JP2013139382A - 多孔質基材の修飾方法および修飾された多孔質基材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明による多孔質基材の修飾方法は、多孔質基材上に少なくとも1つの金属水酸化物をコーティングする工程、および前記金属水酸化物層を有する多孔質基材を焼成し、前記金属水酸化物層を、連続相を有する金属酸化物層に変換させ、修飾された多孔質基材を形成する工程を含む。本発明による修飾された多孔質基材は、多孔質基材、および前記多孔質基材上にコーティングされた連続相を有する金属水酸化物層(ここで、前記連続相を有する金属水酸化物層は、第1金属の酸化物および前記第1金属と異なる第2金属を含む)を含む。
【選択図】なし
Description
316多孔質ステンレスからなる基材(以下「316PSS」と称する)を、Li+およびAl3+を含む塩基性溶液に1時間浸漬した後、乾燥させた。Li+およびAl3+を含む塩基性溶液を調製する際には、まず、約0.1〜0.4gのLi−Al金属間化合物をセラミック製の乳鉢で粉砕して、粒径が約100〜1000μmの粉体を得た。本実施例では、Li含有量は、Li−Al金属間化合物の全質量を基準にして、約18〜21質量%であった。次いで、Li−Al金属間化合物の粉体を不活性ガス(例えば、アルゴンガスまたは窒素ガス)で気泡攪拌した100mLの純水に入れた。Li−Al金属間化合物の粉体は、ガス曝露後の純水と反応することにより、その大部分が当該純水に溶解した。攪拌を数分間続けた。そして、孔径No.5Aのフィルターを用いて、不純物を除去することにより、Li+およびAl3+を含む清澄な塩基性溶液が得られた。本実施例では、Li+およびAl3+を含む塩基性溶液は、pH値が約11.0〜12.3、誘導結合プラズマ発光分光分析装置(ICP−AES)で測定されたLi+濃度が約200〜600ppm、Al3+濃度が約200〜1100ppmであった。上記の浸漬工程および乾燥工程を再度繰り返して、連続相を有する水酸化アルミニウム層を形成した。この水酸化アルミニウム層は、十分な厚さを有していた。また、この水酸化アルミニウムは、リチウムを含む層状複水酸化物構造を有していた。つまり、多孔質基材である316PSSの表面上に、リチウムを含むアルミニウム水酸化物からなる層状複水酸化物(以下「Li−Al LDH」と称する)をコーティングしてなるLi−Al LDH/316PSSが得られた。Li−Al LDH層の厚さは、約3μmであった。
まず、多孔質基材である316PSSに、実施例1と同様のLDH構造を形成するための方法を3回繰り返すことにより、316PSSの表面をLi−Al LDH層でコーティングした。以下、このように処理された多孔質基材を「Li−Al LDH/316PSS」と称する。
まず、多孔質基材である316PSSの表面孔にアルミナ粒子を充填した。アルミナ粒子の平均粒径は、10μmであった。以下、このように処理された多孔質基材を「Al2O3/316PSS」と称する。次いで、実施例1と同様のLDH構造を形成するための方法を3回繰り返すことにより、Al2O3/316PSSの表面をLi−Al LDH層でコーティングした。以下、このように処理された多孔質基材を「Li−Al LDH/Al2O3/316PSS」と称する。
Claims (11)
- 多孔質基材上に少なくとも1つの金属水酸化物層をコーティングする工程、および
前記金属水酸化物層を有する多孔質基材を焼成し、前記金属水酸化物層を、連続相を有する金属酸化物層に変換させ、修飾された多孔質基材を形成する工程を含むことを特徴とする多孔質基材の修飾方法。 - 前記金属水酸化物層は、層状複水酸化物であり、前記金属水酸化物層のコーティングの方法は、前記多孔質基材を塩基性溶液に浸漬する工程を含み、前記塩基性溶液は、第1金属のイオンおよび前記第1金属のイオンと異なる第2金属のイオンを含む請求項1に記載の多孔質基材の修飾方法。
- 前記第1金属のイオンは、Al3+、Mn3+、Ni3+、Fe3+またはCr3+を含み、かつ前記第2金属のイオンは、Ni2+、Mg2+、Zn2+、Ca2+、Cu2+、Mn2+、Li+、Na+またはK+を含む請求項2に記載の多孔質基材の修飾方法。
- 前記塩基性溶液のpH値は、11.0〜12.3である、前記塩基性溶液は、前記第1金属のイオン濃度が約200〜1100ppmであり、かつ前記第2金属のイオン濃度が約200〜600ppmである請求項2または3に記載の多孔質基材の修飾方法。
- 前記第2金属は、前記金属水酸化物層の全質量を基準にして、約0.5〜35質量%の量で存在する請求項2〜4のいずれか1項に記載の多孔質基材の修飾方法。
- 多孔質基材、および
前記多孔質基材上にコーティングされた連続相を有する金属酸化物層(ここで、前記連続相を有する金属酸化物層は、第1金属の酸化物および前記第1金属と異なる第2金属を含む)を含むことを特徴とする修飾された多孔質基材。 - 前記多孔質基材は、多孔質ステンレスまたは多孔質ニッケル系合金を含む請求項6に記載の修飾された多孔質基材。
- 前記第1金属の酸化物は、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化マンガン、またはこれらの組み合わせを、前記金属酸化物層の厚さは、約0.1〜3μmである請求項6または7に記載の修飾された多孔質基材。
- 前記第2金属は、Ni、Mg、Zn、Ca、Cu、Mn、Li、Na、またはKを含む請求項6〜8のいずれか1項に記載の修飾された多孔質基材。
- 前記第2金属は、前記金属酸化物層の全質量を基準にして、約0.5〜30質量%の量で存在する請求項6〜9のいずれか1項に記載の修飾された多孔質基材。
- 前記多孔質基材は、さらに、その孔内に充填された複数の粒子を、前記複数の粒子は、粒径が約1〜30μmである請求項6〜10のいずれか1項に記載の修飾された多孔質基材。
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