ）には方法イ、ロ、ハ、ニ、ホ、ヘに包含される一例としての第４実施形態を示している。図１１（ａ）〜（ｆ）の表現方法は図５（ａ）〜（ｆ）と同じであるので、説明を省略する。

前工程：前工程は、第１実施形態と同様に行うことができるので説明を省略する。

第１次工程：まず、中間膜７００上に第１光透過特性Ｇを有する光透過膜１００を成膜する成膜段階を行う。そして、光透過膜１００を、第１種区域群の第２区域２、第３区域３に残留させ、第１種区域群の第４区域４、第５区域５、第２種区域群の全区域、第３種区域群の全区域および第１区域１から除去するパターニング段階を行う。この第１次工程により第１種区域群の一部の区域に第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する（図１１（ｂ））。この第１次工程が第１種工程に該当する。

第２次工程：第１次工程の後に、中間膜７００上に第２光透過特性Ｂを有する光透過膜２００を成膜する成膜段階を行う。そして、光透過膜２００を、第１種区域群の第４区域４に残留させ、第１区域群の第２区域２と第３区域３の上方、第１種区域群の第５区域５、第３種区域群の全区域および第１区域１から除去するパターニング段階を行う。この第２次工程により第１種区域群の一部の区域に第２光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する（図１１（ｃ））。この第２次工程も第１種工程に該当する。

第３次工程：第２次工程の後に、中間膜７００上に第３光透過特性Ｒを有する光透過膜３００を成膜する成膜段階を行う。そして、光透過膜３００を、第１種区域群の第５区域５に残留させ、第１種区域群の第２区域２と第３区域３と第４区域４の上方、第２種区域群の全区域、第３種区域群の全区域および第１区域１から除去するパターニング段階を行う。この第３次工程により第１種区域群の第５区域５に第３光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する（図１１（ｄ））。この第３次工程も第１種工程に該当する。

第４次工程：第３次工程の後に、中間膜７００上に第４光透過特性Ｗを有する光透過膜４００を成膜する成膜段階を行う（図１１（ｅ））。その後は、撮像領域１１００内でパターニング段階は行わない。したがって、光透過膜４００は、第１種区域群の全区域の上方に残留したままである。この第４次工程により第１区域１および第２種区域群の全区域および第３種区域群の全区域に第４光透過特性Ｗを有する光透過部４０１を形成する。この第４次工程が第２種工程と第３種工程と第４種工程を兼ねる（図１１（ｅ））。

後工程：後工程は、第１実施形態と同様に行うことができるので説明を省略する。

以上のようにして、光透過部材８００を形成することができる。

光透過部材８００は撮像装置のみならず、透過型液晶表示装置や反射型液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、電界放出型電子線表示装置など、カラーフィルタアレイが用いられるカラー表示装置にも適用が可能である。

図１２（ａ−１）、図１２（ａ−２）を用いて、前工程の第１変形例について説明する。図１２（ａ−１）に示す様に、光透過部を形成する前に、中間膜７００の上に、各区域の境界に隔壁８０１を形成することができる。上述した第１〜第４実施形態のように隔壁８０１を形成しない場合には、各形成工程で成膜される光透過膜は前の形成工程で形成された光透過部の側面に接することになるため、前の形成工程で形成された光透過部の側面の形状の影響を受けやすくなる。本変形例のように、隔壁８０１を設けることにより、前の形成工程で形成された光透過部の側面の形状の影響を低減することができる。ブラックマトリックスを有する光透過部材８００を表示装置に用いると好適である。

図１２（ｂ−１）、図１２（ｂ−２）、図１２（ｂ−３）、図１２（ｂ−４）を用いて、前工程の第２変形例について説明する。第２変形例は、複数の半導体基板を有する、積層型の裏面照射撮像装置に適用した例である。複数の光電変換部を有する半導体基板５００を作製し、絶縁膜６００および複数の金属層６１０、６２０を半導体基板５００の上に形成する。また、信号処理回路を有する半導体基板５００’を作製し、絶縁膜６００’および複数の金属層６１０’、６２０’を半導体基板５００’の上に形成する（図ｂ−１）。絶縁膜６００と複数の金属層６１０、６２０と絶縁膜６００’と複数の金属層６１０’、６２０’とを間に挟むようにして、半導体基板５００と半導体基板５００’を重ねる。そして、接着剤を用いて、あるいは、金属層同士の接合により、絶縁膜同士の接合により、半導体基板５００と半導体基板５００’とを相互に固定する（図１２（ｂ−２））。その後、半導体基板５００の絶縁膜６００が形成された面とは反対側の面（裏面）から、機械研磨法や化学研磨法、機械化学研磨法（ＣＭＰ法）などを用いて、１〜１０μｍ程度に半導体基板５００を薄くする（図１２（ｂ−３））。そして、裏面の上に中間膜７００を形成する。そして中間膜７００を基体として、中間膜７００の上に光透過部材８００を形成する（図１２（ｂ−４））。勿論、半導体基板５００’を単なる支持基板として用いることもでき、その場合には、絶縁膜６００’および複数の金属層６１０’、６２０’は省略可能である。

図１２（ｃ）を用いて後工程の第１変形例について説明する。

図２では、各々が独立しているように複数の集光部８６２、８６３、８６４を記載したが、図１２（ｃ）に示す様に、複数の集光部８６２、８６３、８６４が、複数の集光部８６２、８６３、８６４と同じ材料からなる基部８６０で連結されていてもよい。このような連結された複数の集光部８６２、８６３、８６４は、エッチバック法や階調露光法を用いて形成することができる。また、図１２（ｄ）に示す様に、複数の集光部８６２、８６３、８６４同士が境界を成す、いわゆるギャップレスマイクロレンズとしてもよい。また、図２では光透過膜４００の上に集光部を形成した例を示したが、図７（ｅ）に示す様に、光透過膜４００自体に集光部８６２、８６３、８６４を形成してもよい。光透過膜４００自体に集光部８６２、８６３、８６４を形成する場合、第４種工程で成膜する第４光透過特性Ｗを有する光透過膜４００は、他の光透過膜１００、２００、３００よりも厚く成膜することが好ましい。

また、光透過部材は複数の光透過部を光学的に互いに分離する分離部を有していてもよい。分離部は、光透過部の屈折率よりも低い屈折率を有することが好ましい。光透過部を形成した後に、各区域の境界に位置する溝８７０を、光透過部同士の間に形成する。溝８７０に空気などの気体が存在する、いわゆるエアギャップ構造としてもよい。また、溝８７０に固体を埋め込んでもよい。溝８７０に埋め込む固体としては、金属や黒色材料などの遮光性材料でもよいし、光透過部より屈折率の低い低屈折率材料であってもよい。図１２（ｆ）の例では、複数の集光部８６２、８６３、８６４を形成した後に、溝８７０を形成した例を示しているが、溝８７０を形成した後に複数の集光部８６２、８６３、８６４を形成してもよい。

図１３（１−１Ｇ）、（１−２Ｂ）、（１−３Ｒ）、（１−４Ｗ）を用いて、図１（ｂ−１）に示したパターンの光透過部材８００の形成方法の実施例を説明する。本実施例の形成方法は、第１実施形態の方法を採用している。

第１次工程として、第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する（図１３（１−１Ｇ））。第２次工程として、第２光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する（図１３（１−２Ｂ））。第３次工程として、第３光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する（図１３（１−３Ｒ））。第４次工程として、第４光透過特性Ｗを有する光透過部を形成する（図１３（１−４Ｗ））。以上のようにして、光透過部材８００を形成することができる。第１次工程が第１種工程に該当し、第４次工程が第４種工程に該当する。Ｒ０６／Ｃ０２、Ｒ１０／Ｃ０８、Ｒ１２／Ｃ１４、Ｒ０６／Ｃ１４の各画素の区域を第１区域１と考えると、第２次工程が第２種工程に該当し、第３次工程が第３種工程に該当する。一方、Ｒ０３／Ｃ０３、Ｒ０５／Ｃ０９、Ｒ０３／Ｃ１５、Ｒ１５／Ｃ０３の各画素の区域を第１区域１と考えると、第２次工程が第３種工程に該当し、第３次工程が第２種工程に該当する。

図１３（２−１Ｇ）、（２−２Ｂ）、（２−３Ｒ）、（２−４Ｗ）を用いて、図１（ｂ−１）に示したパターンを変形した光透過部材８００の形成方法の実施例を説明する。本実施例の形成方法は、第２実施形態の方法を採用している。

第１次工程として、第２光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する（図１３（２−１Ｂ））。第２次工程として、第３光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する（図１３（２−２Ｒ））。第３次工程として、第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する（図１３（２−３Ｇ））。第４次工程として、第４光透過特性Ｗを有する光透過部を形成する（図１３（２−４Ｗ））。以上のようにして、光透過部材８００を形成することができる。第１次工程と第２次工程が第１種工程に該当し、第４次工程が第４種工程に該当する。第２種工程と第３種工程は、第３次工程として同時に行われる。つまり、第３次工程が第２種工程と第３種工程を兼ねる。

光透過部の配列のいくつかのパターンの他の例を図１４に挙げて、その形成方法の一例を説明する。図１４（ａ）〜（ｉ）に示した配列は、撮像領域１１００の全体に遍在していてもよいし、撮像領域１１００の一部に偏在していてもよい。図１４（ａ）〜（ｉ）には行列状に配された１２×１２の区域を示している。各区域に形成される狭透過帯域光透過特性を有する光透過部の光透過特性を第１光透過特性Ｇ、第２光透過特性Ｒ、第３光透過特性Ｂとして示している。広透過帯域光透過特性として第４光透過特性Ｗとして示している。例えば、第１光透過特性Ｇは緑色光の透過帯域を有し、第２光透過特性Ｒは赤色光の透過帯域を有し、第３光透過特性Ｂは青色光の透過帯域を有し、第４光透過特性Ｗは白色光の透過帯域を有するが、これに限定されるものではない。第４光透過特性Ｗを有する光透過部は第１区域に形成されるが、第４光透過特性Ｗの絶対的透過波長帯域及び／又は相対的透過波長帯域が、第１種区域群の全区域に形成される光透過部の絶対的透過波長帯域及び／又相対的透過波長帯域よりも広ければよい。各区域に形成される光透過部は上述した条件（ｉ）および条件（ｉｉ）を満たすように形成する。すなわち、表１に示した方法イ、ロ、ハ、ニ、ホ、ヘ、チ、ヌのいずれかの方法で形成する。とりわけ、方法イ、ロのいずれかの方法で形成することが好ましい。

図１４（ａ）の例では、第１種工程として、第２光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する第２形成工程を行う。また、第１種工程として、第３光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する第３形成工程を行う。第２形成工程と第３形成工程の順序は問わない。その後、第２種工程と第３種工程を兼ねる工程として、第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する第１形成工程を行う。また、第２種工程と第３種工程と第４種工程を兼ねる工程として、第４光透過特性Ｗを有する光透過部を形成する第４形成工程を行う。第１形成工程と第４形成工程の順序は問わないが、第４形成工程を第１形成工程の後に行うことが好ましい。

図１４（ｂ）の例では、第１種工程として、第２光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する第２形成工程を行う。また、第１種工程として、第３光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する第３形成工程を行う。第２形成工程と第３形成工程の順序は問わない。その後、第２種工程と第３種工程を兼ねる工程として、第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する第１形成工程を行う。また、第３種工程と第４種工程を兼ねる工程として、第４光透過特性Ｗを有する光透過部を形成する第４形成工程を行う。第１形成工程と第４形成工程の順序は問わないが、第４形成工程を第１形成工程の後に行うことが好ましい。

図１４（ｃ）の例では、第１種工程として、第２光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する第２形成工程を行う。また、第１種工程として、第３光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する第３形成工程を行う。その後、第２種工程と第４種工程を兼ねる工程として、第４光透過特性Ｗを有する光透過部を形成する第４形成工程を行う。また、第３種工程として、第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する第１形成工程を行う。第１形成工程のタイミングは問わないが、第２形成工程と第３形成工程の後に行うことが好ましい。また、第１形成工程を第４形成工程の前に行うことが好ましい。また、第４形成工程を最後に行うことが好ましい。

図１４（ｄ）と図１４（ｅ）の例では、第１種工程として、第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する第１形成工程を行う。また、第１種工程として、第２光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する第２形成工程を行う。また、第１種工程として、第３光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する第３形成工程を行う。第１形成工程と第２形成工程と第３形成工程の順序は問わない。その後、第２種工程と第３種工程と第４種工程を兼ねる工程として、第４光透過特性Ｗを有する光透過部を形成する第４形成工程を行う。

図１４（ｆ）の例では、第１種工程と第３種工程を兼ねる工程として、第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する第１形成工程を行う。また、第１種工程として、第２光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する第２形成工程を行う。また、第１種工程として、第３光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する第３形成工程を行う。第１形成工程と第２形成工程と第３形成工程の順序は問わないが、第２形成工程と第３形成工程を第１形成工程の前に行うことが好ましい。その後、第２種工程と第４種工程を兼ねる工程として、第４光透過特性Ｗを有する光透過部を形成する第４形成工程を行う。

図１４（ｇ）の例では、第１種工程と第３種工程を兼ねる工程として、第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する第１形成工程を行う。その後、第２種工程として、第２光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する第２形成工程を行う。また、第２種工程として、第３光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する第３形成工程を行う。また、第４種工程として、第４光透過特性Ｗを有する光透過部を形成する第４形成工程を行う。第２形成工程と第３形成工程と第４形成工程の順序は問わないが、第４形成工程を最後に行うことが好ましい。なお、第２形成工程は、例えばＲ０９／Ｃ０３の区域が第１区域であり、Ｒ０９／Ｃ０３、Ｒ０９／Ｃ０５、Ｒ０７／Ｃ０３、Ｒ１１／Ｃ０３の各区域が第２種区域群であるため、第２工程ということになる。

図１４（ｈ）の例では、第１種工程として、第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する第１形成工程を行う。その後、第２種工程と第４種工程を兼ねる工程として、第４光透過特性Ｗを有する光透過部を形成する第４形成工程を行う。任意のタイミングで、第３種工程として、第２光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する第２形成工程を行う。また、第３種工程として、第３光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する第３形成工程を行う。第２形成工程と第３形成工程のタイミングは問わないが、第２形成工程と第３形成工程を第１形成工程の後に行うことが好ましい。また、第４形成工程を最後に行うことが好ましい。

図１４（ｉ）の例では、第１種工程と第３種工程を兼ねる工程として、第１光透過特性Ｇを有する光透過部を形成する第１形成工程を行う。その後、第２種工程として、第２光透過特性Ｒを有する光透過部を形成する第２形成工程を行う。また、第２種工程として、第３光透過特性Ｂを有する光透過部を形成する第３形成工程を行う。また、第２種工程と第４種工程を兼ねる工程として、第４光透過特性Ｗを有する光透過部を形成する第４形成工程を行う。第２形成工程と第３形成工程と第４形成工程の順序は問わないが、第２形成工程と第３形成工程を第１形成工程の後に行うことが好まし。また、第４形成工程を最後に行うことが好ましい。

以上のように、条件（ｉ）および条件（ｉｉ）を満たす様な順序で形成工程を複数回行って光透過部を形成することにより、光学特性に優れた光透過部材を得ることができる。

１ 第１区域
２ 第２区域
３ 第３区域
４ 第４区域
５ 第５区域
６ 第６区域
７ 第７区域
８ 第８区域
９ 第９区域
１００ 第１光透過膜
２００ 第２光透過膜
３００ 第３光透過膜
４００ 第４光透過膜
８００ 光透過部材
１０００ 撮像装置
５００ 半導体基板

Claims (13)

1. 所定面内の第１区域と第２区域と第３区域と第４区域と第５区域と第６区域と第７区域と第８区域と第９区域を含む複数の区域の各々に光透過部が配され、
   前記所定面内の第１方向において、前記第１区域が前記第２区域と前記第３区域の間にあり、前記第２区域および前記第３区域が前記第６区域と前記第７区域の間にあり、前記第２区域が前記第１区域と前記第６区域に隣り合い、前記第３区域が前記第１区域と前記第７区域に隣り合い、
   前記所定面内の前記第１方向に交差する第２方向において、前記第１区域が前記第４区域と前記第５区域の間にあり、前記第４区域および前記第５区域が前記第８区域と前記第９区域の間にあり、前記第４区域が前記第１区域と前記第８区域に隣り合い、前記第５区域が前記第１区域と前記第９区域に隣り合い、
   前記第２区域と前記第３区域と前記第４区域と前記第５区域の各々に配された光透過部が所定値以上の透過率を示す波長帯域の少なくとも一部において、前記第１区域に配された光透過部が前記所定値以上の透過率を示し、かつ、前記第２区域と前記第３区域と前記第４区域と前記第５区域の各々に配された前記光透過部が前記所定値未満の透過率を有する波長帯域の少なくとも一部において、前記第１区域に配された光透過部が前記所定値以上の透過率を示す、光透過部材の形成方法であって、
   前記複数の区域の各々に対応する光透過膜を成膜し、成膜された前記光透過膜を前記複数の区域のいずれかに残留させて光透過部を形成する工程を、互いに異なる光透過特性を有する光透過膜を成膜するごとに行う、一連の工程を有し、
   前記一連の工程において、前記第２区域と前記第３区域と前記第４区域と前記第５区域に光透過部を形成した後に、前記第１区域と前記第６区域と前記第７区域と前記第８区域と前記第９区域に光透過部を形成することを特徴とする光透過部材の形成方法。
2. 前記一連の工程において、前記第１区域に光透過部を形成する工程を最後に行う請求項１に記載の光透過部材の形成方法。
3. 前記複数の区域は、第１０区域と第１１区域と第１２区域と第１３区域を含み、前記第１区域が第１０区域と第１１区域の間にあり、前記第２区域および前記第４区域が前記第１０区域に隣り合い、前記第３区域および前記第５区域が前記第１１区域に隣り合い、前記第１区域が第１２区域と前記第１３区域の間にあり、前記第３区域および前記第４区域が前記第１２区域に隣り合い、前記第２区域および前記第５区域が前記第１３区域に隣り合い、
   前記一連の工程において、前記第２区域と前記第３区域と前記第４区域と前記第５区域に光透過部を形成した後に、前記第１０区域と前記第１１区域と前記第１２区域と前記第１３区域に光透過部を形成する請求項１または２に記載の光透過部材の形成方法。
4. 前記複数の区域は、第１０区域と第１１区域と第１２区域と第１３区域を含み、前記第１区域が第１０区域と第１１区域の間にあり、前記第２区域および前記第４区域が前記第１０区域に隣り合い、前記第３区域および前記第５区域が前記第１１区域に隣り合い、前記第１区域が第１２区域と前記第１３区域の間にあり、前記第３区域および前記第４区域が前記第１２区域に隣り合い、前記第２区域および前記第５区域が前記第１３区域に隣り合い、
   前記一連の工程において、前記第１０区域と前記第１１区域と前記第１２区域と前記第１３区域に光透過部を形成した後に、前記第１区域に光透過部を形成する請求項１または２に記載の光透過部材の形成方法。
5. 前記複数の区域は、第１０区域と第１１区域と第１２区域と第１３区域を含み、前記第１区域が第１０区域と第１１区域の間にあり、前記第２区域および前記第４区域が前記第１０区域に隣り合い、前記第３区域および前記第５区域が前記第１１区域に隣り合い、前記第１区域が第１２区域と前記第１３区域の間にあり、前記第３区域および前記第４区域が前記第１２区域に隣り合い、前記第２区域および前記第５区域が前記第１３区域に隣り合い、
   前記一連の工程において、前記第１区域に光透過部を形成すると同時に、前記第１０区域と前記第１１区域と前記第１２区域と前記第１３区域の少なくともいずれかに光透過部を形成する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光透過部材の形成方法。
6. 前記一連の工程において、前記第１区域に光透過部を形成すると同時に、前記第６区域と前記第７区域と前記第８区域と前記第９区域の少なくともいずれかに光透過部を形成する請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光透過部材の形成方法。
7. 前記所定値は５０％である請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光透過部材の形成方法。
8. 前記第２区域と前記第３区域と前記第４区域と前記第５区域の各々に形成された光透過部が所定値以上の透過率を示す波長帯域において、前記第１区域に配された光透過部が前記第２区域と前記第３区域と前記第４区域と前記第５区域の各々に配された前記光透過部の透過率の最大値よりも高い透過率を示す請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光透過部材の形成方法。
9. 前記一連の工程は、
   緑色光の透過率が５０％以上であり赤色光と青色光の透過率が５０％未満である第１光透過膜を回転塗布法を用いて成膜する成膜段階、および、前記第１光透過膜の一部を少なくとも前記第１区域から除去するパターニング段階を含む工程と、
   青色光の透過率が５０％以上であり緑色光と赤色光の透過率が５０％未満である第２光透過膜を回転塗布法を用いて成膜する成膜段階、および、前記第２光透過膜の一部を少なくとも前記第１区域から除去するパターニング段階を含む工程と、
   赤色光の透過率が５０％以上であり緑色光と青色光の透過率が５０％未満である第３光透過膜を回転塗布法を用いて成膜する段階、および、前記第３光透過膜の一部を少なくとも前記第１区域から除去するパターニング段階を含む工程と、
   緑色光と赤色光と青色光の透過率が５０％以上である第４光透過膜をその一部が前記第１区域に位置するように回転塗布法を用いて成膜する成膜段階を含む工程と、
   を有する請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光透過部材の形成方法。
10. 前記一連の工程の後、前記一連の工程の内の前記第１区域に光透過部を形成する工程で成膜された光透過膜を挟んで、前記複数の区域の上に複数の集光部を形成する工程を有する請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光透過部材の形成方法。
11. 前記一連の工程の後、前記複数の区域の境界に溝を設ける工程を有する請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光透過部材の形成方法。
12. 前記一連の工程の後、前記複数の区域の上に複数の集光部を形成する工程を有し、前記第１区域の上に形成する集光部の焦点は、前記複数の区域の内の前記第１区域以外の区域の上に形成する集光部の焦点よりも前記所定面に近い請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の光透過部材の形成方法。
13. 互いに光透過特性の異なる複数の光透過部を有する光透過部材と、
    各々が、対応する前記光透過部を透過した光を光電変換する複数の光電変換部を有する半導体基板と、を備えた撮像装置の製造方法において、
    前記光透過部材を請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光透過部材の形成方法を用いて形成することを特徴とする撮像装置の製造方法。

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