JP2013140838A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ミラーアレイデバイス1は、電極基板4を備えている。電極基板4は、その厚み方向に導通し且つ絶縁部5で囲まれることによって周辺の部分から絶縁された駆動電極41を有している。絶縁部5は、電極基板4の表面4aから形成された絶縁溝51と、電極基板4の裏面4bから絶縁溝51内に達して設けられる絶縁壁52とで構成されている。絶縁壁52は、絶縁溝51内に達する先端部に向かって薄く形成されている。
【選択図】図2
Description
図1は、本発明の例示的な実施形態1に係るミラーアレイデバイスの平面図を、図2は、図1のII−II線における断面図を示す。
次に、例示的な実施形態2に係る2軸のジャイロスコープ200について、図5〜7を参照しながら説明する。図5は、実施形態2に係るジャイロスコープの平面図であり、図6は、ジャイロスコープの電極基板の平面図であり、図7は、図5,6のVII−VII線における断面図である。
本発明は、前記実施形態について、以下のような構成としてもよい。
4,4B 電極基板(半導体基板)
4a 表面(一方の面)
4b 裏面(他方の面)
41 駆動電極(導通部)
5,5B 絶縁部
51,51B 絶縁溝
52,52B 絶縁壁
52a 下溝
200 ジャイロスコープ(半導体装置)
204 電極基板(半導体基板)
204a 表面(一方の面)
204b 裏面(他方の面)
241a〜241d 第1〜第4検出電極(導通部)
205 絶縁部
251 絶縁溝
252 絶縁壁
252a 下溝
Claims (6)
- 半導体基板を備えた半導体装置であって、
前記半導体基板は、その厚み方向に導通し且つ絶縁部で囲まれることによって周辺の部分から絶縁された導通部を有し、
前記絶縁部は、前記半導体基板の一方の面から形成された絶縁溝と、該半導体基板の他方の面から該絶縁溝内に達して設けられる絶縁壁とで構成されており、
前記絶縁壁は、前記絶縁溝内に達する先端部に向かって薄く形成されている半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記絶縁壁は、前記半導体基板を熱酸化させた熱酸化膜で構成されている半導体装置。 - 請求項1又は2に記載の半導体装置において、
前記半導体基板には、前記絶縁壁が配設される下溝が形成されており、
前記下溝は、深掘RIEにより形成されている半導体装置。 - 半導体基板の一方の面から形成された絶縁溝と該半導体基板の他方の面から該絶縁溝内に達して設けられる絶縁壁とで構成された絶縁部で囲まれることによって周辺の部分から絶縁され且つその厚み方向に導通する導通部を有する半導体基板を備えた半導体装置の製造方法であって、
前記半導体基板の他方の面に前記絶縁壁を形成するための下溝を形成する溝形成工程と、
前記下溝を絶縁部材で埋めて前記絶縁壁を形成する溝埋工程と、
前記絶縁壁の形成された半導体基板の一方の面に該絶縁壁が露出するまで前記絶縁溝を形成する絶縁溝形成工程と、を含み、
前記溝形成工程においては、前記下溝を、底に向かって幅が狭くなるように形成する半導体装置の製造方法。 - 請求項4に記載の半導体装置の製造方法において、
前記溝埋工程では、前記半導体基板を熱酸化させることによって前記下溝を前記絶縁部材で埋める半導体装置の製造方法。 - 請求項4又は5に記載の半導体装置の製造方法において、
前記溝形成工程では、前記半導体基板に深掘RIEにより前記下溝を形成する半導体装置の製造方法。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006521022A (ja) * | 2003-03-21 | 2006-09-14 | シレックス マイクロシステムズ アーベー | 基板中の電気的接続 |
JP2010509086A (ja) * | 2006-11-14 | 2010-03-25 | グリマーグラス・ネットワークス・インコーポレーテッド | パッシェン・スタッキングを用いた充電ガード |
JP2011143518A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006521022A (ja) * | 2003-03-21 | 2006-09-14 | シレックス マイクロシステムズ アーベー | 基板中の電気的接続 |
JP2010509086A (ja) * | 2006-11-14 | 2010-03-25 | グリマーグラス・ネットワークス・インコーポレーテッド | パッシェン・スタッキングを用いた充電ガード |
JP2011143518A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113670287A (zh) * | 2021-09-23 | 2021-11-19 | 华东光电集成器件研究所 | 一种mems半球陀螺仪及其制备方法 |
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