JP2013104993A - スクリーン及びスクリーンの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】プロジェクターからの光を適度な角度分布で効率良く正面へ進行させ、高輝度かつ高コントラストな画像を安価に且つ容易に得られるスクリーンが所望されていた。
【解決手段】スクリーンＳ１は、投写光を反射させて表示を行う凹凸付スクリーン基材１を有するスクリーンＳ１であって、金属反射膜２は転写箔１７より転写形成されており、金属反射膜２の表面には保護膜３が形成されている。スクリーンＳ１の製造方法は、転写箔１７をスクリーン素材１１に加熱転写する工程と、スクリーン素材１１の凹凸部を形成する基板変形工程とを備えている。
【選択図】図１

Description

本発明は、スクリーン、及びスクリーンの製造方法に関する。

従来、プロジェクター等の投写型表示装置から投写された投写光をスクリーンで反射して画像を表示するスクリーンが知られている。特許文献１では、凹形状をなし、平面上に配列された複数の凹面部を有し、平面又は平面の延長面上の基準点から離れるに従って、基準点を中心とする放射方向における凹面部のピッチを増大させて凹面部を配列させるスクリーンが開示されている。これにより、プロジェクターからの光を適度な角度分布で効率良く正面へ進行させ、高輝度かつ高コントラストな画像が得られるとしている。

特開２０１０−９６８８３号公報

特許文献１に開示されるスクリーンは、プロジェクターからの投写光を正面方向に効率よく反射させる為、スクリーン上に形成された各凹部の特定位置に金属薄膜から成る反射膜が形成されている。プロジェクターは例えばスクリーンに対して下方に置かれ、そこからの投写光はスクリーンによって正面に向かって反射する。特許文献１には、この投写光を効率よく正面に進行させ、かつ外部からの光の反射を減ずる為に、スクリーンの凹面部の中心付近より上の位置に反射膜が形成されていることが開示されている。

ここで、プロジェクターからの投写光が効率よく映像観賞者側に反射し、更に、コントラストの高い映像が得られるためには、凹部や凹部の特定位置に形成される反射膜が、スクリーンの左右方向の中心軸や、プロジェクターから投写される投写光の光軸に対して精度良く形成されていることが必要となる。
このような高い光学性能を有し、かつ、安価なスクリーン、および、このようなスクリーンを容易に製造することが可能なスクリーンの製造方法が要望されていた。

本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

（適用例１）本適用例にかかるスクリーンは、投写光を反射させて表示領域に表示を行うスクリーンであって、スクリーン基材を備え、前記スクリーン基材は、該スクリーン素材の一方の面に凹面形状、または凸面形状が形成され、前記表示領域内の前記凹面形状、または前記凸面形状に対応する、前記スクリーン基材のいずれかの面に、転写箔に形成された金属反射層から転写形成された金属反射膜をを備えていることを特徴とする。

このようなスクリーンによれば、プロジェクターなどからの投写光を、金属反射膜で反射させ、効率よく映像観賞者側に進行させることができる。
また、スクリーン基材の表示領域内に形成された金属反射膜は、転写箔に形成された金属反射層から転写形成されているので、従来の蒸着装置を用いた斜方蒸着法によらず連続して容易に形成できるようになり、より安価にスクリーンを提供できるようになる。

（適用例２）上記適用例にかかるスクリーンは、前記凹面形状、または前記凸面形状に対応する、前記金属反射膜が転写形成されていない部位には反射低減膜が形成されていることを特徴とする。

このようなスクリーンによれば、プロジェクターからの投写光以外の周囲からの外光の反射を低減することができ、よりコントラストの高いスクリーンを安価に提供できるようになる。

（適用例３）上記適用例にかかるスクリーンは、前記凹面形状、または前記凸面形状に対応する、前記金属反射膜上の一部に反射低減膜が形成されていることを特徴とする。

このようなスクリーンによれば、プロジェクターからの投写光以外の周囲からの外光の反射を低減することができ、よりコントラストの高いスクリーンを安価に提供できるようになる。

（適用例４）上記適用例にかかるスクリーンは、前記表示領域内の凸面形状のほぼ中心に、前記金属反射膜が転写形成されていることを特徴とする。

このようなスクリーンによれば、プロジェクターが、映像観賞者の目の位置と略同じ高さ、もしくは映像観賞者の後方に設置された環境条件であっても、より明るくコントラストの高いスクリーンを安価に提供できる。

（適用例５）上記適用例にかかるスクリーンは、前記スクリーン基材が光不透過基材からなることを特徴とする。

このようなスクリーンによれば、プロジェクターからの投写光以外の周囲からの外光を吸収することができ、よりコントラストの高いスクリーンを安価に提供できるようになる。

（適用例６）上記適用例１にかかるスクリーンは、前記スクリーン基材は光透過基材であり、前記表示領域内の前記凹面形状または凸面形状の中心に相対する裏面の位置に、前記金属反射膜が転写形成されていることを特徴とする。

このようなスクリーンによれば、映像観賞者の目の高さと略同じ高さにプロジェクターがあり、かつ映像鑑賞者の後方に照明がない環境では、映像観賞者やスクリーンの上方に位置する照明などの外光がスクリーン基材を透過し、不要な外光反射光が低減する。このため、プロジェクターから発せられる投写光が効率よく反射され、明るい表示性能を備えた、より安価なスクリーンが容易に提供できる。併せて、前述の反射低減膜も不要となる。

（適用例７）上記適用例にかかるスクリーンは、前記金属反射膜を保護する保護膜が、前記金属反射膜と同時に転写形成されていることを特徴とする。

このようなスクリーンであれば、空気中の水分等が原因となる反射率の劣化を防止できるようになる。また、保護膜が容易に製造でき、汚れにくく長寿命の商品性の高いスクリーンが安価で提供できるようになる。

（適用例８）上記適用例にかかるスクリーンは、前記金属反射膜はアルミニウム薄膜であることを特徴とする。

このようなスクリーンによれば、プロジェクターなどからの投写光の反射率が可視光領域で約８０％以上であり、表示特性が自然色に近く、色づきのない、より表面輝度が高い、安価なスクリーンを提供することができる。

（適用例９）上記適用例にかかるスクリーンは、前記スクリーン基材は硬質塩化ビニル樹脂から成ることを特徴とする。

このようなスクリーンであれば、熱成型温度も１５０℃〜１９０℃程度と比較的低く、成型性も優れ、金属反射膜を形成する表面の表面粗度も小さいスクリーン基材が提供できる。また、金属反射膜の密着性にも優れ、長寿命のスクリーンを提供できる。さらに、巻き癖も発生しない。即ち、巻き取り機構を具備することで、より小型な収納形態を有するスクリーンが提供できるようになる。

（適用例１０）上記適用例にかかるスクリーンは、前記反射低減膜は黒色樹脂塗料の固形物から成ることを特徴とする。

このようなスクリーンであれば、映像観賞者の上方に位置する照明などの外光の反射光強度がより低減し、不要な外光反射光が映像観賞者の目に入らないようになる。このため、プロジェクターから発せられる投写光が効率よく映像観賞者に反射され、明るい表示性能を備えたスクリーンが容易に提供できる。

（適用例１１）本適用例にかかるスクリーンの製造方法は、投写光を反射させて表示を行うスクリーンの製造方法であって、スクリーン素材のいずれかの面に、転写箔により少なくとも金属反射膜を転写形成する反射膜転写工程と、前記スクリーン素材のいずれかの面に、平面型により凹面形状または凸面形状を成型しスクリーン基材を形成する基材変形工程と、を有することを特徴とする。

このようなスクリーンであれば、金属反射膜の形成方法の一例である金属材料の蒸着法によらず蒸着膜と同等な高反射率である反射膜をより安価に製造することができる。また、あらかじめ大面積の転写箔に金属反射層を形成しておくことにより、スクリーン製造コストの大幅な削減が実現できる。

（適用例１２）上記適用例にかかるスクリーンの製造方法は、前記反射膜転写工程と、前記基材変形工程と、を同時に行なうことを特徴とする。

このようなスクリーンの製造方法であれば、スクリーン基材の基材変形工程と同時に反射膜形成工程を行なうことができるようになる。その結果、スクリーン製造の加工費の大幅な削減が実現できスクリーンをより安価に製造することができる。

（適用例１３）上記適用例にかかるスクリーンの製造方法は、前記スクリーン基材のいずれかの面に反射低減膜を形成する反射低減膜形成工程をさらに有することを特徴とする。
このようなスクリーンの製造方法であれば、反射低減膜を形成する工程を有するので、よりコントラストの高いスクリーンを製造することができる。

（適用例１４）上記適用例にかかるスクリーンの製造方法は、前記反射膜転写工程と前記基材変形工程と、さらに前記反射低減膜形成工程を同時に行なうことを特徴とする。

このようなスクリーンの製造方法であれば、スクリーンをより安価に製造することができる。

（適用例１５）上記適用例にかかるスクリーンの製造方法は、前記基材変形工程で使用する前記平面型の面上の少なくとも２つ以上のコーナーに対応した位置に形成された位置マークと、前記金属反射膜を転写する基となる前記転写箔上の少なくとも２つ以上のコーナーに対応した位置に形成された位置マークと、が重なるように、前記平面型と前記転写箔の位置を合わせる位置合わせ工程を含むことを特徴とする。

このようなスクリーンの製造方法であれば、転写箔の金属反射層もしくはスクリーン上の各々の凹面形状、または凸面形状の所望の位置に自在に、且つ正確に金属反射膜が形成できるようになる。
より具体的には、転写箔の金属反射層もしくは熱溶融接着層を、あらかじめ、印刷法、フォトリソグラフィー法等を用いて微細パターン化加工する。このようにして製造された大面積転写箔は、加工費が安価である。このような転写箔の位置マークを、平面型の位置マークと重なるように位置合わせを行い、スクリーン基材の基材変形工程の一例である加熱プレスすることでスクリーン基材上に金属反射膜が、所望の位置に形成できるようになる。その結果、スクリーン製造の加工費の大幅な削減が実現できる。

（適用例１６）上記適用例にかかるスクリーンの製造方法は、前記基材変形工程、及び前記反射膜転写工程は加熱プレス工程を含むことを特徴とする。

このようなスクリーンの製造方法であれば、スクリーン基材の基材変形工程と同時に反射膜形成工程を行なうことができるようになる。その結果、スクリーン製造の加工費の大幅な削減が実現できる。

（適用例１７）上記適用例にかかるスクリーンの製造方法は、反射低減剤の噴霧工程を含むことを特徴とする。

このようなスクリーンの製造方法であれば、スクリーンの一面に形成された凹面形状や凸面形状が損なわれる虞がなく、傷等の防止により外観歩留りを向上することが出来るようになる。また、凹面形状や凸面形状が損傷することがない為、プロジェクターなどからの投写光を効率よく反射することができるようになる。

実施形態にかかるスクリーンＳ１の概略断面図。 実施形態にかかるスクリーンＳ２の概略断面図。 実施形態にかかるスクリーンＳ３の概略断面図。 実施形態にかかるスクリーンＳ４の概略断面図。 実施形態にかかるスクリーンＳ５の概略断面図。 実施形態にかかるスクリーンＳ６の概略断面図。 実施形態にかかる反射膜転写工程の概略断面図。 実施形態にかかる基板変形工程の概略断面図。 実施形態にかかる反射低減膜形成工程の概略断面図。 実施形態にかかる反射膜形成及び基板変形工程の概略断面図。 実施形態にかかる反射低減膜形成工程の概略断面図。 実施形態にかかる反射膜形成及び基板変形工程の概略図。 実施形態にかかるスクリーンＳ１の光の進路を表す図。 実施形態にかかるスクリーンＳ４の光の進路を表す図。 実施形態にかかるアライメントマークと判別マークの一例を示す上面図。 実施形態にかかるアライメントマークと判別マークの記された位置を示す斜視図。 実施形態にかかるスクリーンＳ１〜Ｓ４の凹面形状または凸面形状の配列位置を示す図。 実施形態にかかるスクリーンＳ５〜Ｓ６の凹面形状または凸面形状の配列位置を示す図。 反射膜転写工程と基材変形工程を同時に行う工程の概略図。 反射低減層が印刷形成された反射低減層付転写箔の概念図。 金属反射層と金属反射層の保護層と反射低減層との転写を同時に行う工程の概略図。

以下の実施形態を、図面を参照して説明する。
本実施形態において、図の上側を鉛直線方向の上側（上部）とし、図の下側を鉛直線方向の下側（下部）として説明する。
図１〜図６は、スクリーン投写面が鉛直線方向に延在するように直立させ、投写面方向である図の右側方向に映像観賞者（観賞者）、およびプロジェクターが配置された状態を、使用状態の一例として示している。

（実施形態１）
（スクリーンの構造）
図１は本実施形態に関わるスクリーンＳ１の断面を模式的に示した図である。
図１に示すように、スクリーンＳ１は、スクリーン基材としての凹凸付スクリーン基材１を備えており、凹凸付スクリーン基材１は、光不透過基材からなるスクリーン素材１１の一方の面に複数の凹面形状１００ａが形成されたものである。
各凹面形状１００ａの表面全域には金属反射膜２が形成されている。さらに、金属反射膜２の表面には保護膜３が形成されている。また、凹凸付スクリーン基材１に形成された各凹面形状１００ａの一部に反射低減膜４が形成されている。

スクリーン素材１１は、硬質塩化ビニルから成る。他に、ポリエチレン、ポリプロピレン、スチレン樹脂、ブタジエン樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、メチルペンテン、ブチルペンテン、ポリカーボネイト等の熱可塑性樹脂を用いてもよい。
スクリーン素材１１に形成される凹面形状１００ａは、図１７に示すように、スクリーンＳ１に相対して下部に設定された点を中心として、円弧状の配列位置２１に沿って形成されている。凹面形状１００ａの曲率半径は例えば１００μｍ程度である。図１７では、凹面形状１００ａの配列位置２１を概念的に間隔の開いた線で示している。実際の配列位置２１の円弧は近接しており、隣接する凹面形状１００ａどうしによって形成される稜線の対角方向の距離の最小値は例えば１００μｍ程度である。

金属反射膜２はスクリーンＳ１に入射する光、そのうち主にプロジェクターからの光、を反射させるために形成されている。金属反射膜２は厚み約０．１μｍのアルミニウム蒸着膜から成る。他に銀等の蒸着膜、光学多層膜であってもよい。

保護膜３は、金属反射膜２の表面を保護するために形成されている。保護膜３は、厚み２μｍのポリメチルメタアクリレート樹脂を６０重量部とテフロン（登録商標）パウダーを４０重量部の混合物から成る。また、他の熱可塑性樹脂、例えばエポキシ樹脂等が使用できる。一方、他の耐摩擦剤としてポリエチレンパウダー、天然ワックス、合成ワックス等も使用できる。また、酸化シリコン、酸化アルミニウム等の薄膜を用いても良い。

反射低減膜４は、スクリーンＳ１に入射する光、そのうち特にプロジェクターからの光以外の光（いわゆる外光）が映像鑑賞者側に反射することを低減させるために形成されている。本実施形態では、反射低減膜４は入射する光を吸収する性質を備えることによって、結果的に反射を低減させている。反射低減膜４は、厚み２μｍのアクリル樹脂バインダーと炭素粒子の混合物から成る。他の樹脂、例えばポリアミド樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂をバインダーとして用いても良い。炭素粒子の他に、黒色顔料粒子を用いても良い。

スクリーンＳ１にプロジェクター１６の投写光、及び外光が入射した場合の光の進路を表した概念図が図１３である。図１３において、スクリーンＳ１に対して下方に置かれたプロジェクター１６からの投写光のうち進路Ａを通ってくる光は、凹面形状１００ａ内において金属反射膜２で反射され、進路Ｂを通って観賞者側に進行する。一方、部屋の天井に設置されている照明装置などからの外光はスクリーンＳ１に対して上方から照射される。したがって、スクリーンＳ１の凹面形状１００ａの表面において、外光は照明装置に対向する下側の面に入射する。進路Ｃに沿って凹凸付スクリーン基材１に入射した外光は、その入射する位置に形成された反射低減膜４により吸収され、反射光の強度が極めて小さくなり、観賞者側へ進行しなくなる。

（スクリーンの製造方法）
図１に記載したスクリーンＳ１の製造方法について説明する。
本実施形態では、スクリーンＳ１は、反射膜転写工程、基材変形工程、反射低減膜形成工程を経て製造される。

図７に反射膜転写工程の概略図を示す。
反射膜転写工程は、上部に位置する上プレス盤９と、下部に位置する下プレス盤１０との間に、スクリーン素材１１と転写箔１７を重ねて挟み込み、加熱圧着をすることで転写を行う。
図７に示すように、あらかじめ加熱された下プレス盤１０の略平坦な面の上面にスクリーン素材１１をセットし、さらにスクリーン素材１１の上面に転写箔１７をセットする。
転写箔１７は、２０μ程度の厚みの転写箔基材１２、接着層６、金属反射層７の保護層８、金属反射層７、及び熱溶融接着層５の順番に積層された積層体である。これらの層は、各々がサブμから数μの層で、金属の連続蒸着法もしくは樹脂材料の塗布法、印刷コート法等で転写箔基材１２の一面（表面）上に積層され形成されている。
スクリーン素材１１の上面に転写箔１７をセットする場合は、スクリーン素材１１の上面と、熱溶融接着層５とが対向し、転写箔基材１２が積層されていない他の面と、上プレス盤９の略平坦な面とが対向するように位置する。

このようにセットした各部材を、加熱された上プレス盤９と下プレス盤１０とを用いて加熱圧着を行う。熱により熱溶融接着層５が溶融し金属反射層７と保護層８とがスクリーン素材１１に転写される。この工程が加熱プレス工程に相当する。
転写箔基材１２の表面上に残った接着層６が加熱圧着により接着機能を失うので、スクリーン素材１１に転写された保護膜３から転写箔基材１２を剥離する。このようにして、金属反射膜２、および保護膜３が転写されているスクリーン素材１８が形成される。
なお、本実施形態では、１５０℃から１６０℃で加熱圧着をしている。

図８に基材変形工程の概略図を示す。
基材変形工程は、上部に位置する上プレス盤９と、下部に位置する下プレス盤１０との間に、一方の面が略平坦であり対向する他の面が凸凹形状である平板状の凸平型１３と、前述のスクリーン素材１８を重ねて挟み込み、加熱しながらプレスをすることでスクリーン素材１８のいずれかの面に凹面形状を形成する。
図８に示すように、下プレス盤１０の略平坦な面の上面に、凸平型１３の一方の面が下プレス盤１０と対向するようにセットする。
次に、前述のスクリーン素材１８を、スクリーン素材１１と、上プレス盤９の略平坦な面とが対向し、保護膜３と凸平型１３とが対向するように、あらかじめ加熱された凸平型１３の上面にセットする。その後加熱した上プレス盤９と下プレス盤１０とを用いて加熱プレスを行う。この工程が加熱プレス工程に相当する。
この基材変形工程により、スクリーン素材１１の成型と、保護膜３、及び金属反射膜２の変形が進行して、一方の面に凹面形状が形成されたスクリーン中間体２０が得られる。

図９に反射低減膜形成工程の概略図を示す。
反射低減膜形成工程は、スクリーン基材としてのスクリーン中間体２０に、反射低減剤の噴霧工程を行い、反射低減膜を形成する。
図９に示すように、スクリーン中間体２０を、例えば、凹凸付スクリーン基材１が下側、保護膜３、及び金属反射膜２が上側となり、長尺方向が水平方向に沿うように置く。図９において、スクリーン中間体２０は、スクリーンＳ１の図１に示す使用状態時に、鉛直線方向の上側となる部位が図中左側となり、下側となる部位が図中右側となるように載置されている。
スクリーン中間体２０は、図中左側より噴霧装置１４に充填された反射低減剤が、噴射後に進路Ｅを通り、スクリーン中間体２０上に噴霧され塗布される。その後固化し反射低減膜４が形成される。

反射低減剤は、スクリーン中間体２０の凹面形状１００ａの形成面に対して傾斜して進行する進路Ｅを通り、図中左上方の斜め方向から噴霧される。進路Ｅを通って噴霧された反射低減剤は凹面形状１００ａの端部にある凸部に妨げられ、凹面形状１００ａの略左半分の部位には塗布されない。言い換えると、凹面形状１００ａの端部にある凸部が、塗布された反射低減剤を遮蔽し、反射低減剤は、図１において下部にあたる凹面形状１００ａの略右半分の部位のみに塗布されることになる。このようにして図１に示したスクリーンＳ１が提供される。

（実施形態２）
次に、実施形態２に関わるスクリーン、およびその製造方法について説明する。上述の実施形態と重複する内容については説明を省略する。

（スクリーンの構造）
本実施形態に関わるスクリーンの構造は、実施形態１と同様である。

（スクリーンの製造方法）
上述の実施形態１では、スクリーンＳ１は、反射膜転写工程、基材変形工程、反射低減膜形成工程を経て製造されるが、本実施形態では、反射膜転写工程と基材変形工程を同時に行う。

図１９に、反射膜転写工程と基材変形工程を同時に行う工程の概略図を示す。
図１９に示すように、あらかじめ加熱された下プレス盤１０上に、凸平型１３の略平坦な一方の面が下プレス盤１０と対向するようにセットする。
さらに凸平型１３の上面に、転写箔基材１２の積層されていない他の面が対向するように転写箔１７をセットする。転写箔１７の上面に、熱溶融接着層５と対向するようにスクリーン素材１１をセットする。

転写箔１７は実施形態１と同様の積層体である。本実施形態２では、実施形態１の反射膜転写工程（図７参照）のセット方向を上下反転させてセットしており、このようにセットした各部材を、加熱された上プレス盤９と下プレス盤１０とを用いて加熱圧着を行う。すると、熱により熱溶融接着層５が溶融し金属反射層７と保護層８とがスクリーン素材１１に転写される。転写と同時に凸平型１３によりスクリーン素材１１の変形が進行する。
即ち、スクリーン素材１１の成型と、保護層８（保護膜３）、及び金属反射層７（金属反射膜２）の変形が同時に進行する。加熱圧着をした後に、スクリーン素材１１に転写された保護膜３から転写箔基材１２を剥離する。このようにして、スクリーン中間体２０が得られる。
その後、実施形態１と同様に反射低減膜４を形成しスクリーンＳ１が得られる。

（実施形態３）
次に、実施形態３に関わるスクリーン、およびその製造方法について説明する。上述の実施形態と重複する内容については説明を省略する。

（スクリーンの構造）
本実施形態に関わるスクリーンの構造は、実施形態１と同様である。

（スクリーンの製造方法）
本実施形態では、実施形態１で使用した転写箔１７の代わりに、反射低減層２３を追加印刷した反射低減層付転写箔２２を用いて反射膜転写工程と基材変形工程を同時に行う。これにより、前述の反射低減層形成工程を、反射膜転写工程および基材変形工程と同時に行なう。

図２０は、反射低減層２３が印刷形成された反射低減層付転写箔２２の概念図である。反射低減層付転写箔２２は、実施形態１と同様に、２０μ程度の厚みの転写箔基材１２に、熱溶融接着層５、金属反射層７、金属反射層７の保護層８が形成され、加えて反射低減層２３が印刷形成された積層体である。
さらに、反射低減層付転写箔２２には、アライメントマークも印刷されている。このアライメントマークと判別マークを用いて位置あわせを行う。アライメントマークや位置合わせの詳細については後述する。

図２１に示すように、本実施形態では、反射低減層付転写箔２２を用いて実施形態２（図１９参照）と同様に加熱プレスを行う。このような方法により、金属反射層７、金属反射層７の保護層８、及び反射低減層２３の転写が、スクリーン素材１１の成型と同時に行われ、更に保護層８（保護膜３）、及び金属反射層７（金属反射膜２）、及び反射低減層２３の変形も同時に行われる。

（実施形態４）
次に、実施形態４に関わるスクリーン、およびその製造方法について説明する。上述の実施形態と重複する内容については説明を省略する。

（スクリーンの構造）
図２は本実施形態に関わるスクリーンＳ２の断面を模式的に示した図である。
図２に示すように、スクリーンＳ２の凹凸付スクリーン基材１は、スクリーンＳ１と同様に、スクリーン素材１１の一方の面に複数の凹面形状１００ａが形成されたものである。
各凹面形状１００ａの表面において、金属反射膜２は凹面形状１００ａの上側の部分に形成されている。これは、スクリーンＳ１に対して下方に置かれたプロジェクター１６からの投写光は、凹面形状１００ａの表面においてプロジェクター１６に対向する上側の面に入射するので、その入射光を映像鑑賞者に向けて反射させるためである。さらに、金属反射膜２の表面には保護膜３が形成されている。
また、各凹面形状１００ａの表面において金属反射膜２が転写形成されていない部位には反射低減膜４が形成されている。本実施形態では、反射低減膜４は光を吸収する機能を有していてもよいが、単に反射を防止する機能のみを有していてもよい。反射防止機能を有する反射低減膜４は、例えば、ポリテトラフルオロメチルメタクリレート等の高分子化合物で形成される。
本実施形態に関わるスクリーンＳ２に入射したプロジェクターからの投写光は、上述の実施形態に関わるスクリーンＳ１と同様に、映像鑑賞者に向けて反射される。一方、外光は、反射低減膜４が光を吸収する機能を有していている場合はそこで吸収され、反射低減膜４が反射防止機能のみの場合はそれを透過し、光不透過基材からなるスクリーン素材１１によって吸収される。

（スクリーンの製造方法）
図１０に反射膜形成工程、及び基材変形工程の概略図を示す。
本実施形態では、実施形態２で使用した転写箔１７の代わりに、金属反射層７、保護層８、接着層６が点在した転写箔１９を用いて反射膜転写工程と基材変形工程を同時に行う。これにより、前述の反射低減層形成工程を、反射膜転写工程、および基材変形工程と同時に行なう。
図１０に示すように、あらかじめ加熱された下プレス盤１０の略平坦な平面上に、凸平型１３の略平坦な一方の面が下プレス盤１０と対向するようにセットし、さらに凸平型１３の上面に、転写箔基材１２の積層されていない他の面が対向するように転写箔１９をセットする。
転写箔１９は、２０μ程度の厚みの転写箔基材１２、接着層６、金属反射層７の保護層８、金属反射層7、及び熱溶融接着層５の積層体である。金属反射層７、保護層８、及び接着層６は、事前に、スクリーン素材１１表面に形成される凹面形状１００ａの配置位置、及び各々の凹面形状１００ａ内に所望する金属反射膜２の転写位置と一致するように、パターン化され、点在して存在している。各々の層は、上述のように厚さがサブμから数μで、金属アルミニウムの連続蒸着法もしくは樹脂材料の塗布法、印刷コート法、フォトリソ法等で微細加工されている。
転写箔１９の上面にはスクリーン素材１１が対向するように設置される。

このようにセットした各部材に対して、加熱された上プレス盤９と下プレス盤１０とを用いて加熱プレスを行う。
熱により熱溶融接着層５が溶融し金属反射層７と保護層８とがスクリーン素材１１の所望の位置に転写され成型（変形）される。加熱プレスをした後に、凹凸付スクリーン基材１に転写された金属反射膜２の保護膜３から転写箔基材１２を剥離する。このようにして、スクリーンＳ２のスクリーン中間体２０が形成される。

ここで、凸平型１３の凹面形状１００ａの形成位置と、転写箔１９に点在した金属反射層７の位置とを精密に位置合わせすることが必要である。次にその位置合わせ工程について図１５、１６を用いて説明をする。

図１５は、凸平型１３と、転写箔１９とを重ねたときコーナーに現れる、アライメントマークと判別マークの一例を示す上面図であり、図１６は、凸平型１３の上面に、転写箔１９を設置したときのアライメントマークと判別マークの記された位置を示す斜視図の概略図である。
図１６に示すように、凸平型１３の上面に、転写箔１９を重ねて設置した場合、転写箔１９の４箇所のコーナーには図１５に示すような円形を四半分とした扇形形状の穴１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄが４個形成されている。
これら４個の扇形形状の穴１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄは、円形の中心を通り、平面視では十字となる均一な幅の転写箔基材１２に接して設けられている。以下この形状をアライメントマークと呼ぶ。
転写箔１９内に点在する金属反射層７等の配置分布は、前述のアライメントマークを基準として形成している。

一方、凸平型１３の４箇所のコーナーには、図１５に示したエル字状の判別マーク１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄが形成されている。凸平型１３に形成された凸形状は、前述の判別マーク１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄを基準として形成される配列位置が決まっている。

即ち、前述のアライメントマークの穴１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄと、判別マーク１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄと、が重なるように凸平型１３と転写箔１９の位置を合わせることにより、凹凸付スクリーン基材１の所望の位置に、金属反射膜２と保護膜３を形成することができる。
本実施形態のアライメントマーク（穴１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄ）と、判別マーク１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄと、が位置マークに相当する。

スクリーンＳ２に形成される反射低減膜４は、前述のスクリーンＳ１の製造方法として記載した方法と同様に形成できる為、反射低減膜形成工程の説明は省略する。

（実施形態５）
次に、実施形態５に関わるスクリーン、およびその製造方法について説明する。上述の実施形態と重複する内容については説明を省略する。

（スクリーンの構造）
図３はスクリーンＳ３の断面を模式的に示した図である。
図３に示すように、スクリーンＳ３の凹凸付スクリーン基材１は、スクリーン素材１１の一方の面に複数の凸面形状１００ｂが形成されたものである。形成された凸面形状１００ｂの平面的な配置はスクリーンＳ１の凹面形状１００ａと同様である。
各凸面形状１００ｂの表面において、スクリーンに対して下方に置かれるプロジェクターに対向する下側の部分に金属反射膜２が形成されている。さらに、金属反射膜２の表面には保護膜３が形成されている。また、各凸面形状１００ｂの表面において、金属反射膜２が転写形成されていない部位には反射低減膜４が形成されている。

スクリーンＳ３にプロジェクターの投写光、及び外光が入射した場合、スクリーンＳ３の下部に設置されたプロジェクターからの投写光は、凸面形状１００ｂの金属反射膜２で反射され観賞者側に進行する。一方で、反射低減膜４に入射した外光は、反射光の強度が極めて小さくなり、観賞者側へ進行しなくなる。このことは、実施形態のスクリーンＳ１やＳ２の場合と同様であるため詳細な説明は省略する。

（スクリーンの製造方法）
スクリーンＳ３の製造方法は、上述の実施形態に関わるスクリーンＳ２の製造方法に対して、凸平型１３の代わりに凹平型を用いることが異なる。よって、反射膜転写工程、及び基材変形工程についての説明は省略する。
上記実施形態の凸平型、及び本実施形態の凹平型が平面型に相当する。

次に、反射低減膜形成工程について説明する。
図１１は、本実施形態の反射低減膜形成工程を表した断面図である。
上記の実施形態１のスクリーン中間体２０と同様にスクリーン中間体２０を置く。図１１において、スクリーン中間体２０は、スクリーンＳ３の図３に示す使用状態時に、鉛直線方向の上側となる部位が図中左側となり、下側となる部位が図中右側となるように載置されている。
スクリーン中間体２０は、図中左側より噴霧装置１４に充填された反射低減剤が、噴射後に進路Ｅを通り、スクリーン中間体２０上に噴霧され塗布される。その後固化し反射低減膜４が形成される。

反射低減剤はスクリーン中間体２０の凸面形状１００ｂの形成面に対して傾斜して進行する進路Ｅを通り、図中左上方の斜め方向から噴霧される。進路Ｅを通って噴霧された反射低減剤は、凸面形状１００ｂが凸形状であるため、凸面形状１００ｂの中央にある凸部に妨げられ凸面形状１００ｂの略右半分の部位には塗布されない。言い換えると、反射低減剤は、凸面形状１００ｂ表面の略左半分の部位が反射低減剤を遮蔽し、凸面形状１００ｂ表面の略右半分の部位は塗布されず、図３において上部にあたる凸面形状１００ｂ表面の略左半分の部位のみに塗布されることになる。このようにして図３に示したスクリーンＳ３が提供される。

（実施形態６）
次に、実施形態６に関わるスクリーンおよびその製造方法について説明する。上述の実施形態と重複する内容については説明を省略する。

（スクリーンの構造）
図４は本実施形態に関わるスクリーンＳ４の断面を模式的に示した図である。
図４に示すように、スクリーンＳ４の凹凸付スクリーン基材１は、スクリーンＳ３と同様に、スクリーン素材１１の一方の面に複数の凸面形状１００ｂが形成されたものである。
また、各凸面形状１００ｂの形成面の中心付近には金属反射膜２が形成されている。さらに、金属反射膜２の表面には保護膜３が形成されている。

図１４は、スクリーンＳ４にプロジェクターの投写光、及び外光が入射した場合の光の進路を表した概念図である。図１４において、プロジェクターは観賞者の目線高さの後方に置かれる。プロジェクター１６からの投写光は、進路Ａを通り、凹凸付スクリーン基材１上の凸面形状１００ｂの中心付近に形成された金属反射膜２で反射し、進路Ｂを通り観賞者側に進行する。
一方で、外光は、進路Ｃより凹凸付スクリーン基材１に入射し、前述の凸面形状１００ｂ間の谷部に入射し、観賞者方向へ反射光が進行することは極めて少なくなる。

（スクリーンの製造方法）
スクリーンＳ４の製造方法については、スクリーンＳ３の製造方法と同様であるが、金属反射膜２および保護膜３の転写位置が異なるのみである。このため詳細な説明は省略する。
以上のように、実施形態２〜５に関わるスクリーンＳ１〜Ｓ４においては、スクリーン素材１１の形状を成型する基板変形工程と、転写箔１７，１９に形成された金属反射膜をスクリーン素材１１に転写する反射膜転写工程とを同時に行うことができる利点を有する。

（実施形態７）
次に、実施形態７に関わるスクリーンおよびその製造方法について説明する。上述の実施形態と重複する内容については説明を省略する。

（スクリーンの構造）
図５は本実施形態に関わるスクリーンＳ５の断面を模式的に示した図である。
図５に示すように、スクリーンＳ５の凹凸付スクリーン基材１は、光透過性樹脂からなるスクリーン素材１１の一方の面に複数の凸面形状１００ｂが形成されたものである。各凸面形状１００ｂの中心付近に相対する裏面側の位置には金属反射膜２が形成されている。さらに、金属反射膜２の表面には保護膜３が形成されている。

スクリーン素材１１に形成される凸面形状１００ｂの配列ピッチについて説明する。
図１８に示すように、凸面形状１００ｂは、図５のようにセットされたスクリーンＳ５に相対して水平方向に延びて垂直方向に並ぶ直線状の配列位置２１に沿って形成されている。図１８では、凸面形状１００ｂの配列位置２１を概念的に線で示している。

スクリーンＳ５にプロジェクターの投写光、及び外光が入射した場合の光の進路について図５を参考にして説明する。プロジェクターは観賞者の目線の高さで後方に置かれる。プロジェクターからの投写光は、光透過性を有する凹凸付スクリーン基材１を通過し、金属反射膜２で反射し、再び凹凸付スクリーン基材１を通過し、観賞者側に進行する。
一方で、スクリーンＳ５の斜め上方から凸面形状１００ｂの形成面に入射した外光のうち、光透過性を有する凹凸付スクリーン基材１を通過し、隣り合う金属反射膜２の間を通った光は、凸面形状１００ｂ形成面の対向面から抜けるため、観賞者方向へ反射光が進行することは極めて少なくなる。

（スクリーンの製造方法）
スクリーンＳ５の製造方法について説明する。
スクリーンＳ５の製造方法は、上述の実施形態に関わるスクリーンＳ１〜４の製造方法に対して、金属反射膜２および保護膜３の転写形成面が異なる。また、光透過性樹脂からなるスクリーン素材１１を用いていることにより反射低減膜形成工程を省略している。

図１２に、実施形態にかかる反射膜形成工程、及び基材変形工程の概略図を示した。
図１２に示すように、あらかじめ加熱された下プレス盤１０上に、凹平型１５の略平坦な一方の面が下プレス盤１０と対向するようにセットする。
さらに、凹平型１５の上面に、スクリーン素材１１を挟んで、熱溶融接着層５が対向するように転写箔１９がセットされている。
転写箔１９は、前述のように、転写箔基材１２、接着層６、保護層８、金属反射層７、及び熱溶融接着層５の積層体である。これらの層は、あらかじめスクリーンＳ５表面の凸面形状１００ｂの配置位置、及び各々の凸面形状１００ｂ内の所望する金属反射膜２の位置と一致するように事前にパターン化され、点在して存在している。
このようにセットした各部材を、加熱された上プレス盤９と下プレス盤１０とを用いて加熱圧着を行う。そして、凹凸付スクリーン基材１に転写された保護膜３から転写箔基材１２を剥離する。このようにして、スクリーンＳ５が形成される。

（実施形態８）
次に、実施形態８に関わるスクリーン、およびその製造方法について説明する。上述の実施形態と重複する内容については説明を省略する。

（スクリーンの構造）
図６は本実施形態に関わるスクリーンＳ６の断面を模式的に示した図である。
スクリーンＳ６の凹凸付スクリーン基材１は、光透過性樹脂からなるスクリーン素材１１の一方の面に複数の凹面形状１００ａが形成されたものである。各凹面形状１００ａの中心付近に相対する裏面側の位置には金属反射膜２が形成されている。さらに、金属反射膜２の表面には保護膜３が形成されている。凹面形状１００ａのスクリーン素材１１においての平面的な配置はスクリーンＳ５と同様である。

スクリーンＳ６にプロジェクターの投写光、及び外光が入射した場合の光の進路について図６を参考にして説明する。プロジェクターは観賞者の目線の高さで後方に置かれる。プロジェクターからの投写光は、光透過性を有する凹凸付スクリーン基材１を通過し、金属反射膜２で反射し、再び凹凸付スクリーン基材１を通過し、観賞者側に進行する。
一方で、スクリーンＳ６の斜め上方から凹面形状１００ａの形成面に入射した外光のうち、光透過性を有する凹凸付スクリーン基材１を通過し、隣り合う金属反射膜２の間を通った光は、凹面形状１００ａ形成面の対向面から抜けるため、観賞者方向へ反射光が進行することは極めて少なくなる。

（スクリーンの製造方法）
スクリーンＳ６の製造方法は、上述の実施形態に関わるスクリーンＳ５の製造方法に対して、凹平型１５の代わりに凸平型を用いることが異なる。よって、詳細な説明は省略する。
スクリーンＳ５、及びスクリーンＳ６の凹凸付スクリーン基材１の裏面に形成された金属反射層７の転写形成位置は、各々のスクリーンＳ５，Ｓ６の凹面形状１００ａの中心、もしくは凸面形状１００ｂの中心に位置して形成されているが、その位置合わせの手段については、上述した位置マークとしてのアライメントマークおよび判別マークを用いることで達成できる。

上述した実施形態によれば、スクリーンＳ１〜Ｓ６では、凹凸付スクリーン基材１上の凹面形状１００ａまたは凸面形状１００ｂに対応して金属反射膜２が転写形成されているので、プロジェクター１６からの投写光を、金属反射膜２で反射させ、効率よく観賞者側に進行させることができる。

また、凹面形状１００ａまたは凸面形状１００ｂに対応して反射低減膜４が形成されているので、外光はその反射光の強度を極めて小さくし、観賞者側へ進行しなくすることができる。

さらには、凹凸付スクリーン基材１に光不透過性樹脂を用いることで、外光を効率よくスクリーン素材１１に吸収させ、観賞者の目に入らないようにすることができる。

さらには、凹凸付スクリーン基材１に光透過性樹脂を用いることで、外光を効率よくスクリーンの裏側へ透過させ、観賞者の目に入らないようにすることができる。

また、金属反射膜２がアルミニウム薄膜であれば、プロジェクターからの投写光を効率よく観賞者の目に進行させることができる。

前述のスクリーンＳ１〜Ｓ６の製造方法によれば、凹凸付スクリーン基材１の凹面形状１００ａ、または凸面形状１００ｂの形成と、金属反射層７、及び保護層８の変形とを同時に進行させることができる。さらに、凹面形状１００ａ、または凸面形状１００ｂを形成する基板変形工程と同時に、金属反射膜２を転写形成する反射膜転写工程とを行なうことができる。これにより、従来の凹面形状、または凸面形状に金属反射膜を形成する工程として周知の金属の真空蒸着による方法では達成できることのない高効率な製造方法を提供できる。

さらには、凸平型１３に判別マーク、及び転写箔１９にアライメントマークを付与することで、金属反射膜２を転写する際に、金属反射膜２の位置と凹面形状１００ａ、または凸面形状１００ｂの形成面の中心位置を容易に合わせることができる。

さらには、凹面形状１００ａ、または凸面形状１００ｂの配置、凹面形状１００ａや凸面形状１００ｂに対する金属反射膜２などの配置を、所望の位置に行なうことが容易となり、より安価なスクリーンが提供できるようになる。

１…凹凸付スクリーン基材、１００ａ…凹面形状、１００ｂ…凹面形状、２…金属反射膜、３…保護膜、４…反射低減膜、５…熱溶融接着層、６…接着層、７…金属反射層、８…保護層、９…上プレス盤、１０…下プレス盤、１１…スクリーン素材、１２…転写箔基材、１３…凸平型、１４…噴霧装置、１５…凹平型、１６…プロジェクター、１７…転写箔、１８…スクリーン素材、１９…転写箔、１９ａ，１９ｂ，１９ｃ，１９ｄ…穴、２０…スクリーン中間体、２１…配列位置、２２…反射低減層付転写箔、２３…反射低減層、１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ…判定マーク、１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ，６Ｓ…スクリーン、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ…進路。

Claims (17)

1. 投写光を反射させて表示領域に表示を行うスクリーンであって、
   スクリーン基材を備え、
   前記スクリーン基材は、該スクリーン素材の一方の面に凹面形状、または凸面形状が形成され、
   前記表示領域内の前記凹面形状、または前記凸面形状に対応する、前記スクリーン基材のいずれかの面に、転写箔に形成された金属反射層から転写形成された金属反射膜を備えていることを特徴とするスクリーン。
2. 請求項１に記載のスクリーンであって、
   前記凹面形状、または前記凸面形状に対応する、前記金属反射膜が転写形成されていない部位には反射低減膜が形成されていることを特徴とするスクリーン。
3. 請求項１に記載のスクリーンであって、
   前記凹面形状、または前記凸面形状に対応する、前記金属反射膜上の一部に反射低減膜が形成されていることを特徴とするスクリーン。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載のスクリーンであって、
   前記表示領域内の凸面形状のほぼ中心に、前記金属反射膜が転写形成されていることを特徴とするスクリーン。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載のスクリーンであって、
   前記スクリーン基材が光不透過基材からなることを特徴とするスクリーン。
6. 請求項１に記載のスクリーンであって、
   前記スクリーン基材は光透過基材であり、前記表示領域内の前記凹面形状、または凸面形状の中心に相対する裏面の位置に、前記金属反射膜が転写形成されていることを特徴とするスクリーン。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載のスクリーンであって、
   前記金属反射膜を保護する保護膜が、前記金属反射膜と同時に転写形成されていることを特徴とするスクリーン。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載のスクリーンであって、
   前記金属反射膜はアルミニウム薄膜であることを特徴とするスクリーン。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載のスクリーンであって、
   前記スクリーン素材は硬質塩化ビニル樹脂から成ることを特徴とするスクリーン。
10. 請求項２に記載のスクリーンであって、
    前記反射低減膜は黒色樹脂塗料の固形物から成ることを特徴とするスクリーン。
11. 投写光を反射させて表示を行うスクリーンの製造方法であって、
    スクリーン素材のいずれかの面に、転写箔により少なくとも金属反射膜を転写形成する反射膜転写工程と、
    前記スクリーン素材のいずれかの面に、平面型により凹面形状または凸面形状を成型しスクリーン基材を形成する基材変形工程と、
    を有することを特徴とするスクリーンの製造方法。
12. 請求項１１に記載のスクリーンの製造方法であって、
    前記反射膜転写工程と、前記基材変形工程と、を同時に行なうことを特徴とするスクリーンの製造方法。
13. 請求項１１または１２に記載のスクリーンの製造方法であって、
    前記スクリーン基材のいずれかの面に反射低減膜を形成する反射低減膜形成工程をさらに有することを特徴とするスクリーンの製造方法。
14. 請求項１３に記載のスクリーンの製造方法であって、
    前記反射膜転写工程と前記基材変形工程と、さらに前記反射低減膜形成工程を同時に行なうことを特徴とするスクリーンの製造方法。
15. 請求項１１〜１４のいずれか一項に記載のスクリーンの製造方法であって、
    前記基材変形工程で使用する前記平面型の面上の少なくとも２つ以上のコーナーに対応した位置に形成された位置マークと、
    前記金属反射膜を転写する基となる前記転写箔上の少なくとも２つ以上のコーナーに対応した位置に形成された位置マークと、が重なるように、前記平面型と前記転写箔の位置を合わせる位置合わせ工程を含むことを特徴とするスクリーンの製造方法。
16. 請求項１１〜１５のいずれか一項に記載のスクリーンの製造方法であって、
    前記基材変形工程、及び前記反射膜転写工程は加熱プレス工程を含むことを特徴とするスクリーンの製造方法。
17. 請求項１３に記載のスクリーンの製造方法であって、
    反射低減剤の噴霧工程を含むことを特徴とするスクリーンの製造方法。

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