JP2013116851A - ドープiii−nバルク結晶及び自立型ドープiii−n基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ドープIII−N結晶層又はドープIII−Nバルク結晶は、(a)マイクロラマンマッピングを、(i)成長面に平行な方向かつ/又は、(ii)成長方向において行うときには、LPP+モードの測定された周波数位置の標準偏差が、(i)の場合は5%以下であり、(ii)の場合は5%以下であるか、(b)MDPマッピングを、(i)かつ/又は(ii)において行うときには、光伝導度信号の標準偏差が、(i)の場合は5%以下であり、(ii)の場合は5%以下であるか、(c)マイクロフォトルミネセンスマッピングを、(i)かつ/又は、(ii)において行うときには、D0X遷移の線幅の標準偏差が、(i)の場合は5%以下であり、(ii)の場合は5%以下のいずれかである。
【選択図】図1
Description
(i)成長面に平行な方向かつ/又は、
(ii)成長方向において、
本発明に係るLPP+モードの周波数位置によって測定可能な、それぞれ測定された電荷キャリア濃度の標準偏差が、
(i)の場合には、5%以下、好ましくは3%以下、さらに好ましくは2%以下であり、
(ii)の場合には、10%以下、好ましくは7.5%以下、さらに好ましくは5%以下である。
(i)成長面に平行な方向かつ/又は、
(ii)成長方向において、
それぞれ測定されたパラメータ、すなわちマイクロラマンマッピングでのLPP+モードの周波数位置、MDPマッピングでの光伝導度信号、及びマイクロフォトルミネセンスマッピングでのD0X遷移の線幅から選択された標準偏差は、
(i)の場合には、5%以下、好ましくは3%以下、さらに好ましくは2%以下であり、
(ii)の場合には、5%以下、好ましくは3%以下、さらに好ましくは2%以下である。
(i)成長面に平行な方向かつ/又は、
(ii)成長方向において、
マイクロラマンマッピングでは、E2フォノンの測定された半値全幅(半幅)の標準偏差は、結晶品質が優れているため、
(i)の場合には、5%以下、好ましくは3%以下、さらに好ましくは2%以下であり、
(ii)の場合には、5%以下、好ましくは3%以下、さらに好ましくは2%以下である。
マイクロラマンマッピング測定に関しては、上記に記載した測定を参照することができる。
21 石英リアクタ
22 多分割炉
22A 第1の区域
22B 第2の区域
23 ガス供給機構(流入チューブ)
23´ ガス供給機構(流入チューブ)
24 排気システム
25 フランジ
Claims (4)
- 下記のパラメータ(a)〜(c)の中から選択される均質性パラメータによって特徴付けられるドープIII−Nバルク結晶であって、
前記IIIが、Al、Ga及びInから選択された周期表のIII族の少なくとも1つの元素を示し、
(a)前記ドープIII−Nバルク結晶のマイクロラマンマッピングを、(i)成長面に平行な方向かつ/又は、(ii)成長方向において行うときには、
LPP+モードの測定された周波数位置の標準偏差が、(i)の場合は5%以下であり、(ii)の場合は10%以下であること、
(b)前記ドープIII−Nバルク結晶のMDPマッピングを、(i)成長面に平行な方向かつ/又は、(ii)成長方向において行うときには、
光伝導度信号の標準偏差が、(i)の場合は5%以下であり、(ii)の場合は10%以下であること、
(c)前記ドープIII−Nバルク結晶のマイクロフォトルミネセンスマッピングを、(i
)成長面に平行な方向かつ/又は、(ii)成長方向において行うときには、
D0X遷移の線幅の標準偏差が、(i)の場合は5%以下であり、(ii)の場合は10%以下である
ことを特徴とするドープIII−Nバルク結晶。 - 請求項1に記載のドープIII−Nバルク結晶であって、
前記ドープIII−Nバルク結晶のマイクロラマンマッピングを、(i)成長面に平行な方向かつ/又は、(ii)成長方向において行うとき、
E2フォノンの測定された半値全幅の標準偏差が、(i)の場合は5%以下であり、(ii)の場合は5%以下である
ことを特徴とするドープIII−Nバルク結晶。 - 下記のパラメータ(a)〜(c)の中から選択される均質性パラメータによって特徴付けられる自立型ドープIII−N基板であって、
前記IIIが、Al、Ga及びInから選択された周期表のIII族の少なくとも1つの元素を示し、
(a)前記自立型ドープIII−N基板のマイクロラマンマッピングを、(i)成長面に平行な方向かつ/又は、(ii)成長方向において行うときには、
LPP+モードの測定された周波数位置の標準偏差が、(i)の場合は5%以下であり、(ii)の場合は5%以下であること、
(b)前記自立型ドープIII−N基板のMDPマッピングを、(i)成長面に平行な方向かつ/又は、(ii)成長方向において行うときには、
光伝導度信号の標準偏差が、(i)の場合は5%以下であり、(ii)の場合は5%以下であること、
(c)前記自立型ドープIII−N基板のマイクロフォトルミネセンスマッピングを、(i)成長面に平行な方向かつ/又は、(ii)成長方向において行うときには、
D0X遷移の線幅の標準偏差が、(i)の場合は5%以下であり、(ii)の場合は5%以下である
ことを特徴とする自立型ドープIII−N基板。 - 請求項3に記載の自立型ドープIII−N基板であって、
前記自立型ドープIII−N基板のマイクロラマンマッピングを、(i)成長面に平行な方向かつ/又は、(ii)成長方向において行うとき、
E2フォノンの測定された半値全幅の標準偏差が、(i)の場合は5%以下であり、(ii)の場合は5%以下である
ことを特徴とする自立型ドープIII−N基板。
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