JP2013140237A5 - - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 35
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 21
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 3
- 239000010408 film Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011290281A JP5881417B2 (ja) | 2011-12-29 | 2011-12-29 | マスクブランク用合成石英ガラス基板の複屈折仕様決定方法、マスクブランク用合成石英ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011290281A JP5881417B2 (ja) | 2011-12-29 | 2011-12-29 | マスクブランク用合成石英ガラス基板の複屈折仕様決定方法、マスクブランク用合成石英ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013140237A JP2013140237A (ja) | 2013-07-18 |
JP2013140237A5 true JP2013140237A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2015-01-15 |
JP5881417B2 JP5881417B2 (ja) | 2016-03-09 |
Family
ID=49037723
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011290281A Active JP5881417B2 (ja) | 2011-12-29 | 2011-12-29 | マスクブランク用合成石英ガラス基板の複屈折仕様決定方法、マスクブランク用合成石英ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5881417B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6084507B2 (ja) * | 2012-04-16 | 2017-02-22 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
JP6195777B2 (ja) * | 2013-10-22 | 2017-09-13 | Hoya株式会社 | 複屈折の測定方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
JP6536185B2 (ja) | 2014-06-13 | 2019-07-03 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラス基板の製造方法 |
JP6536192B2 (ja) * | 2015-06-10 | 2019-07-03 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラス基板の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005255423A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Asahi Glass Co Ltd | 合成石英ガラス製フォトマスク基板およびフォトマスク |
JP2006251781A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-09-21 | Asahi Glass Co Ltd | マスクブランクス |
JP4692745B2 (ja) * | 2005-02-25 | 2011-06-01 | 株式会社ニコン | マスク基板、フォトマスク、露光方法、露光装置の管理方法、及びデバイス製造方法 |
JP4675745B2 (ja) * | 2005-10-25 | 2011-04-27 | 株式会社東芝 | フォトマスク用基板の選別方法、フォトマスク作製方法及び半導体装置製造方法 |
JP2008070730A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Sony Corp | マスクブランクス選定方法、複屈折性指標の算出方法、リソグラフィ方法、マスクブランクス選定装置、複屈折性指標算出装置およびそのプログラム |
-
2011
- 2011-12-29 JP JP2011290281A patent/JP5881417B2/ja active Active