JP2013101927A5 - 発光モジュールの作製方法 - Google Patents

Claims (5)

1. 素子基板と、発光素子と、封止材と、拡散反射層と、を有し、
   前記素子基板は、ガスバリア性を有し、
   前記素子基板は、ガラス層を有し、
   前記発光素子は、前記素子基板の一方の面と前記封止材とで封止され、
   前記拡散反射層は、前記素子基板の他方の面に設けられ、
   前記拡散反射層は、拡散反射率が７５％以上１００％未満であり、
   前記発光素子は、第１の電極と、第２の電極と、発光性の有機化合物を含む層と、を有し、
   前記発光性の有機化合物を含む層は、前記第１の電極と前記第２の電極との間に設けられ、
   前記第１の電極は、前記素子基板と前記発光性の有機化合物を含む層との間に設けられ、
   前記ガラス層は、前記素子基板の一方の面側に設けられ、
   前記第１の電極及び前記第２の電極は、前記発光性の有機化合物を含む層が発する光を透過し、
   前記封止材の前記発光性の有機化合物を含む層が発する光を透過する領域は、前記発光素子と重なり、
   前記素子基板は、前記発光性の有機化合物を含む層が発する光を透過し、
   前記素子基板の屈折率は、前記発光性の有機化合物を含む層の屈折率との差が０．２以下である発光モジュールの作製方法であって、
   前記ガラス層は、前記発光素子の形成温度または前記拡散反射層の形成温度のいずれよりも高い温度で形成される発光モジュールの作製方法。
2. 請求項１において、
   前記ガラス層は、３００℃以上１７００℃以下で形成され、且つ、鉛、亜鉛、バリウム、チタン及びランタンから選ばれた一をケイ素の他に含む酸化物ガラスである発光モジュールの作製方法。
3. 請求項１または２において、
   前記素子基板の厚さは、５０μｍ以上１０００μｍ以下である発光モジュールの作製方法。
4. 請求項１乃至３のいずれか一において、
   前記拡散反射層は、前記発光性の有機化合物を含む層が発する光に対し２５％未満の透過率を有し、
   前記拡散反射層は、中心粒径が１μｍ以上１００μｍ以下の粒子を母材中に有し、
   前記母材の屈折率は、前記素子基板の屈折率との差が０．２以下、または、前記素子基板の屈折率以上であって、
   前記粒子の屈折率と前記母材の屈折率との差が０．３以上である発光モジュールの作製方法。
5. 請求項１乃至３のいずれか一において、
   前記拡散反射層は、前記発光性の有機化合物を含む層が発する光に対し２５％未満の透過率を有し、
   前記拡散反射層は、中心粒径が１μｍ以上１００μｍ以下の粒子を母材中に有し、
   前記粒子の屈折率は、前記素子基板の屈折率との差が０．２以下、または、前記素子基板の屈折率以上であって、
   前記粒子の屈折率と前記母材の屈折率との差が、０．３以上である発光モジュールの作製方法。