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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013077547A (ja) * 2011-09-15 2013-04-25 Mitsubishi Materials Corp 導電性膜及びその製造方法並びに導電性膜形成用銀合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
JP5612147B2 (ja) * 2013-03-11 2014-10-22 三菱マテリアル株式会社 導電性膜形成用銀合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP6384147B2 (ja) * 2013-07-11 2018-09-05 三菱マテリアル株式会社 半透明Ａｇ合金膜
JP2015079739A (ja) * 2013-09-13 2015-04-23 三菱マテリアル株式会社 有機ｅｌ用反射電極膜、積層反射電極膜、及び、反射電極膜形成用スパッタリングターゲット
JP6375658B2 (ja) * 2014-03-19 2018-08-22 三菱マテリアル株式会社 積層膜
JP5850077B2 (ja) * 2014-04-09 2016-02-03 三菱マテリアル株式会社 Ａｇ合金膜及びＡｇ合金膜形成用スパッタリングターゲット
JP2016040411A (ja) * 2014-08-12 2016-03-24 三菱マテリアル株式会社 積層膜、積層配線膜及び積層配線膜の製造方法
JP6398624B2 (ja) * 2014-11-06 2018-10-03 Tdk株式会社 透明導電体及びタッチパネル
JP5975186B1 (ja) 2015-02-27 2016-08-23 三菱マテリアル株式会社 Ａｇ合金スパッタリングターゲット及びＡｇ合金膜の製造方法
JP6020750B1 (ja) * 2015-02-27 2016-11-02 三菱マテリアル株式会社 透明導電配線、及び、透明導電配線の製造方法
JP6748611B2 (ja) 2017-07-12 2020-09-02 株式会社Ｊｏｌｅｄ 有機ｅｌ素子、有機ｅｌ表示パネル、および、有機ｅｌ表示パネルの製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2627532B2 (ja) * 1988-04-27 1997-07-09 京セラ株式会社 ロウ付け用材料
JPH02253593A (ja) * 1989-03-27 1990-10-12 Mitsui Toatsu Chem Inc 発光素子
JPH0997676A (ja) * 1995-10-02 1997-04-08 Toyo Ink Mfg Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2003217375A (ja) * 2002-01-21 2003-07-31 Sumitomo Electric Ind Ltd 電気接点およびそれを用いたブレーカー
JP4105956B2 (ja) * 2002-08-08 2008-06-25 株式会社神戸製鋼所 光反射膜およびこれを用いた液晶表示素子、ならびに光反射膜用スパッタリングターゲット
DE10327336A1 (de) * 2003-06-16 2005-01-27 W. C. Heraeus Gmbh & Co. Kg Legierung und deren Verwendung
JP3924308B2 (ja) * 2004-07-15 2007-06-06 株式会社神戸製鋼所 レーザーマーキング用再生専用光情報記録媒体用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット
CN100373485C (zh) * 2004-07-15 2008-03-05 株式会社神户制钢所 银合金反射膜、溅射目标及使用该膜的光学信息记录介质
JP4455204B2 (ja) 2004-07-27 2010-04-21 株式会社フルヤ金属 銀合金、そのスパッタリングターゲット材及びその薄膜
JP4377861B2 (ja) * 2005-07-22 2009-12-02 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用Ａｇ合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット
FR2913146B1 (fr) 2007-02-23 2009-05-01 Saint Gobain Electrode discontinue, dispositif electroluminescent organique l'incorporant, et leurs fabrications

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