JP2013157545A - 加工対象物切断方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 加工対象物10の裏面10bに接合された強化ガラス板20にレーザ光Lを照射し、切断予定ライン5に沿って強化ガラス板20に改質領域7を形成する。そして、強化ガラス板20に力を加えることにより、改質領域7から生じた亀裂17を加工対象物10の表面10aまで伸展させて加工対象物10を切断する。強化ガラス板20は強い切断性を発揮する。このため、改質領域7から生じた亀裂17を加工対象物10の表面10aまで確実に伸展させることができるので、加工対象物10にレーザ光Lを照射して切断の起点を形成する必要が無い。よって、加工対象物10の材料に左右されずに、切断予定ライン5に沿って精度よく加工対象物10を切断することができる。
【選択図】図11
Description
Claims (7)
- 強化ガラス板の表面に一方の面が接合された板状の加工対象物を準備する工程と、
前記加工対象物の切断予定ラインに沿って前記強化ガラス板にレーザ光を照射することにより、前記切断予定ラインに沿って前記強化ガラス板に改質領域を形成する工程と、
前記強化ガラス板及び前記加工対象物に対して力を加えることにより、前記改質領域を起点として発生した亀裂を前記加工対象物の他方の面まで伸展させて前記加工対象物を切断する工程と、を備えることを特徴とする加工対象物切断方法。 - 前記加工対象物を切断する工程においては、前記強化ガラス板の裏面に取り付けられた拡張可能な保持部材を拡張することにより、前記強化ガラス板及び前記加工対象物に対して力を加える、ことを特徴とする請求項1に記載の加工対象物切断方法。
- 前記改質領域を形成する工程においては、前記強化ガラス板の裏面をレーザ光入射面として前記強化ガラス板に前記レーザ光を照射する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の加工対象物切断方法。
- 前記加工対象物の前記一方の面と前記強化ガラス板の前記表面とは、表面活性化接合によって接合されている、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の加工対象物切断方法。
- 前記加工対象物は、半導体基板と前記半導体基板の上に形成された半導体層とを有し、
前記半導体層は、光を発生するための活性層を含む、ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の加工対象物切断方法。 - 前記強化ガラス板は、前記強化ガラス板の厚さ方向から見て前記加工対象物よりも大きい、ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の加工対象物切断方法。
- 前記強化ガラス板は、前記強化ガラス板の厚さ方向から見て前記加工対象物と略同一の形状である、ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の加工対象物切断方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012018605A JP6012186B2 (ja) | 2012-01-31 | 2012-01-31 | 加工対象物切断方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012018605A JP6012186B2 (ja) | 2012-01-31 | 2012-01-31 | 加工対象物切断方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2013157545A true JP2013157545A (ja) | 2013-08-15 |
JP6012186B2 JP6012186B2 (ja) | 2016-10-25 |
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ID=49052429
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP6012186B2 (ja) |
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