JP2013092474A5 - - Google Patents
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 34
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 25
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 9
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011235357A JP5919728B2 (ja) | 2011-10-26 | 2011-10-26 | 分光測定装置 |
| US13/650,439 US8848196B2 (en) | 2011-10-26 | 2012-10-12 | Spectrophotometer having prompt spectrophotometric measurement |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011235357A JP5919728B2 (ja) | 2011-10-26 | 2011-10-26 | 分光測定装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013092474A JP2013092474A (ja) | 2013-05-16 |
| JP2013092474A5 true JP2013092474A5 (enExample) | 2014-11-27 |
| JP5919728B2 JP5919728B2 (ja) | 2016-05-18 |
Family
ID=48172116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011235357A Active JP5919728B2 (ja) | 2011-10-26 | 2011-10-26 | 分光測定装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8848196B2 (enExample) |
| JP (1) | JP5919728B2 (enExample) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5811789B2 (ja) * | 2011-11-09 | 2015-11-11 | セイコーエプソン株式会社 | 分光測定装置 |
| JP6098051B2 (ja) * | 2012-07-04 | 2017-03-22 | セイコーエプソン株式会社 | 分光測定装置 |
| JP2015141209A (ja) * | 2014-01-27 | 2015-08-03 | セイコーエプソン株式会社 | アクチュエーター制御装置、光学モジュール、及び電子機器 |
| JP6601007B2 (ja) * | 2015-06-18 | 2019-11-06 | セイコーエプソン株式会社 | 分光測定装置、画像形成装置、及び分光測定方法 |
| JP6679959B2 (ja) | 2016-02-02 | 2020-04-15 | セイコーエプソン株式会社 | 分光測定装置、及び分光測定方法 |
| JP6897226B2 (ja) * | 2017-03-28 | 2021-06-30 | セイコーエプソン株式会社 | 光学モジュール及び光学モジュールの駆動方法 |
| DE102020208313A1 (de) | 2020-07-02 | 2022-01-05 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optische Analyseeinrichtung und Verfahren zum Betreiben einer optischen Analyseeinrichtung |
| DE102020208314A1 (de) | 2020-07-02 | 2022-01-20 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optische Analyseeinrichtung und Verfahren zum Betreiben einer optischen Analyseeinrichtung |
| JP7517139B2 (ja) * | 2020-12-24 | 2024-07-17 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変光学フィルター |
Family Cites Families (52)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3660761A (en) * | 1970-01-29 | 1972-05-02 | Datamax Corp | Automatic equalization system for data transmission channels |
| US6674562B1 (en) * | 1994-05-05 | 2004-01-06 | Iridigm Display Corporation | Interferometric modulation of radiation |
| JPH07243963A (ja) | 1994-03-07 | 1995-09-19 | Yazaki Corp | 光共振器とその製造方法 |
| US7839556B2 (en) * | 1994-05-05 | 2010-11-23 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for modulating light |
| US7826120B2 (en) * | 1994-05-05 | 2010-11-02 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method and device for multi-color interferometric modulation |
| US5999240A (en) * | 1995-05-23 | 1999-12-07 | Colorlink, Inc. | Optical retarder stack pair for transforming input light into polarization states having saturated color spectra |
| US7898722B2 (en) * | 1995-05-01 | 2011-03-01 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Microelectromechanical device with restoring electrode |
| US6940631B2 (en) * | 2000-07-03 | 2005-09-06 | Sony Corporation | Optical multilayer structure, optical switching device, and image display |
| JP2002071562A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-03-08 | Yokogawa Electric Corp | 赤外分光測定装置 |
| US6934033B2 (en) * | 2000-12-28 | 2005-08-23 | Coretek, Inc. | Single-etalon, multi-point wavelength calibration reference |
| JP3835525B2 (ja) | 2001-03-19 | 2006-10-18 | ホーチキ株式会社 | 波長可変フィルタ制御装置 |
| JP2002277640A (ja) | 2001-03-22 | 2002-09-25 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 波長追尾型光フィルタモジュール、光フィルタモジュールの波長追尾方法、及び波長追尾型レーザ光受信装置 |
| WO2002088660A1 (fr) * | 2001-04-27 | 2002-11-07 | Anritsu Corporation | Dispositif et procede de mesure des proprietes de longueur d'onde employant une lumiere dont la longueur d'onde change continuellement |
| JP2003177093A (ja) * | 2001-12-12 | 2003-06-27 | Yokogawa Electric Corp | 赤外分析装置 |
| JP3517409B2 (ja) * | 2001-12-20 | 2004-04-12 | サンテック株式会社 | 光信号分析装置 |
| JP3812550B2 (ja) * | 2003-07-07 | 2006-08-23 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変光フィルタ |
| JP2005099206A (ja) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Seiko Epson Corp | 波長可変フィルタおよび波長可変フィルタの製造方法 |
| JP3770326B2 (ja) * | 2003-10-01 | 2006-04-26 | セイコーエプソン株式会社 | 分析装置 |
| JP2005165067A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Seiko Epson Corp | 波長可変フィルタおよび波長可変フィルタの製造方法 |
| JP2005250376A (ja) | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Seiko Epson Corp | 光変調器及び光変調器の製造方法 |
| JP2005305614A (ja) | 2004-04-23 | 2005-11-04 | Seiko Epson Corp | 微小構造体の製造方法、微小構造体、波長可変光フィルタ及びマイクロミラー |
| JP2006220623A (ja) | 2005-02-14 | 2006-08-24 | Denso Corp | ファブリペロー干渉計、それを用いた赤外線センサ装置 |
| GB0521251D0 (en) | 2005-10-19 | 2005-11-30 | Qinetiq Ltd | Optical modulation |
| GB0521248D0 (en) | 2005-10-19 | 2005-11-30 | Qinetiq Ltd | Optical communications |
| US7958776B2 (en) * | 2007-09-06 | 2011-06-14 | Chunhai Wang | Atomic force gradient microscope and method of using this microscope |
| DE102008011123B4 (de) * | 2008-02-26 | 2012-09-06 | Eads Deutschland Gmbh | Verfahren zur Bestimmung der Entfernung eines eine IR-Signatur emittierenden Objekts |
| US8228492B2 (en) * | 2008-08-25 | 2012-07-24 | Regina Reimer | Solar-powered light intensity measurement device |
| JP2010151984A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Olympus Corp | 可変形状鏡システム |
| US8384905B2 (en) * | 2009-11-10 | 2013-02-26 | Corning Incorporated | Tunable light source for label-independent optical reader |
| JP2011106936A (ja) | 2009-11-17 | 2011-06-02 | Seiko Epson Corp | 分光測定装置、および分析装置 |
| JP5428805B2 (ja) * | 2009-11-30 | 2014-02-26 | セイコーエプソン株式会社 | 干渉フィルター、光センサー、および光モジュール |
| JP5569002B2 (ja) * | 2010-01-21 | 2014-08-13 | セイコーエプソン株式会社 | 分析機器および特性測定方法 |
| JP2011164374A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、及び波長可変干渉フィルターの製造方法。 |
| JP2011169943A (ja) * | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、光センサーおよび分析機器 |
| JP2011170137A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、光センサーおよび分析機器 |
| JP6010275B2 (ja) * | 2010-03-15 | 2016-10-19 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルター並びにそれを用いた分析機器及び光機器 |
| JP5589459B2 (ja) * | 2010-03-15 | 2014-09-17 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルター及び光フィルターモジュール並びに分析機器及び光機器 |
| JP2011191555A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-09-29 | Seiko Epson Corp | 光フィルターの製造方法、分析機器および光機器 |
| JP5458983B2 (ja) * | 2010-03-15 | 2014-04-02 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルターの製造方法 |
| JP5348032B2 (ja) * | 2010-03-16 | 2013-11-20 | セイコーエプソン株式会社 | 光フィルター並びにそれを用いた分析機器及び光機器 |
| JP5682165B2 (ja) * | 2010-07-23 | 2015-03-11 | セイコーエプソン株式会社 | 干渉フィルター、光モジュール、及び分析装置 |
| JP2012027226A (ja) * | 2010-07-23 | 2012-02-09 | Seiko Epson Corp | 干渉フィルター、光モジュール、及び分析装置 |
| JP2012042584A (ja) * | 2010-08-17 | 2012-03-01 | Seiko Epson Corp | 光フィルター、光フィルターモジュール、分光測定器および光機器 |
| JP5779852B2 (ja) * | 2010-08-25 | 2015-09-16 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置 |
| JP5928992B2 (ja) * | 2010-10-07 | 2016-06-01 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルターの製造方法 |
| JP5609542B2 (ja) * | 2010-10-28 | 2014-10-22 | セイコーエプソン株式会社 | 光測定装置 |
| JP5641220B2 (ja) * | 2010-11-12 | 2014-12-17 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
| JP2012150353A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置 |
| JP5724557B2 (ja) * | 2011-04-07 | 2015-05-27 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置 |
| JP5895414B2 (ja) * | 2011-09-16 | 2016-03-30 | セイコーエプソン株式会社 | 分光測定装置、及び分光測定方法 |
| JP5811789B2 (ja) * | 2011-11-09 | 2015-11-11 | セイコーエプソン株式会社 | 分光測定装置 |
| JP6015090B2 (ja) * | 2012-04-18 | 2016-10-26 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
-
2011
- 2011-10-26 JP JP2011235357A patent/JP5919728B2/ja active Active
-
2012
- 2012-10-12 US US13/650,439 patent/US8848196B2/en active Active
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