JP4752078B2 - 半導体力学量センサ - Google Patents
半導体力学量センサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4752078B2 JP4752078B2 JP2009215634A JP2009215634A JP4752078B2 JP 4752078 B2 JP4752078 B2 JP 4752078B2 JP 2009215634 A JP2009215634 A JP 2009215634A JP 2009215634 A JP2009215634 A JP 2009215634A JP 4752078 B2 JP4752078 B2 JP 4752078B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon substrate
- movable
- electrode
- electrodes
- fixed electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Gyroscopes (AREA)
Description
以下、この発明を具体化した一実施例を図面に従って説明する。
次に、第2実施例を第1実施例との相違点を中心に説明する。
102 片持ち梁
103〜105 第2の対向電極を構成する突起
110 シリコン基板
111 絶縁膜としてのSiO2膜
112 第1の対向電極を構成する可動電極
114 第1の対向電極を構成する励振用電極
115 溝を構成する凹部
116 溝を構成するトレンチ
117 n+拡散層
119 充填材としてのポリシリコン膜
122 n+ポリシリコン膜
133〜138 第2の対向電極を構成する固定電極
139 錘
Claims (5)
- シリコン基板(110)と、
前記シリコン基板(110)上に絶縁膜(111、118、120、123)を介して配置されたシリコン層(101)とを備え、
前記シリコン層(101)には、力学量の作用により前記シリコン基板(110)の表面と平行な所定方向に移動可能な可動部と、当該可動部を取り囲む周辺部とが形成された半導体力学量センサであって、
前記可動部は、前記シリコン基板(110)の表面に対して垂直で、かつ、互いに平行な複数の垂直面を有し、当該複数の垂直面で複数の可動電極(112)を形成しており、
前記複数の可動電極(112)にそれぞれ対向して前記可動電極(112)とそれぞれ対向電極を形成するとともに、前記絶縁膜(111、118、120、123)を介して前記複数の可動電極(112)と絶縁体分離された状態で前記シリコン基板(110)上に固定された複数の固定電極(133〜138)とを有し、
前記複数の可動電極(112)は、それぞれ前記シリコン基板(110)の表面に対して垂直な一方の面とその背面である他方の面を有しており、
前記複数の固定電極(133〜138)は、各可動電極の前記一方の面に対向して配置された複数の第1種固定電極(133、135、137)と、各可動電極(112)の前記他方の面に対向して配置された逆極性の複数の第2種固定電極(134、136、138)とがあり、
前記複数の第1種固定電極(133、135、137)と前記複数の第2種固定電極(134、136、138)とは、前記絶縁膜(111、118、120、123)を介して互いに絶縁体分離されており、
前記可動電極(112)、前記固定電極(133〜138)の全ての電極取り出し部が前記シリコン基板(110)と反対側における前記シリコン層(101)の同一表面上に設定されていることを特徴とする半導体力学量センサ。 - 前記複数の固定電極(133〜138)において相互に電気接続する配線層を備えていることを特徴とする請求項1に記載の半導体力学量センサ。
- 前記複数の第1種固定電極(133、135、137)の各々を相互に電気接続する第1種配線層と、前記複数の第2種固定電極(134、136、138)の各々を相互に電気接続する第2種配線層とを備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体力学量センサ。
- 前記可動電極(112)、前記固定電極(133〜138)の電極取り出し部が、前記シリコン基板(110)と反対側における前記シリコン層(101)の表面において略同じ高さに設定されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体力学量センサ。
- 前記可動部は、錘部(139)と、当該錘部(139)から延びる互いに平行な複数の突起部(103〜105)を有し、
当該突起部(103〜105)の前記シリコン基板(110)の表面に対して垂直な面に前記可動電極(112)が設定されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体力学量センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009215634A JP4752078B2 (ja) | 2009-09-17 | 2009-09-17 | 半導体力学量センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009215634A JP4752078B2 (ja) | 2009-09-17 | 2009-09-17 | 半導体力学量センサ |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008007285A Division JP4530050B2 (ja) | 2008-01-16 | 2008-01-16 | 半導体力学量センサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009294225A JP2009294225A (ja) | 2009-12-17 |
JP4752078B2 true JP4752078B2 (ja) | 2011-08-17 |
Family
ID=41542499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009215634A Expired - Lifetime JP4752078B2 (ja) | 2009-09-17 | 2009-09-17 | 半導体力学量センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4752078B2 (ja) |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5944875A (ja) * | 1982-09-06 | 1984-03-13 | Nissan Motor Co Ltd | 梁構造体を有する半導体装置 |
JPS61114123A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-05-31 | Hitachi Ltd | 振動ジヤイロ |
JPS62232171A (ja) * | 1986-04-02 | 1987-10-12 | Nissan Motor Co Ltd | 半導体加速度センサ |
JPS63154915A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-28 | Hitachi Ltd | 振動子の駆動・検出回路装置 |
JPH01143962A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Fujikura Ltd | 半導体加速度センサ |
JP2924200B2 (ja) * | 1990-01-18 | 1999-07-26 | 富士電機株式会社 | ねじり振動子およびその応用素子 |
JP2682181B2 (ja) * | 1990-02-02 | 1997-11-26 | 日本電気株式会社 | 微小可動機械機構 |
DE4003473A1 (de) * | 1990-02-06 | 1991-08-08 | Bosch Gmbh Robert | Kristallorientierter bewegungssensor und verfahren zu dessen herstellung |
US5090254A (en) * | 1990-04-11 | 1992-02-25 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Polysilicon resonating beam transducers |
DE4022495A1 (de) * | 1990-07-14 | 1992-01-23 | Bosch Gmbh Robert | Mikromechanischer drehratensensor |
DE4022464C2 (de) * | 1990-07-14 | 2000-12-28 | Bosch Gmbh Robert | Beschleunigungssensor |
JPH04115165A (ja) * | 1990-09-05 | 1992-04-16 | Ricoh Co Ltd | 加速度センサ |
JP2899664B2 (ja) * | 1991-01-16 | 1999-06-02 | 日本航空電子工業株式会社 | 振動型角速度センサ |
JP2773460B2 (ja) * | 1991-03-05 | 1998-07-09 | 日本電気株式会社 | 半導体加速度センサ |
-
2009
- 2009-09-17 JP JP2009215634A patent/JP4752078B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009294225A (ja) | 2009-12-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4737276B2 (ja) | 半導体力学量センサおよびその製造方法 | |
US20130126993A1 (en) | Electromechanical transducer and method of producing the same | |
US9908771B2 (en) | Inertial and pressure sensors on single chip | |
JPH05304303A (ja) | 加速度センサ及びその製造方法 | |
US20100162823A1 (en) | Mems sensor and mems sensor manufacture method | |
JP5874609B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP3638290B2 (ja) | 半導体力学センサ | |
JP5664292B2 (ja) | 変位センサおよびその製造方法、半導体ウェハ | |
JP2008175825A (ja) | 半導体力学量センサ | |
JP4752078B2 (ja) | 半導体力学量センサ | |
JP4530050B2 (ja) | 半導体力学量センサ | |
JP3725059B2 (ja) | 半導体力学量センサ | |
JP4063272B2 (ja) | 半導体力学量センサ | |
JP3725078B2 (ja) | 半導体力学量センサの製造方法 | |
JP3633555B2 (ja) | 半導体力学量センサ | |
JP4783914B2 (ja) | 半導体力学量センサおよび半導体力学量センサの製造方法 | |
TWI632358B (zh) | 電容式壓力感測器及方法 | |
JP2006030209A (ja) | 半導体力学量センサの製造方法 | |
JP2004245844A (ja) | 半導体力学量センサ | |
JP2009164171A (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP4175309B2 (ja) | 半導体力学量センサ | |
JP2000065583A (ja) | 半導体力学量センサ | |
JP2002181551A (ja) | 半導体力学量センサ | |
JP2000046563A (ja) | 半導体力学量センサ | |
JP4783915B2 (ja) | 半導体力学量センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100518 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100914 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110201 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110330 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110419 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110502 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130603 Year of fee payment: 2 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130603 Year of fee payment: 2 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130603 Year of fee payment: 2 |