JP6153314B2 - X線透過型ターゲット及びその製造方法 - Google Patents
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また、本発明のX線透過型ターゲットの製造方法は、ダイヤモンド基板の一方の面に、ターゲット金属を含有するターゲット層を形成する工程と、
前記ダイヤモンド基板の前記ターゲット層が形成される面とは反対側の面に、気相成長法または前記ダイヤモンド基板の加熱により、炭素を含有し前記ダイヤモンド基板より高い輻射率を呈する放熱層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
また、本発明のX線透過型ターゲットの製造方法は、ダイヤモンド基板の一方の面に、ターゲット金属を含有するターゲット層を形成する工程と、
前記ダイヤモンド基板の前記ターゲット層が形成される面とは反対側の面に、前記ダイヤモンド基板の結晶構造を変化させて、炭素を含有し前記ダイヤモンド基板より高い輻射率を呈する放熱層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
図1(a)は本発明の放射線透過型ターゲットを用いた放射線発生管の一実施形態を示す断面模式図であり、図1(b)は図1(a)における放射線透過型ターゲット部を拡大した断面模式図である。
図3は本発明の放射線透過型ターゲットを用いた放射線発生管の他の例を示す断面模式図である。
図4に基づいて、本発明に係る放射線撮影システムの一例を説明する。
図1に示す放射線発生管としてX線発生管を用いて、図2に示す放射線発生ユニットを作製した。
支持基板15としての1mmの炭化シリコンの表面に、ターゲット金属14としてタングステンを1μm厚さにてスパッタ成膜した。その後、支持基板15のターゲット金属14を有する面とは反対側の面に、放熱層16として厚さ1μmのダイヤモンドライクカーボンをプラズマCVD法にて形成し、X線を透過するターゲット20を得た。
図3に示す放射線発生管としてX線発生管を用い、放射線発生ユニットを作製した。
Claims (12)
- ダイヤモンド基板と、前記ダイヤモンド基板の一方の面に配置された、ターゲット金属を含有するターゲット層と、を有するX線透過型ターゲットであって、前記ダイヤモンド基板の前記ターゲット層が設けられた面とは反対側の面に、炭素を含有し前記ダイヤモンド基板より高い輻射率を呈する放熱層を有することを特徴とするX線透過型ターゲット。
- 前記放熱層を、X線が透過する位置に有することを特徴とする請求項1に記載のX線透過型ターゲット。
- 前記放熱層は、グラファイトまたはダイヤモンドライクカーボンを含有することを特徴とする請求項1または2に記載のX線透過型ターゲット。
- 前記放熱層はグラファイトを含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のX線透過型ターゲット。
- 前記放熱層はグラファイトであることを特徴とする請求項4に記載のX線透過型ターゲット。
- 前記輻射率は、放射率であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のX線透過型ターゲット。
- 陰極と陽極とを備えて内部が密閉された外囲器と、
前記外囲器内に配置された電子放出源と、
前記電子放出源から放出された電子の照射によりX線を発生させるターゲット金属を有するターゲットと、を有するX線発生管であって、
前記ターゲットが、前記ターゲット金属が前記電子放出源と対向するように配置された、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のX線透過型ターゲットであることを特徴とするX線発生管。 - 前記陽極が回転陽極であることを特徴とする請求項7に記載のX線発生管。
- 請求項7または8に記載のX線発生管を収納容器の中に収容し、前記X線発生管の透過窓から出射されたX線を、前記収納容器に設けられた放出窓から放出するX線発生ユニットと、該X線発生ユニットの前記放出窓から放出されるX線の照射野の広さを調整する可動絞りユニットと、を備えたことを特徴とするX線発生装置。
- 請求項9に記載のX線発生装置と、前記X線発生装置から放出され、被検体を透過したX線を検出するX線検出装置と、前記X線発生装置と前記X線検出装置とを連携制御する制御装置とを備えることを特徴とするX線撮影システム。
- ダイヤモンド基板の一方の面に、ターゲット金属を含有するターゲット層を形成する工程と、
前記ダイヤモンド基板の前記ターゲット層が形成される面とは反対側の面に、気相成長法または前記ダイヤモンド基板の加熱により、炭素を含有し前記ダイヤモンド基板より高い輻射率を呈する放熱層を形成する工程と、を有することを特徴とするX線透過型ターゲットの製造方法。 - ダイヤモンド基板の一方の面に、ターゲット金属を含有するターゲット層を形成する工程と、
前記ダイヤモンド基板の前記ターゲット層が形成される面とは反対側の面に、前記ダイヤモンド基板の結晶構造を変化させて、炭素を含有し前記ダイヤモンド基板より高い輻射率を呈する放熱層を形成する工程と、を有することを特徴とするX線透過型ターゲットの製造方法。
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