JP2013051153A - 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 - Google Patents
放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013051153A JP2013051153A JP2011189108A JP2011189108A JP2013051153A JP 2013051153 A JP2013051153 A JP 2013051153A JP 2011189108 A JP2011189108 A JP 2011189108A JP 2011189108 A JP2011189108 A JP 2011189108A JP 2013051153 A JP2013051153 A JP 2013051153A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation
- target
- electron passage
- electron
- support surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 177
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 25
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 8
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000005219 brazing Methods 0.000 abstract description 72
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000945 filler Substances 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 65
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 9
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002708 Au–Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019582 Cr V Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEIHULKJZQTQKJ-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Ag] Chemical compound [Cu].[Ag] NEIHULKJZQTQKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CAVCGVPGBKGDTG-UHFFFAOYSA-N alumanylidynemethyl(alumanylidynemethylalumanylidenemethylidene)alumane Chemical compound [Al]#C[Al]=C=[Al]C#[Al] CAVCGVPGBKGDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 or the like Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/16—Vessels; Containers; Shields associated therewith
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/16—Vessels; Containers; Shields associated therewith
- H01J35/165—Vessels; Containers; Shields associated therewith joining connectors to the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/16—Vessels; Containers; Shields associated therewith
- H01J35/18—Windows
- H01J35/186—Windows used as targets or X-ray converters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2235/00—X-ray tubes
- H01J2235/16—Vessels
- H01J2235/165—Shielding arrangements
- H01J2235/166—Shielding arrangements against electromagnetic radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/112—Non-rotating anodes
- H01J35/116—Transmissive anodes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
【解決手段】両端が開口した電子通過路8を有する放射線遮蔽部材7を備え、電子通過路8の一端から電子が入射し、電子通過路8の他端側に設けられたターゲット8に電子を照射して放射線を発生させる放射線発生装置であって、電子通過路8の他端側周囲の放射線遮蔽部材7に設けられたターゲット支持面7bに、ターゲット9の電子が照射される側の面の周縁がろう接され、電子通過路8の他端側の開口部における断面の径が、電子通過路8の一端における断面の径よりも大きいことを特徴とする放射線発生装置。
【選択図】図1
Description
前記電子通過路の一端から電子が入射し、前記電子通過路の他端側に設けられたターゲットに該電子を照射して放射線を発生させる放射線発生装置であって、
前記電子通過路の前記他端側周囲の前記放射線遮蔽部材に設けられたターゲット支持面に、前記ターゲットの前記電子が照射される側の面の周縁がろう接され、
前記電子通過路の前記他端側の開口部における断面の径が、前記電子通過路の前記一端における断面の径よりも大きいことを特徴とする放射線発生装置を提供するものである。
前記電子通過路の一端から電子が入射し、前記電子通過路の他端側に設けられたターゲットに該電子を照射して放射線を発生させる放射線発生装置であって、
前記電子通過路の前記他端側周囲の前記放射線遮蔽部材に設けられたターゲット支持面に、前記ターゲットの前記電子が照射される側の面の周縁がろう接され、
前記ターゲット支持面に、該ターゲット支持面に沿って環状の溝が形成されていることを特徴とする放射線発生装置を提供するものである。
図1を用いて第1の実施形態の放射線発生装置の構成について説明する。図1(a)は本実施形態の放射線発生装置の構成例を示す断面図、図1(b)は図1(a)のアノードを拡大して表した断面図、図1(c)は図1(a)のアノードを放射線取り出し窓側から見たときの平面図である。
図2(a)を用いて第2の実施形態について説明する。図2(a)は本実施形態の放射線発生装置におけるアノードを拡大して表した断面図である。
図2(b)を用いて第3の実施形態について説明する。図2(b)は本実施形態の放射線発生装置におけるアノードを拡大して表した断面図である。
図2(c)を用いて第4の実施形態について説明する。図2(c)は本実施形態の放射線発生装置におけるアノードを拡大して表した断面図である。
図2(d)を用いて第5の実施形態について説明する。図2(d)は本実施形態の放射線発生装置におけるアノードを拡大して表した断面図である。
本発明の第6の実施形態は、放射線発生装置を用いた放射線撮影装置(不図示)である。本実施形態の放射線撮影装置は、放射線発生装置、放射線検出器、信号処理部、装置制御部及び表示部を備えている。放射線検出器は信号処理部を介して装置制御部に接続され、装置制御部は表示部及び電圧制御部に接続されている。放射線発生装置としては、第1〜第5の実施形態の放射線発生装置が好適に用いられる。
比較例として、図3に示す放射線遮蔽部材7を用い、上記実施例と同様のターゲット9を作製した。この後、上記実施例と同様にアノード10を作製し、その他、同様に比較例のための放射線放出源を作製した。また、同様に、内部の真空度をモニターするために圧力計も設置した。この比較例の放射線放出源も5個作製し、それぞれ比較例No.1〜5の放射線放出源とした。
実施例の放射線放出源と比較例の放射線放出源を共に、内圧をモニターしながら、同時に、放射線量を半導体方式の線量計で測定した。駆動は、加速電圧が100kVで、電流が5mA、照射時間が10msec、休止時間が90msecで行った。別途測定した焦点径のサイズから、電子線の直径は1.7mmであった。
Claims (7)
- 両端が開口した電子通過路を有する放射線遮蔽部材を備え、
前記電子通過路の一端から電子が入射し、前記電子通過路の他端側に設けられたターゲットに該電子を照射して放射線を発生させる放射線発生装置であって、
前記電子通過路の前記他端側周囲の前記放射線遮蔽部材に設けられたターゲット支持面に、前記ターゲットの前記電子が照射される側の面の周縁がろう接され、
前記電子通過路の前記他端側の開口部における断面の径が、前記電子通過路の前記一端における断面の径よりも大きいことを特徴とする放射線発生装置。 - 両端が開口した電子通過路を有する放射線遮蔽部材を備え、
前記電子通過路の一端から電子が入射し、前記電子通過路の他端側に設けられたターゲットに該電子を照射して放射線を発生させる放射線発生装置であって、
前記電子通過路の前記他端側周囲の前記放射線遮蔽部材に設けられたターゲット支持面に、前記ターゲットの前記電子が照射される側の面の周縁がろう接され、
前記ターゲット支持面に、該ターゲット支持面に沿って環状の溝が形成されていることを特徴とする放射線発生装置。 - 前記電子通過路の断面の径が、前記ターゲット支持面から前記電子通過路の前記一端に向かって段差を伴って減少することを特徴とする請求項1に記載の放射線発生装置。
- 前記電子通過路の断面の径が、前記ターゲット支持面から前記電子通過路の前記一端まで連続的に減少することを特徴とする請求項1に記載の放射線発生装置。
- 前記電子通過路の断面の径が、前記ターゲット支持面から前記電子通過路の前記一端まで段差を伴って連続的に減少することを特徴とする請求項1に記載の放射線発生装置。
- 前記ターゲット支持面に形成された前記環状の溝の断面形状が、矩形状又は勾配を有する形状であることを特徴とする請求項2に記載の放射線発生装置。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の放射線発生装置と、前記放射線発生装置から放出され被検体を透過した放射線を検出する放射線検出器と、を備えることを特徴とする放射線撮影装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011189108A JP5875297B2 (ja) | 2011-08-31 | 2011-08-31 | 放射線発生管及びそれを用いた放射線発生装置、放射線撮影システム |
US14/127,647 US9251995B2 (en) | 2011-08-31 | 2012-07-17 | Radiation generating tube and radiation imaging apparatus using the same |
PCT/JP2012/068543 WO2013031423A1 (en) | 2011-08-31 | 2012-07-17 | Radiation generating tube and radiation imaging apparatus using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011189108A JP5875297B2 (ja) | 2011-08-31 | 2011-08-31 | 放射線発生管及びそれを用いた放射線発生装置、放射線撮影システム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013051153A true JP2013051153A (ja) | 2013-03-14 |
JP2013051153A5 JP2013051153A5 (ja) | 2014-10-09 |
JP5875297B2 JP5875297B2 (ja) | 2016-03-02 |
Family
ID=46598909
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011189108A Expired - Fee Related JP5875297B2 (ja) | 2011-08-31 | 2011-08-31 | 放射線発生管及びそれを用いた放射線発生装置、放射線撮影システム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9251995B2 (ja) |
JP (1) | JP5875297B2 (ja) |
WO (1) | WO2013031423A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015002074A (ja) * | 2013-06-14 | 2015-01-05 | キヤノン株式会社 | 透過型ターゲットおよび該透過型ターゲットを備える放射線発生管、放射線発生装置、及び、放射線撮影装置 |
JP2015191795A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 株式会社島津製作所 | X線発生装置 |
WO2016009633A1 (en) | 2014-07-18 | 2016-01-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Anode, and x-ray generating tube, x-ray generating apparatus, and radiography system using the same |
JP2016029644A (ja) * | 2014-07-18 | 2016-03-03 | キヤノン株式会社 | X線発生管、x線発生装置、x線撮影システム及びこれらに用いられる陽極 |
KR20190063975A (ko) * | 2017-11-30 | 2019-06-10 | 한국전기연구원 | 빔 전류 측정이 가능한 선형가속기용 엑스선 타켓 |
WO2021240834A1 (ja) * | 2020-05-27 | 2021-12-02 | キヤノン電子管デバイス株式会社 | 固定陽極x線管 |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6039282B2 (ja) | 2011-08-05 | 2016-12-07 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置及び放射線撮影装置 |
CN103733734B (zh) | 2011-08-05 | 2016-04-27 | 佳能株式会社 | 放射线发生装置和放射线成像装置 |
JP5896649B2 (ja) | 2011-08-31 | 2016-03-30 | キヤノン株式会社 | ターゲット構造体及びx線発生装置 |
US20150117599A1 (en) * | 2013-10-31 | 2015-04-30 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
JP2013109902A (ja) * | 2011-11-18 | 2013-06-06 | Canon Inc | 透過型放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
JP5984367B2 (ja) | 2011-12-02 | 2016-09-06 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム |
JP5936895B2 (ja) * | 2012-03-27 | 2016-06-22 | 株式会社リガク | X線発生装置のターゲット及びその製造方法並びにx線発生装置 |
JP6140983B2 (ja) * | 2012-11-15 | 2017-06-07 | キヤノン株式会社 | 透過型ターゲット、x線発生ターゲット、x線発生管、x線x線発生装置、並びに、x線x線撮影装置 |
JP6316019B2 (ja) | 2013-03-06 | 2018-04-25 | キヤノン株式会社 | X線発生管、該x線発生管を備えたx線発生装置及びx線撮影システム |
JP6230389B2 (ja) | 2013-06-05 | 2017-11-15 | キヤノン株式会社 | X線発生管及びそれを用いたx線発生装置とx線撮影システム |
JP6327802B2 (ja) | 2013-06-12 | 2018-05-23 | キヤノン株式会社 | 放射線発生管及びそれを用いた放射線発生装置と放射線撮影システム |
JP2015028879A (ja) * | 2013-07-30 | 2015-02-12 | 東京エレクトロン株式会社 | X線発生用ターゲット及びx線発生装置 |
US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
JP6272043B2 (ja) * | 2014-01-16 | 2018-01-31 | キヤノン株式会社 | X線発生管及びこれを用いたx線発生装置、x線撮影システム |
JP6473316B2 (ja) * | 2014-10-23 | 2019-02-20 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線像撮像用ユニット及びx線顕微鏡 |
JP6456172B2 (ja) * | 2015-02-04 | 2019-01-23 | キヤノン株式会社 | 陽極及びこれを用いたx線発生管、x線発生装置、x線撮影システム |
JP6573380B2 (ja) * | 2015-07-27 | 2019-09-11 | キヤノン株式会社 | X線発生装置及びx線撮影システム |
CN105263251B (zh) * | 2015-10-13 | 2018-02-27 | 上海联影医疗科技有限公司 | 靶组件以及包括该靶组件的直线加速器 |
US10453643B2 (en) * | 2016-03-30 | 2019-10-22 | Moxtek, Inc. | Shielded, transmission-target, x-ray tube |
US10727023B2 (en) | 2018-05-07 | 2020-07-28 | Moxtek, Inc. | X-ray tube single anode bore |
US10989822B2 (en) | 2018-06-04 | 2021-04-27 | Sigray, Inc. | Wavelength dispersive x-ray spectrometer |
CN112470245A (zh) | 2018-07-26 | 2021-03-09 | 斯格瑞公司 | 高亮度x射线反射源 |
DE112019004433T5 (de) | 2018-09-04 | 2021-05-20 | Sigray, Inc. | System und verfahren für röntgenstrahlfluoreszenz mit filterung |
WO2020051221A2 (en) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | Sigray, Inc. | System and method for depth-selectable x-ray analysis |
US11152183B2 (en) | 2019-07-15 | 2021-10-19 | Sigray, Inc. | X-ray source with rotating anode at atmospheric pressure |
US11728122B2 (en) | 2020-10-23 | 2023-08-15 | Moxtek, Inc. | X-ray tube backscatter suppression |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002110075A (ja) * | 2000-10-04 | 2002-04-12 | Shimadzu Corp | 開放型x線管 |
JP2002352755A (ja) * | 2000-12-29 | 2002-12-06 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | フラットパネルx線源を備えるx線撮影装置 |
JP2003505845A (ja) * | 1999-07-26 | 2003-02-12 | フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ | X線陽極およびその製造法 |
JP2007509462A (ja) * | 2003-10-07 | 2007-04-12 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 特にx線源の電子ビームの電子のために透明な窓を製造する方法 |
JP2008135397A (ja) * | 2007-12-26 | 2008-06-12 | Hamamatsu Photonics Kk | X線発生装置 |
WO2008156361A2 (en) * | 2007-06-19 | 2008-12-24 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno | Miniature x-ray source with guiding means for electrons and / or ions |
JP2009021032A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | X線発生管 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3594716B2 (ja) * | 1995-12-25 | 2004-12-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | 透過型x線管 |
JP2002025446A (ja) | 1997-12-04 | 2002-01-25 | Hamamatsu Photonics Kk | X線管の製造方法 |
JP2000306533A (ja) | 1999-02-19 | 2000-11-02 | Toshiba Corp | 透過放射型x線管およびその製造方法 |
JP2002298772A (ja) | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Toshiba Corp | 透過放射型x線管およびその製造方法 |
EP1488441A2 (en) * | 2002-01-31 | 2004-12-22 | The Johns Hopkins University | X-ray source and method for more efficiently producing selectable x-ray frequencies |
US7526069B2 (en) * | 2003-09-16 | 2009-04-28 | Hamamatsu Photonics K.K. | X-ray tube |
JP4878311B2 (ja) | 2006-03-03 | 2012-02-15 | キヤノン株式会社 | マルチx線発生装置 |
JP5294653B2 (ja) | 2008-02-28 | 2013-09-18 | キヤノン株式会社 | マルチx線発生装置及びx線撮影装置 |
JP5570060B2 (ja) | 2010-02-22 | 2014-08-13 | 株式会社小泉製作所 | 仏具 |
JP5416006B2 (ja) | 2010-03-23 | 2014-02-12 | キヤノン株式会社 | X線発生装置及びその制御方法 |
CN103250225B (zh) | 2010-12-10 | 2016-05-25 | 佳能株式会社 | 放射线产生装置和放射线成像装置 |
JP5455880B2 (ja) | 2010-12-10 | 2014-03-26 | キヤノン株式会社 | 放射線発生管、放射線発生装置ならびに放射線撮影装置 |
JP5800578B2 (ja) | 2011-05-31 | 2015-10-28 | キヤノン株式会社 | X線管 |
JP5804777B2 (ja) | 2011-06-01 | 2015-11-04 | キヤノン株式会社 | X線発生管及び、x線発生装置 |
JP5825892B2 (ja) | 2011-07-11 | 2015-12-02 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
JP2013020792A (ja) | 2011-07-11 | 2013-01-31 | Canon Inc | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
JP5791401B2 (ja) | 2011-07-11 | 2015-10-07 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
CN103733734B (zh) | 2011-08-05 | 2016-04-27 | 佳能株式会社 | 放射线发生装置和放射线成像装置 |
JP6039282B2 (ja) | 2011-08-05 | 2016-12-07 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置及び放射線撮影装置 |
JP5896649B2 (ja) | 2011-08-31 | 2016-03-30 | キヤノン株式会社 | ターゲット構造体及びx線発生装置 |
-
2011
- 2011-08-31 JP JP2011189108A patent/JP5875297B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-07-17 US US14/127,647 patent/US9251995B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-17 WO PCT/JP2012/068543 patent/WO2013031423A1/en active Application Filing
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003505845A (ja) * | 1999-07-26 | 2003-02-12 | フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ | X線陽極およびその製造法 |
JP2002110075A (ja) * | 2000-10-04 | 2002-04-12 | Shimadzu Corp | 開放型x線管 |
JP2002352755A (ja) * | 2000-12-29 | 2002-12-06 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | フラットパネルx線源を備えるx線撮影装置 |
JP2007509462A (ja) * | 2003-10-07 | 2007-04-12 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 特にx線源の電子ビームの電子のために透明な窓を製造する方法 |
WO2008156361A2 (en) * | 2007-06-19 | 2008-12-24 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno | Miniature x-ray source with guiding means for electrons and / or ions |
JP2009021032A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | X線発生管 |
JP2008135397A (ja) * | 2007-12-26 | 2008-06-12 | Hamamatsu Photonics Kk | X線発生装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015002074A (ja) * | 2013-06-14 | 2015-01-05 | キヤノン株式会社 | 透過型ターゲットおよび該透過型ターゲットを備える放射線発生管、放射線発生装置、及び、放射線撮影装置 |
JP2015191795A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 株式会社島津製作所 | X線発生装置 |
KR101923837B1 (ko) | 2014-07-18 | 2018-11-29 | 캐논 가부시끼가이샤 | 양극, 및 이를 이용한 x선 발생관, x선 발생 장치, 및 방사선촬영 시스템 |
JP2016029644A (ja) * | 2014-07-18 | 2016-03-03 | キヤノン株式会社 | X線発生管、x線発生装置、x線撮影システム及びこれらに用いられる陽極 |
KR20170031179A (ko) | 2014-07-18 | 2017-03-20 | 캐논 가부시끼가이샤 | 양극, 및 이를 이용한 x선 발생관, x선 발생 장치, 및 방사선촬영 시스템 |
US10032597B2 (en) | 2014-07-18 | 2018-07-24 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray generating tube, X-ray generating apparatus, X-ray imaging system, and anode used therefor |
WO2016009633A1 (en) | 2014-07-18 | 2016-01-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Anode, and x-ray generating tube, x-ray generating apparatus, and radiography system using the same |
EP3428948A1 (en) | 2014-07-18 | 2019-01-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Anode, and x-ray generating tube, x-ray generating apparatus, and radiography system using the same |
US10998161B2 (en) | 2014-07-18 | 2021-05-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Anode, and x-ray generating tube, x-ray generating apparatus, and radiography system using the same |
KR20190063975A (ko) * | 2017-11-30 | 2019-06-10 | 한국전기연구원 | 빔 전류 측정이 가능한 선형가속기용 엑스선 타켓 |
KR102385456B1 (ko) * | 2017-11-30 | 2022-04-12 | 한국전기연구원 | 빔 전류 측정이 가능한 선형가속기용 엑스선 타켓 |
WO2021240834A1 (ja) * | 2020-05-27 | 2021-12-02 | キヤノン電子管デバイス株式会社 | 固定陽極x線管 |
JP7414640B2 (ja) | 2020-05-27 | 2024-01-16 | キヤノン電子管デバイス株式会社 | 固定陽極x線管 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9251995B2 (en) | 2016-02-02 |
JP5875297B2 (ja) | 2016-03-02 |
US20140140480A1 (en) | 2014-05-22 |
WO2013031423A1 (en) | 2013-03-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5875297B2 (ja) | 放射線発生管及びそれを用いた放射線発生装置、放射線撮影システム | |
JP2013051153A5 (ja) | ||
JP6061692B2 (ja) | 放射線発生管及び放射線発生装置及びそれらを用いた放射線撮影装置 | |
US9570264B2 (en) | X-ray generator and X-ray imaging apparatus | |
JP5896649B2 (ja) | ターゲット構造体及びx線発生装置 | |
JP6207246B2 (ja) | 透過型ターゲットおよび該透過型ターゲットを備える放射線発生管、放射線発生装置、及び、放射線撮影装置 | |
JP5854707B2 (ja) | 透過型x線発生管及び透過型x線発生装置 | |
JP5911323B2 (ja) | ターゲット構造体及びそれを備える放射線発生装置並びに放射線撮影システム | |
JP5871529B2 (ja) | 透過型x線発生装置及びそれを用いたx線撮影装置 | |
US20140112450A1 (en) | X-ray emitting target and x-ray emitting device | |
JP2013239317A (ja) | 放射線発生ターゲット、放射線発生装置および放射線撮影システム | |
JP2000306533A (ja) | 透過放射型x線管およびその製造方法 | |
JP6552289B2 (ja) | X線発生管、x線発生装置、x線撮影システム | |
JP2016103451A (ja) | X線発生管、x線発生装置およびx線撮影システム | |
JP6456172B2 (ja) | 陽極及びこれを用いたx線発生管、x線発生装置、x線撮影システム | |
US10242837B2 (en) | Anode and X-ray generating tube, X-ray generating apparatus, and radiography system that use the anode | |
WO2012169143A1 (en) | X-ray emitting target and x-ray emitting device | |
JP6153314B2 (ja) | X線透過型ターゲット及びその製造方法 | |
JP2015060731A (ja) | 放射線発生管及びこれを用いた放射線発生装置、放射線撮影システム | |
JP6381756B2 (ja) | 透過型ターゲットおよび該透過型ターゲットを備える放射線発生管、放射線発生装置、及び、放射線撮影装置 | |
JP2014220096A (ja) | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140822 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140822 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150514 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150519 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150717 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151222 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160119 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5875297 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |