JP2013141025A - 発光素子の製造方法 - Google Patents
発光素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013141025A JP2013141025A JP2013079241A JP2013079241A JP2013141025A JP 2013141025 A JP2013141025 A JP 2013141025A JP 2013079241 A JP2013079241 A JP 2013079241A JP 2013079241 A JP2013079241 A JP 2013079241A JP 2013141025 A JP2013141025 A JP 2013141025A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- forming
- conductivity type
- active layer
- growth temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Led Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】発光素子は、第1導電型のIII −V族窒化物系半導体からなるクラッド層兼コンタクト層4と、コンタクト層4上に形成されInを含有するIII −V族窒化物系半導体からなる活性層5と、活性層5上に形成されIII −V族窒化物系半導体からなるアンドープのキャップ層6と、キャップ層6上に形成され第2導電型のIII −V族窒化物系半導体からなるクラッド層7とを備える。
【選択図】図1
Description
−V系窒化物系半導体からなり、キャップ層はIII −V族窒化物系半導体からなり、第2のクラッド層は第2導電型のIII −V族窒化物系半導体からなってもよい。キャップ層が活性層上の全面に密接して形成されることが好ましい。
これにより、製造歩留りが向上する。
特に、活性層がInGaN層からなってもよい。この場合、インジウムは脱離しやすいので、顕著な効果が得られる。
Ga1-z Nからなり、キャップ層のAl組成比uはクラッド層のAl組成比zよりも小さいことが好ましい。
−V族窒化物系半導体からなり、キャップ層はIII −V族窒化物系半導体からなり、第2のクラッド層は第2導電型のIII −V族窒化物系半導体からなってもよい。
2,12,32,52 AlGaNバッファ層
3 GaN下地層
4 GaNコンタクト層
5,16,36,56 InGaN活性層
6,17,37,57 GaNキャップ層
7,18,38,58 AlGaNクラッド層
15,35,54 AlGaNクラッド層
Claims (4)
- 非単結晶の窒化物系の化合物半導体からなるバッファ層を気相成長法により形成する工程と、
前記バッファ層上に単結晶の窒化物系の化合物半導体からなるアンドープの下地層を気相成長法により前記バッファ層に接して形成する工程と、
前記下地層上に第1導電型のコンタクト層を気相成長法により形成する工程と、
前記第1導電型のコンタクト層上に第1導電型の窒化物系の化合物半導体からなる第1のクラッド層を気相成長法により形成する工程と、
前記第1のクラッド層上にインジウムを含有する窒化物系の化合物半導体からなる活性層を気相成長法により形成する工程と、
前記活性層上にAlを含むAlGaNからなるキャップ層を前記活性層の成長温度とほぼ同じかまたは低い成長温度で気相成長法により形成する工程と、
前記キャップ層上に前記活性層の成長温度より高い成長温度で第2導電型の第2のクラッド層を気相成長法により形成する工程と、
第1導電型の電極を形成する工程を含み、
前記キャップ層は、前記活性層よりも大きなバンドギャップを有し、
前記下地層は、前記第1導電型の電極と接触していないことを特徴とする発光素子の製造方法。 - 非単結晶の窒化物系の化合物半導体からなるバッファ層を気相成長法により形成する工程と、
単結晶の窒化物系の化合物半導体からなるアンドープの下地層を気相成長法により前記バッファ層に接して形成する工程と、
第1導電型の窒化物系の化合物半導体からなる第1のクラッド層を気相成長法により形成する工程と、
インジウムを含む窒化物系の化合物半導体からなる活性層を気相成長法により形成する工程と、
Alを含むAlGaNからなるキャップ層を前記活性層の成長温度とほぼ同じかまたは低い成長温度で気相成長法により形成する工程と、
前記活性層の成長温度よりも高い成長温度で第2導電型の窒化物系の化合物半導体からなる第2のクラッド層を気相成長法により形成する工程と、
第2導電型のコンタクト層を気相成長法により形成する工程と、
第1導電型の電極を形成する工程をこの順に備え、
前記活性層は、量子井戸層および量子障壁層を含む量子井戸構造を有し、
前記キャップ層は、前記活性層よりも大きなバンドギャップを有するとともに、
前記下地層は、前記第1導電型の電極と接触していないことを特徴とする発光素子の製造方法。 - 非単結晶の窒化物系の化合物半導体からなるバッファ層を気相成長法により形成する工程と、
単結晶の窒化物系の化合物半導体からなるアンドープの下地層を気相成長法により前記バッファ層に接して形成する工程と、
第1導電型のコンタクト層を気相成長法により形成する工程と、
第1導電型の窒化物系の化合物半導体からなる第1のクラッド層を気相成長法により形成する工程と、
インジウムを含む窒化物系の化合物半導体からなる活性層を気相成長法により形成する工程と、
Alを含むAlGaNからなるキャップ層を前記活性層の成長温度とほぼ同じかまたは低い成長温度で気相成長法により形成する工程と、
前記活性層の成長温度よりも高い成長温度で第2導電型の窒化物系の化合物半導体からなる第2のクラッド層を気相成長法により形成する工程と、
第1導電型の電極を形成する工程をこの順に備え、
前記活性層は、量子井戸層および量子障壁層を含む量子井戸構造を有し、
前記キャップ層は、前記活性層よりも大きなバンドギャップを有するとともに、
前記下地層は、前記第1導電型の電極と接触していないことを特徴とする発光素子の製造方法。 - 非単結晶の窒化物系の化合物半導体からなるバッファ層を気相成長法により形成する工程と、
単結晶の窒化物系の化合物半導体からなるアンドープの下地層を気相成長法により前記バッファ層に接して形成する工程と、
第1導電型のGaNからなるコンタクト層を気相成長法により形成する工程と、
第1導電型の窒化物系の化合物半導体からなる第1のクラッド層を気相成長法により形成する工程と、
インジウムを含む窒化物系の化合物半導体からなる活性層を気相成長法により形成する工程と、
Alを含むAlGaNからなるキャップ層を前記活性層の成長温度とほぼ同じかまたは低い成長温度で気相成長法により形成する工程と、
前記活性層の成長温度よりも高い成長温度で前記第2導電型の窒化物系の化合物半導体からなる第2のクラッド層を気相成長法により形成する工程と、
第1導電型の電極を形成する工程をこの順に備え、
前記キャップ層は、前記活性層よりも大きなバンドギャップを有し、
前記下地層は、前記第1導電型の電極と接触していないことを特徴とする発光素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013079241A JP5647289B2 (ja) | 1996-04-26 | 2013-04-05 | 発光素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1996107833 | 1996-04-26 | ||
JP10783396 | 1996-04-26 | ||
JP2013079241A JP5647289B2 (ja) | 1996-04-26 | 2013-04-05 | 発光素子の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012100648A Division JP2012165011A (ja) | 1996-04-26 | 2012-04-26 | 発光素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013141025A true JP2013141025A (ja) | 2013-07-18 |
JP5647289B2 JP5647289B2 (ja) | 2014-12-24 |
Family
ID=40325122
Family Applications (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001267038A Pending JP2002134787A (ja) | 1996-04-26 | 2001-09-04 | 発光素子およびその製造方法 |
JP2003114877A Pending JP2003309291A (ja) | 1996-04-26 | 2003-04-18 | 発光素子の製造方法 |
JP2008267301A Pending JP2009010432A (ja) | 1996-04-26 | 2008-10-16 | 発光素子の製造方法 |
JP2012100648A Pending JP2012165011A (ja) | 1996-04-26 | 2012-04-26 | 発光素子の製造方法 |
JP2013079241A Expired - Lifetime JP5647289B2 (ja) | 1996-04-26 | 2013-04-05 | 発光素子の製造方法 |
Family Applications Before (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001267038A Pending JP2002134787A (ja) | 1996-04-26 | 2001-09-04 | 発光素子およびその製造方法 |
JP2003114877A Pending JP2003309291A (ja) | 1996-04-26 | 2003-04-18 | 発光素子の製造方法 |
JP2008267301A Pending JP2009010432A (ja) | 1996-04-26 | 2008-10-16 | 発光素子の製造方法 |
JP2012100648A Pending JP2012165011A (ja) | 1996-04-26 | 2012-04-26 | 発光素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (5) | JP2002134787A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101517808B1 (ko) * | 2013-12-31 | 2015-05-06 | 전자부품연구원 | 크랙 감소를 위한 실리콘 기판 위 GaN 성장방법 |
KR20180079031A (ko) * | 2016-12-30 | 2018-07-10 | 한국광기술원 | 3족 질화물 반도체 발광소자 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101045202B1 (ko) * | 2003-10-17 | 2011-06-30 | 삼성전자주식회사 | III-V 족 GaN 계 반도체 소자 및 그 제조방법 |
JP2005203520A (ja) * | 2004-01-14 | 2005-07-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体発光素子 |
US9524869B2 (en) | 2004-03-11 | 2016-12-20 | Epistar Corporation | Nitride-based semiconductor light-emitting device |
TWI244222B (en) | 2004-03-11 | 2005-11-21 | Epistar Corp | A ternary nitride buffer layer containing nitride light-emitting device and manufacturing method of the same |
US8562738B2 (en) | 2004-03-11 | 2013-10-22 | Epistar Corporation | Nitride-based light-emitting device |
US7928424B2 (en) | 2004-03-11 | 2011-04-19 | Epistar Corporation | Nitride-based light-emitting device |
JP6423663B2 (ja) * | 2014-09-17 | 2018-11-14 | 花王株式会社 | 液体洗浄剤物品、及び液体洗浄剤の計量方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0653549A (ja) * | 1992-07-30 | 1994-02-25 | Sharp Corp | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JPH07249795A (ja) * | 1994-03-09 | 1995-09-26 | Toshiba Corp | 半導体素子 |
JPH07267796A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-17 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | GaN単結晶の製造方法 |
JPH07302929A (ja) * | 1994-03-08 | 1995-11-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 3−5族化合物半導体と発光素子 |
JPH0870139A (ja) * | 1994-06-24 | 1996-03-12 | Nichia Chem Ind Ltd | n型窒化ガリウム系化合物半導体の結晶成長方法 |
JPH08293643A (ja) * | 1995-04-24 | 1996-11-05 | Sharp Corp | 化合物半導体発光素子およびその製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH088390B2 (ja) * | 1984-11-30 | 1996-01-29 | 三洋電機株式会社 | 半導体レーザ |
JPH07106698A (ja) * | 1993-09-29 | 1995-04-21 | Sony Corp | 半導体発光素子 |
-
2001
- 2001-09-04 JP JP2001267038A patent/JP2002134787A/ja active Pending
-
2003
- 2003-04-18 JP JP2003114877A patent/JP2003309291A/ja active Pending
-
2008
- 2008-10-16 JP JP2008267301A patent/JP2009010432A/ja active Pending
-
2012
- 2012-04-26 JP JP2012100648A patent/JP2012165011A/ja active Pending
-
2013
- 2013-04-05 JP JP2013079241A patent/JP5647289B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0653549A (ja) * | 1992-07-30 | 1994-02-25 | Sharp Corp | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JPH07302929A (ja) * | 1994-03-08 | 1995-11-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 3−5族化合物半導体と発光素子 |
JPH07249795A (ja) * | 1994-03-09 | 1995-09-26 | Toshiba Corp | 半導体素子 |
JPH07267796A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-17 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | GaN単結晶の製造方法 |
JPH0870139A (ja) * | 1994-06-24 | 1996-03-12 | Nichia Chem Ind Ltd | n型窒化ガリウム系化合物半導体の結晶成長方法 |
JPH08293643A (ja) * | 1995-04-24 | 1996-11-05 | Sharp Corp | 化合物半導体発光素子およびその製造方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN2096000066; 'InGaN-Based Multi-Quantum-Well-Structure Laser Diodes' Jpn.J.Appl.Phys. part.2 Vol.35 No.1B, 19960115, pp.L74-L76 * |
JPN2096000121; 'InGaN Multi-Quantum-Well-Structure Laser Diodes' Jpn.J.Appl.Phys. Part2 Vol.35 No.2B, 199602, pp.L217-220 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101517808B1 (ko) * | 2013-12-31 | 2015-05-06 | 전자부품연구원 | 크랙 감소를 위한 실리콘 기판 위 GaN 성장방법 |
KR20180079031A (ko) * | 2016-12-30 | 2018-07-10 | 한국광기술원 | 3족 질화물 반도체 발광소자 |
KR101928479B1 (ko) * | 2016-12-30 | 2019-02-26 | 한국광기술원 | 3족 질화물 반도체 발광소자 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003309291A (ja) | 2003-10-31 |
JP2002134787A (ja) | 2002-05-10 |
JP2009010432A (ja) | 2009-01-15 |
JP5647289B2 (ja) | 2014-12-24 |
JP2012165011A (ja) | 2012-08-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3448450B2 (ja) | 発光素子およびその製造方法 | |
JP5647289B2 (ja) | 発光素子の製造方法 | |
US6345063B1 (en) | Algainn elog led and laser diode structures for pure blue or green emission | |
JP3778609B2 (ja) | 半導体素子の製造方法 | |
US7485902B2 (en) | Nitride-based semiconductor light-emitting device | |
JPH08148718A (ja) | 化合物半導体装置 | |
JP3740744B2 (ja) | 半導体の成長方法 | |
JP3325713B2 (ja) | 半導体発光素子の製法 | |
JP2001068733A (ja) | 半導体素子、半導体発光素子およびその製造方法ならびに量子箱の形成方法 | |
JP2002134787A5 (ja) | ||
JP2007200933A (ja) | 窒化物系半導体素子の製造方法 | |
JP3857715B2 (ja) | 化合物半導体装置の製造方法 | |
JP2002208732A (ja) | 化合物半導体装置 | |
JP2000332293A (ja) | Iii−v族窒化物半導体発光素子及びその製造方法 | |
JP2003218468A (ja) | 半導体レーザ素子及びその製造方法 | |
JP2003086533A (ja) | 窒化物半導体素子および半導体装置 | |
JPH11214750A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子の製造方法 | |
KR100972974B1 (ko) | Ⅲ족 질화물 기판의 표면개선방법, 이로부터 제조된 ⅲ족질화물 기판 및 이러한 ⅲ족 질화물 기판을 이용한 질화물반도체 발광 소자 | |
JP2017117845A (ja) | 半導体発光素子およびその製造方法 | |
JPH11233823A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子及びその製造方法 | |
JP2005217059A (ja) | 半導体素子 | |
JP2576819B1 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 | |
JP2006229241A (ja) | 半導体の成長方法、半導体発光素子の製造方法および半導体装置の製造方法 | |
JP2000174336A (ja) | GaN系半導体発光素子およびその製造方法 | |
JP2003007999A (ja) | 窒化物系iii−v族化合物半導体基板およびその製造方法ならびに半導体発光素子の製造方法ならびに半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130405 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20130422 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20130422 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20130710 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140121 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140421 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141007 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141106 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5647289 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |