JP2013008099A - 光学調整フィルム、並びにそれを使用して得る透明導電フィルム、透明導電積層体、及びタッチパネル - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、視認性に優れた透明導電フィルムとそれに使用する光学調整フィルム、並びに当該透明導電フィルムを使用した透明導電積層体、及びタッチパネルを提供するものである。
【解決手段】本発明は、透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含む光学調整層が形成されている光学調整フィルムであって、光学調整層が、透明フィルム基材側から、第１光学調整層、及び第２光学調整層が順次形成されたものであり、かつ（Ａ）第１光学調整層の屈折率ｎ１が、１．５〜１．７８である（Ｂ）第２光学調整層の屈折率ｎ２が、１．６〜１．８である（Ｃ）ｎ１＜ｎ２の関係を有することを特徴とする光学調整フィルムである。
【選択図】図１

Description

本発明は、表面に透明導電層が形成された透明導電フィルムの透明導電層の一部をエッチングにより除去した場合、透明導電層が除去されずに残存している部分（電極部）と、透明導電層が除去され残存していない部分（非電極部）とで、色目や透明性の違いが目視ではほとんど区別できないため、電極部の存在が目視によりほとんど認識できない（視認できない）透明導電フィルムとそれに使用する光学調整フィルム、並びに当該透明導電フィルムを使用した透明導電積層体、及びタッチパネルに関する。

従来から、透明フィルム基材上に、複数の透明な層（最表層が透明導電層）が形成された透明導電フィルムが広く普及している。
特に最近では、静電容量方式のタッチパネルに使用する透明導電フィルムであって、パターン状の電極部が形成された透明導電フィルム、及びそれを使用して得るタッチパネルの開発が進んでいる。
尚、本発明において、パターン状の電極部とは、少なくとも最表面に形成されている透明導電層をエッチングにより一部除去して、透明導電層が格子状や市松模様状等の所望の模様状に形成されている部分をいい、また、少なくとも透明導電層がエッチングにより除去された部分を非電極部として、以下説明する。
特許文献１には、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のプラスチックフィルムである第１基体（透明フィルム基材）の表面に、少なくともシロキサン系樹脂等の有機物質による有機誘電体層と、無機物質による無機誘電体層と、導電層（透明導電層）とをこの順に積層してなる積層体の導電層の一部をエッチングしてなる透明導電積層体（電極部が形成された透明導電フィルム）、及びそれを使用して得るタッチパネルが記載されている。

そして、エッチングにより、透明導電層を除去した箇所である除去部（非電極部）と、透明導電層が残留している箇所である残留部（電極部）とが形成される旨の記載がある。
また、有機誘電体層について、第１基体表面をより平滑なものとすることにより無機誘電体層を積層し易くし、また、第１基体から析出するオリゴマーが無機誘電体層や導電層まで浸透することを防ぐことにより第１基体と無機誘電体層との密着性を向上させることを目的に形成される旨、さらには、光線屈折率（屈折率）ｎが１．４〜１．６であり、厚さが３〜７８ｎｍである旨が記載されている。
さらに、無機誘電体層については、酸化珪素からなる層であり、厚さが２〜７７ｎｍである旨、無機誘電体層と有機誘電体層の厚さの合計が５〜８０ｎｍである旨が記載されている。

特許第４３６４９３８号公報

透明導電フィルムは、従来から当該透明導電フィルムを使用したタッチパネルとして、銀行のＡＴＭ、鉄道の券売機、カーナビゲーション、コピー機等のオフィス機器等のディスプレィ部分に使用されている。
上記タッチパネルは、抵抗膜方式のタッチパネルとする場合、例えば、ガラス表面に形成した透明導電層と、透明導電フィルムの透明導電層とを対向させたものの間に、あるいは透明導電フィルム２枚を、透明導電層面同士が対向するように配置したものの間に、ドットスペーサーを介在させ、端部に電極を形成した構成が一般的である。
この時使用される透明導電フィルムはパターン状の電極部を形成したもの、形成していないものの何れかが使用される。

次に、スマートフォンに代表される携帯電話や、携帯情報端末等に使用される静電容量方式のタッチパネルについて、本発明に係る透明導電フィルム及び透明導電積層体を図示した図１及び図２を使用して説明する。
まず、図１Ｃに示す通り、Ｘ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部（４Ｐｘ）を有する透明導電フィルム（左側）と、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部（４Ｐｙ）を有する透明導電フィルム（右側）とを製造し、これらを透明粘着剤層で貼り合わせて透明導電積層体を製造する（図２Ａ、Ｂ参照）。
このとき、上記透明導電積層体は、上層の透明導電フィルムの非導電処理面（すなわち、透明フィルム基材側の面）と、下層の透明導電フィルムの導電処理面（すなわち、透明導電層側の面）とが対向するように積層し、透明粘着剤層で貼り合わせる。
また、Ｘ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を有する透明導電フィルムと、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を有する透明導電フィルムとを重ねる際、基本的に、それぞれの透明導電フィルムに形成された電極部同士（すなわち、４Ｐｘと４Ｐｙ）が重ならないように積層される。しかし、実際には、透明導電積層体の構造上、上層の透明導電フィルムと下層の透明導電フィルムに形成された電極部同士（４Ｐｘと４Ｐｙ）が、透明導電積層体の面を正面から目視した際に、上下に重なる部分（Ｏ）がわずかに生じてしまう場合がある（図２Ｃ参照）。
尚、図２中、Ａは透明導電積層体の平面図であり、Ｂは、Ａ中の線Ｂ−Ｂにおける断面図であり、Ｃは、Ａ中の円Ｃで囲まれた部分の拡大図である。

そして、静電容量方式のタッチパネルにおいては、使用される透明導電フィルムの電極部と非電極部とで、色目や透明性の違いが目視ではほとんど区別できないため、電極部の存在が目視によりほとんど認識できない（視認できない）こと、すなわち優れた視認性が求められている。
言い換えると、パターン状の電極部の存在を視認できない程度に、透明導電フィルム全体が均一な色目や透明性を有していることが求められており、その要望は益々強くなってきている。
しかし、特許文献１記載の透明導電積層体（透明導電フィルム）、及びタッチパネルには、下記に示す欠点があった。

１．特許文献１記載の透明導電積層体（透明導電フィルム）は、第１基体（透明フィルム基材）と、透明導電層との間に形成されている層は、無機誘電体層と有機誘電体層のみであり、しかも、無機誘電体層と有機誘電体層の屈折率や厚さが上記範囲であったため、透明導電層の一部をエッチングにより除去した場合、透明導電層が除去されずに残存している部分（電極部）と、透明導電層が除去され残存していない部分（非電極部）とで、色目や透明性の違いが目視で区別できてしまうことから、パターン状の電極部の存在が視認され、透明導電フィルム全体が均一な色目や透明性を有しておらず、現在求められている視認性を満足できないという問題がある。特に、パターン状の電極部が形成された透明導電フィルムを２枚貼り合わせたもの（透明導電積層体）の面を正面から目視した際に、電極部同士が上下に重なる部分は上記問題が顕著であった。
２．従って、上記透明導電フィルムを使用したタッチパネル、特に静電容量方式のタッチパネルも同様に、視認性が問題とされている。

本発明は、上記欠点を除去したものであり、視認性に優れた透明導電フィルムとそれに使用する光学調整フィルム、並びに当該透明導電フィルムを使用した透明導電積層体、及びタッチパネルを提供するものである。

［１］本発明は、透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含む光学調整層が形成されている光学調整フィルムであって、光学調整層が、透明フィルム基材側から、第１光学調整層、及び第２光学調整層が順次形成されたものであり、かつ下記条件（Ａ）〜（Ｃ）を満足することを特徴とする光学調整フィルムである。
（Ａ）第１光学調整層の屈折率ｎ１が、１．５〜１．７８である
（Ｂ）第２光学調整層の屈折率ｎ２が、１．６〜１．８である
（Ｃ）ｎ１＜ｎ２の関係を有する
［２］本発明は、第１光学調整層の厚さが３０〜１５０ｎｍであり、第２光学調整層の厚さが３０〜２００ｎｍである請求項１記載の光学調整フィルムである。
［３］本発明は、光学調整層上に、光学機能層が形成されている上記［１］、又は［２］記載の光学調整フィルムである。
［４］本発明は、上記［１］、又は［２］記載の光学調整フィルムの光学調整層上に、透明導電層が形成されていることを特徴とする透明導電フィルムである。
［５］本発明は、上記［３］記載の光学調整フィルムの光学機能層上に、透明導電層が形成されていることを特徴とする透明導電フィルムである。
［６］本発明は、パターン状の電極部が形成されている上記［４］、又は［５］記載の透明導電フィルムである。
［７］本発明は、上記［６］記載の透明導電フィルム同士を２枚、一方の透明導電フイルムの透明フィルム基材面側と、他方の透明導電フィルムの透明導電層面側とを、透明粘着剤層で貼り合わせたことを特徴とする透明導電積層体である。
［８］本発明は、上記［４］〜［６］何れかに記載の透明導電フィルムを備えたタッチパネルである。
［９］本発明は、上記［７］記載の透明導電積層体を備えた静電容量方式のタッチパネルである。

（１）本発明の透明導電フィルムは、透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含み上記特定の条件を満足する光学調整層、必要により光学機能層、及び透明導電層が順次形成された特徴ある構成を有しているので、少なくとも透明導電層の一部をエッチングにより除去した場合、透明導電層が除去されずに残存している部分（電極部）と、透明導電層が除去され残存していない部分（非電極部）とで、色目や透明性の違いが目視ではほとんど区別できないため、電極部の存在が目視によりほとんど認識できない（視認できない）。従ってパターン状の電極部の存在を視認できない程度に、透明導電フィルム全体が均一な色目や透明性を有しており、視認性に非常に優れている。
（２）従って、上記透明導電フィルムを使用したタッチパネルはもちろん、上記透明導電フィルムを使用した透明導電積層体と、それを使用した静電容量方式のタッチパネルも同様に、視認性に非常に優れている。
（３）本発明の視認性に優れた透明導電フィルムを得るには、透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含み上記特定の条件を満足する光学調整層、及び必要により光学機能層が順次形成された、本発明の光学調整フィルムを使用すれば万全である。

図１は、透明フィルム基材上に、第１光学調整層、第２光学調整層、及び透明導電層が形成された（光学機能層が形成されていない）本発明に係る透明導電フィルムを模式的に示す図であり、Ａは、透明導電フィルムの断面図、Ｂは、パターン状の電極部が形成された透明導電フィルムの断面図、Ｃは、Ｘ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を有する透明導電フィルム（左側）と、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を有する透明導電フィルム（右側）の平面図である（Ｃにおいて図示されている電極は、それぞれの透明導電フィルムに形成されたパターン状の電極部が、Ｘ方向又はＹ方向のどちらに電気的に接続されているかを明確にする目的で記載されており、本発明の透明導電フィルムの一部を表すものではない）。 図２は、二枚の透明導電フィルムを透明粘着剤層により貼り合わせて構成した本発明の透明導電積層体を模式的に示す図であり、Ａは平面図、Ｂは、Ａ中の線Ｂ−Ｂ断面図、Ｃは、Ａ中の円Ｃで囲われた部分の拡大図である。 図３は、図２の透明導電積層体とガラスとを透明粘着剤層により貼り合わせて構成した本発明のタッチパネル（但し、電極は図示していない）の断面図を示す。 図４は、実施例３に係る本発明の透明導電フィルムと、比較例２に係る透明導電フィルムそれぞれについて、波長４００〜８００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線透過率の値から非電極部の光線透過率の値を引いた値（ΔＴ）をプロットしたスペクトルを示す図である。 実施例３に係る本発明の透明導電フィルムと、比較例２に係る透明導電フィルムそれぞれについて、波長４００〜８００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線反射率の値から非電極部の光線反射率の値を引いた値（ΔＲ）をプロットしたスペクトルを示す図である。

まず、本発明の透明導電フィルムについて説明する。
本発明の透明導電フィルムは、透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含み前記特定の条件を満足する光学調整層、必要により光学機能層、及び透明導電層が順次形成された特徴ある構成を有している。

本発明の透明導電フィルムに使用する透明フィルム基材は、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、フッ素フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム等の透明プラスチックフィルムが使用できるが、中でも耐熱性等の点からポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
透明プラスチックフィルムの屈折率は、大よそ１．５〜１．７程度が好ましい。

また、前記透明プラスチックフィルムの片面又は両面に、樹脂からなる透明ハードコート層を形成してもよい。このように、片面又は両面にハードコート層を形成したものも、本発明に係る透明フィルム基材に含まれる。
ハードコード層を透明プラスチックフィルム表面に形成することにより、透明プラスチックフィルムにもともとあったキズを埋めることができるとともに、ハードコート層が形成された透明フィルム基材表面のスベリ性や表面強度が向上するため、後加工の際に透明フィルム基材にキズが発生することを防止できる。特に、ハードコート層を、透明導電層側の透明プラスチックフィルム表面に形成した場合は、上記の点に加え、さらに本発明の透明導電フィルムの導電性をも安定させることができる。
ハードコート層に使用する樹脂は、該ハードコート層が鉛筆硬度２Ｈ以上になるものが好ましく、メラミン系樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂等の透明樹脂が使用でき、厚さは、１〜７μｍが好ましい。
また、透明プラスチックフィルムとハードコート層との間に、透明プラスチックフィルムとハードコート層との密着性を向上する目的で、樹脂からなる易接着樹脂層を形成しておいても構わない。

透明フィルム基材の厚さは、１０〜３００μｍが好ましく、５０〜２６０μｍがより好ましく、５０μｍ〜２００μｍが特に好ましい。
厚さが、１０μｍより薄いと、特にタッチパネルに使用した場合に、指やペン等で入力する際にプラスチックフィルムの強度が十分ではないため、透明導電フィルムの変形が大きくなりすぎて透明導電層にクラックが生じ、その結果表面抵抗率が不安定となる場合があるので好ましくない。また、透明導電フィルムがカールしてしまい、その結果、透明導電フィルムをタッチパネルに組み込むなどの後作業で、作業性が悪くなる場合があるので好ましくない。
他方、厚さが、３００μｍより厚いと、特に抵抗膜方式タッチパネルに使用した場合に、指やペン等で入力する際、透明導電フィルムに荷重をかけて相対する透明導電フィルムに接触させるために必要以上に荷重をかけなければならない問題が生じたり、また透明導電フィルムのコストも上がるため好ましくない。

本発明の透明導電フィルムに形成される、少なくとも樹脂を含む光学調整層は、透明フィルム基材側から、第１光学調整層、及び第２光学調整層が順次形成されたものである。
また、視認性の点から両層は接して形成されるのが好ましい。
そして、光学調整層は下記条件を満足するものである。
（Ａ）第１光学調整層の屈折率ｎ１が、１．５〜１．７８である
（Ｂ）第２光学調整層の屈折率ｎ２が、１．６〜１．８である
（Ｃ）ｎ１＜ｎ２の関係を有する
なお、本発明の透明導電フィルムにおいて、屈折率とは、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率を意味し、分光反射スペクトル測定により測定することができる。また、各層の厚さは物理的な厚さを意味し、蛍光Ｘ線分析装置により測定することができる。

光学調整層は、上記の通り、屈折率の異なる、しかもそれぞれ特定の範囲の屈折率を有する第１光学調整層と第２光学調整層とを積層して形成することで、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を有するものとなるのである。

光学調整層は、少なくとも樹脂を含む薄膜層であり、樹脂のみからなる薄膜層でももちろんよいが、分散剤や光重合開始剤等の添加剤のほか、光学調整層の屈折率を所望の屈折率とする目的で、樹脂に高屈折率微粒子を混入した薄膜層としても構わない。

第１光学調整層は、少なくとも樹脂を含む薄膜層であり、屈折率ｎ１は、１．５〜１．７８であり、より好ましくは、１．６１〜１．６８である。
屈折率ｎ１が上記範囲でないと、例え、後で詳述する第１光学調整層の厚さ、及び第２光学調整層の屈折率ｎ２や厚さを調整しても、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮することができない場合があるので好ましくない。

第１光学調整層に使用する樹脂、及び高屈折率微粒子は、第１光学調整層が上記屈折率ｎ１の範囲を満足することができれば、特に制限はなく、樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等が使用できるが、中でもポリエステル系樹脂が特に好ましい。
また、屈折率ｎ１を調整するための高屈折率微粒子としては、酸化ジルコニウム微粒子、酸化チタン微粒子等が使用でき、混入量は、樹脂に対して３５〜１７０重量％が好ましい。

第１光学調整層の厚さは、３０〜１５０ｎｍが好ましく、より好ましくは６０〜１１０ｎｍである。
厚さが、上記範囲でないと、例え、第１光学調整層の屈折率ｎ１、及び第２光学調整層の屈折率ｎ２や厚さを調整しても、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮することができない場合があるので好ましくない。

第１光学調整層に使用する樹脂の種類や高屈折率微粒子の種類、屈折率ｎ１は、第１光学調整層の所望の屈折率や厚さにより、適宜決定すればよい。

第２光学調整層は、少なくとも樹脂を含む薄膜層であり、屈折率ｎ２は、１．６〜１．８であり、より好ましくは、１．６９〜１．７５である。
屈折率ｎ２が上記範囲でないと、例え、第２光学調整層の厚さ、及び第１光学調整層の屈折率ｎ１や厚さを調整しても、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮することができない場合があるので好ましくない。

第２光学調整層に使用する樹脂、及び高屈折率微粒子は、第２光学調整層が上記屈折率ｎ２の範囲を満足することができれば、特に制限はなく、樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等が使用できるが、中でもアクリル系樹脂が特に好ましい。
また、屈折率ｎ２を調整するための高屈折率微粒子としては、酸化ジルコニウム微粒子、酸化チタン微粒子等が使用でき、混入量は、樹脂に対して６０〜２４０重量％が好ましい。

第２光学調整層の厚さは、３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは７０〜１５０ｎｍである。
厚さが、上記範囲でないと、例え、第２光学調整層の屈折率ｎ２、及び第１光学調整層の屈折率ｎ１や厚さを調整しても、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮することができない場合があるので好ましくない。

第２光学調整層に使用する樹脂の種類や高屈折率微粒子の種類、屈折率ｎ２は、第２光学調整層の所望の屈折率や厚さにより、適宜決定すればよい。

また、第１光学調整層の屈折率ｎ１の範囲と第２光学調整層の屈折率ｎ２の範囲は相当程度重なるが、前記の通り、ｎ１＜ｎ２の関係を満足するものである。
ｎ１＜ｎ２の関係を満足することで、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮することができるのである。
さらに、ｎ１とｎ２の差が、０．０４〜０．１４であれば、視認性の点から万全である。

第１光学調整層、及び第２光学調整層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。

本発明の透明導電フィルムは、上記光学調整層上に、直接、あるいは後述する光学機能層を介して、透明導電層が形成される。
本発明の透明導電フィルムに形成される透明導電層は、透明導電フィルムの最表層に形成される層であり、透明な導電性金属酸化物の薄膜層からなり、本発明の透明導電フィルムに導電性を付与する役割を果たすものである。
透明導電層に使用する透明な導電性金属酸化物薄膜層としては、酸化インジウム薄膜層、酸化スズ薄膜層、酸化亜鉛薄膜層、酸化カドミウム薄膜層、酸化インジウムに酸化スズをドープした薄膜層（ＩＴＯ薄膜層）等、従来透明導電フィルムの透明導電層として使用されている導電性金属酸化物薄膜層が使用できる。
中でも、導電性に優れたＩＴＯ薄膜層が特に好ましい。

透明導電層は、本発明の透明導電フィルムが有する表面抵抗率の大部分を決定する役割を果たすものであり、その表面抵抗率は大よそ５〜１０００Ω／□が好ましく、５〜３００Ω／□であればより好ましい。
また、透明導電層の厚さは、上記表面抵抗率を有する程度の厚さであればよく、使用する透明な導電性金属酸化物薄膜層の種類にもよるが大よそ１０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましい。
厚さが１０ｎｍより薄いと、表面抵抗率が安定しにくくなる傾向が見られ、所望の導電性を安定して得られない場合があるので好ましくない。
他方、厚さが５００ｎｍより厚いと、膜応力により、透明導電層にクラックが生じて導電性が悪くなる場合があるので好ましくない。
より好ましい透明導電層の厚さは、１５ｎｍ〜１００ｎｍである。

透明導電層の形成方法は、従来公知の形成方法が使用でき、真空蒸着法、スパッタリング蒸着法、電子ビーム蒸着法、ＣＶＤ法等の蒸着法や、ゾル−ゲル法などのコーティング法等が使用できる。

本発明の透明導電フィルムに形成される光学機能層は、光学調整層上に形成され、本発明の透明導電フィルムの透明性を向上する役割、及び光学調整層とともに、視認性を向上する役割も果たす。
また、透明フィルム基材や光学調整層からはオリゴマー等が析出する場合があり、該オリゴマー等が透明導電層まで達すると本発明の透明導電フィルムの導電性に影響を与えることがある。
光学機能層は、オリゴマー等が透明導電層に達することを防止する役割、すなわちバリア層としての役割も果たすものである。

光学機能層は、上記役割を果たせるものであれば特に制限はなく、金属酸化物薄膜層、金属化合物薄膜層、樹脂薄膜層等が使用できる。
金属酸化物薄膜層としては、例えば、ケイ素酸化物薄膜層、アルミニウム酸化物薄膜層、マグネシウム酸化物薄膜層等が使用できる。
金属化合物薄膜層としては、例えば、フッ化マグネシウム薄膜層、フッ化カルシウム薄膜層等が使用できる。
樹脂薄膜層としては、ポリエステル系樹脂薄膜層、アクリル系樹脂薄膜層、メラミン系樹脂薄膜層、フッ素系樹脂薄膜層、シロキサン系樹脂薄膜層、シリコーン系樹脂薄膜層等が使用できる。

また、光学機能層は、金属酸化物薄膜層、金属化合物薄膜層、樹脂薄膜層の何れかを１層のみ形成してもよく、これらの薄膜層を２層以上組み合わせて形成しても構わない。
光学機能層を２層以上の積層とする場合は、光学機能層を構成する各層が上記役割を果たす必要はなく、光学機能層全体として上記役割を果たせればよい。
例えば、光学機能層をＡ層、及びＢ層の２層とした場合、透明性を向上する役割と視認性を向上する役割はＡ層及びＢ層からなる光学機能層全体が担い、バリア層としての役割はＢ層のみに担わせることができる。
従って、光学機能層を２層以上の積層とする場合は、光学機能層全体として上記役割を果たすことができればよく、必ずしも光学機能層を構成する各層全てが上記の薄膜層に限定されるわけではない。
但し、光学機能層を２層以上の積層とする場合において、バリア層としての役割を担う層は、透明導電層と接して形成しておくことが好ましい。

また、光学機能層を１層とする場合、前記の金属酸化物薄膜層、金属化合物薄膜層、樹脂薄膜層等の何れかの薄膜層が使用できるが、光学機能層として上記全ての役割を果たすためには、屈折率が１．４以上１．７未満（より好ましくは１．４〜１．５）であることが好ましく、また、厚さが５〜２００ｎｍであるのが好ましい。
厚さが５ｎｍ未満では、光学機能層としての特性が十分に発揮されず、光学調整層との屈折率の差が小さくなり、光学機能層としての役割（透明性を向上する役割、及び光学調整層との併用により視認性を向上する役割）が十分に果たせなくなる場合があるため、好ましくない。
他方、２００ｎｍを超えると、膜応力によりクラックが入りやすくなるで、好ましくない。より好ましい光学機能層の厚さは、１０ｎｍ〜５０ｎｍである。

光学機能層を１層とする場合、光学機能層を、ケイ素酸化物薄膜層としておくのが好ましい。
光学機能層をケイ素酸化物薄膜層とした場合は、ケイ素酸化物は理論上の組成式ではＳｉＯ_２と表されるが、必ずしもＳｉとＯの元素比が厳密に１：２である必要はなく、上記屈折率を満足する範囲で、ＳｉとＯの元素比が多少大きくなったり小さくなったりしているもの（具体的には組成式ＳｉＯｘにおいて、ｘが１．６〜２．１の範囲内にあるもの）も、本発明の透明導電フィルムにて使用されるケイ素酸化物に含まれる。なお、本明細書では、上記ＳｉＯｘ（１．６≦ｘ≦２．１）を代表して、ＳｉＯ_２と表記する。

また、本発明の透明導電フィルムを、静電容量方式のタッチパネルに用いるために、少なくとも透明導電層を、Ｘ方向又はＹ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部として形成しておいてもよい。
また、タッチパネルだけでなく、太陽電池や有機ＥＬ等の透明電極用に使用可能とするために、少なくとも、透明導電層を回路状にした回路を形成しておいても構わない。
パターン状の電極部や回路を形成する方法として、薬品やレーザーを利用したエッチングや、水溶性樹脂層を利用する方法が挙げられる。

例えば、エッチングによりパターン状の電極部を形成する方法では、透明フィルム基材上に、光学調整層、必要により光学機能層、及び透明導電層を順次全面に形成した後、透明導電層上に、レジスト材料をパターン状の電極部の形状に塗布し、エッチング溶液（塩化第二鉄水溶液、よう素酸水溶液、塩酸、王水、シュウ酸水溶液などの溶液）で処理して、レジスト材料が塗布されていない部分（非電極部となる部分）については、少なくとも透明導電層を除去し（すなわち、光学調整層と光学機能層は残存させる）、レジスト材料が塗布された部分（電極部となる部分）については、光学調整層、必要により光学機能層、及び透明導電層）を残存させる。その後、レジスト材料を除去することによって、透明フィルム基材上に、光学調整層、及び必要により光学機能層が全面に形成され、その上に、透明導電層からなるパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムを製造することができる。

また、水溶性樹脂層を利用して、パターン状の電極部を形成する方法として、例えば、透明フィルム基材の片面に、光学調整層、及び必要により光学機能層を全面に形成し、その上に、電極部を形成する部分以外の部分（非電極部となる部分）に水溶性樹脂層を形成し、さらに、透明導電層を全面に形成した後、水に浸漬するなどして、水溶性樹脂層と該水溶性樹脂層上の透明導電層を除去するとともに、水溶性樹脂層が形成されていない部分（電極部となる部分）の透明導電層を残存させる方法が挙げられる。この方法によっても、透明フィルム基材上に、光学調整層、及び必要により光学機能層が全面に形成され、その上に、透明導電層からなるパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムを製造することができる。

尚、パターン状の電極部を形成する上記例は何れも、透明導電層のみをエッチングにより除去することにより、透明フィルム基材上に、光学調整層、必要により光学機能層、透明導電層からなるパターン状の電極部と、透明導電層のみが残存していない（透明フィルム基材上に、光学調整層、必要により光学機能層が形成された）非電極部を形成するものであるが、光学機能層を形成した場合には、光学機能層、及び透明導電層の両方をエッチングにより除去することにより、透明フィルム基材上に、光学調整層、光学機能層、透明導電層からなるパターン状の電極部と、光学機能層、及び透明導電層の両層が残存していない（透明フィルム基材上に、光学調整層のみが形成された）非電極部を形成したものとしてももちろん構わない。

パターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムは、透明導電層が形成されている電極部と、少なくとも透明導電層が形成されていない非電極部が形成されているが、前記の通り、本発明の透明導電フィルムは、少なくとも透明導電層の一部をエッチングにより除去した場合、透明導電層が除去されずに残存している部分（電極部）と、透明導電層が除去され残存していない部分（非電極部）とで、色目や透明性の違いが目視ではほとんど区別できないため、電極部の存在が目視によりほとんど認識できない（視認できない）。従ってパターン状の電極部の存在を視認できない程度に、透明導電フィルム全体が均一な色目や透明性を有しており、視認性に非常に優れている。

ここで、視認性について詳細に説明する。
上記の通り、視認性は、電極部と非電極部とで、色目や透明性の違いが目視ではほとんど区別できないため、電極部の存在が目視によりほとんど認識できないことである。
より具体的には、色目や透明性の指標となる、全光線透過率（平行光線透過率と拡散光線透過率との合計透過率 波長は紫外線、可視光線、近赤外線の領域）、可視光反射率（特定角度における可視光線の正反射率）、ヘイズ（拡散光線透過率／全光線透過率）、色調（Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊）等の値が、電極部と非電極部との間で、ほとんど差がない（近似の値を示す）ほど、すなわち、電極部と非電極部で、これらの値が近いほど、視認性に優れていると考えられる。
ところが、発明者が鋭意研究した結果、必ずしもこれらの値が視認性の指標として適切ではない場合があることを見出した。
すなわち、例え、色目や透明性の指標となるべき上記値が電極部と非電極部とで近似していない場合でも、下記（イ）、及び（ロ）の条件を満足するものであれば、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮できることがわかった。
（イ）
波長５５０〜７００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線透過率の値から非電極部の光線透過率の値を引いた値（ΔＴ）の絶対値が、０．５以下である。
（ロ）
波長５００〜７００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線反射率の値から非電極部の光線反射率の値を引いた値（ΔＲ）が、−１．５〜０である。
尚、上記条件（イ）については、波長５５０〜７００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線透過率の値から非電極部の光線透過率の値を引いた値（ΔＴ）の絶対値が、０．２以下としておけば万全である。
言い換えると、パターン状の電極部を形成した場合の本発明の透明導電フィルムが、上記条件（イ）、及び（ロ）を満足するように、透明導電フィルムの構成（光学機能層の有無、透明導電層の厚さ（所望の導電性））、透明フィルム基材、第１光学調整層、第２光学調整層、及び光学機能層の種類、屈折率、厚さ等を適宜調整することにより、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を有するものとなる。

次に、本発明の透明導電積層体について説明する。
パターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムは、２枚重ねて透明導電積層体として使用する場合に特に好適である。このような透明導電積層体は、上層の透明導電フィルムの非導電処理面（すなわち、透明フィルム基材側の面）と、下層の透明導電フィルムの導電処理面（すなわち、透明導電層側の面）とが対向するように積層し、透明粘着剤層で貼り合わせることによって製造することができる。
透明粘着剤層に使用する透明粘着剤としては、当該分野において透明導電フィルムを貼り合わせるために使用されている通常の透明粘着剤を使用することができる。例えば、アクリル系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤等の透明粘着剤である。透明粘着剤層は、２枚の透明導電フィルムの間に介在する均一な層となるように形成されることが好ましい。均一な層とするには、２枚のプラスチックシート間に均一に塗布された透明粘着剤層が形成されている市販の光学用の高透明性粘着剤（ＯＣＡ）転写シートを使用して、透明導電フィルムに当該透明粘着剤層を転写することが好ましい。
本発明の透明導電積層体も、透明導電フィルム同様、優れた視認性を有する。

次に、本発明のタッチパネルについて説明する。
本発明のタッチパネルとしては、上記透明導電積層体を利用する静電容量方式のタッチパネルが特に好ましく、このような静電容量方式のタッチパネルは、ガラス基板上に積層した上記透明導電積層体の端部に電極を形成することによって製造することができる。また、本発明の透明導電フィルムは、静電容量方式以外のタッチパネルに使用することもでき、例えば、抵抗膜方式のタッチパネルとする場合、ガラス表面に形成した透明導電層と、本発明の透明導電フィルムの透明導電層とを対向させたものの間に、あるいは本発明の透明導電フィルム２枚を、透明導電層面同士が対向するように配置したものの間に、ドットスペーサーを介在させ、端部に電極を形成することによって製造することができる。この時使用する透明導電フィルムはパターン状の電極部を形成したものでも、形成していないものでも構わない。

本発明の透明導電フィルムは、２枚重ねて透明導電積層体とした場合だけでなく、実際の静電容量方式タッチパネルのように、ガラス基板上に透明導電積層体を配置した構成とした際にも、優れた視認性を有する。

本発明の光線調整フィルムは、透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含む光学調整層が形成されており、光学調整層が、透明フィルム基材側から、第１光学調整層、及び第２光学調整層が順次形成されたものである。
また、必要により、光学調整層上に光学機能層を形成しても構わない。
透明フィルム基材、光学調整層、及び光学機能層の詳細は、前記の通りである。
本発明の光学調整フィルムの光学調整層上、又は光学機能層上に、透明導電層を形成することにより、本発明の透明導電フィルムを得ることができる。
もちろん、当該本発明の透明導電フィルムを使用して本発明の透明導電積層体やタッチパネルを得ることもできる。
従って、本発明の透明導電フィルム、透明導電積層体、及びタッチパネルを製造するために、本発明の光線調整フィルムを使用すれば最適である。

以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明は、実施例に限定されるものではない。

＜光学調整フィルムの製造＞
［実施例１］
厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明プラスチックフィルム）の片面に、ポリエステル系樹脂からなる屈折率１．６３、厚さ８４ｎｍの第１光学調整層を全面形成し、次に、ポリエチレンテレフタレートフィルムの他の片面に、ポリエステル系樹脂からなる屈折率１．６３、厚さ８４ｎｍの易接着樹脂層を形成した後、その上に、リバースコート法により、アクリル系樹脂からなる屈折率１．５３、厚さ２μｍの透明ハードコート層を形成した。
次に、第１光学調整層の上に、アクリル系樹脂と酸化ジルコニウム微粒子からなる屈折率１．６９、厚さ１０４ｎｍの第２光学調整層（アクリル系樹脂に対する酸化ジルコニウムの含有量：１１５重量％）を形成し、その上に、原料にＳｉ、プロセスガスにアルゴンガス、反応ガスに酸素ガスを用いてスパッタリング蒸着法により、屈折率１．４６、厚さ１３ｎｍのＳｉＯ_２薄膜層（光学機能層）を形成し、ハードコート層／易接着樹脂層／ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる透明フィルム基材のポリエチレンテレフタレートフィルム面上に、第１光学調整層、第２光学調整層、及び光学機能層を順次形成した、本発明の光学調整フィルムを製造した。
尚、上記各層は透明プラスチックフィルム上に全面に形成した。
また、上記プロセスガスとは、スパッタリング（原料を叩き出す）に使用するプラズマを作る為のガスであり、反応ガスとは、スパッタリングされた原料と反応させる為のガスである。

＜透明導電フィルムの製造＞
［実施例２］
実施例１で製造した本発明の透明導電フィルムのＳｉＯ_２薄膜層（光学機能層）上に、原料にＩＴＯを用いてスパッタリング蒸着法にて、厚さ１９ｎｍのＩＴＯ薄膜層（透明導電層）を全面に形成し、ハードコート層／易接着樹脂層／ポリエチレンテレフタレートフィルム／第１光学調整層／第２光学調整層／ＳｉＯ_２薄膜層／ＩＴＯ薄膜層（透明導電層）からなる本発明の透明導電フィルムを製造した。
尚、三菱化学社製のLoresta-GP MCP-T600を用いて測定した表面抵抗率は、２５８Ω／□であった。

［比較例１］
特許文献１に開示された透明導電フィルムと同様の構成を有する透明導電フィルムを製造した。
具体的には、
厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明プラスチックフィルム）の片面に、ポリエステル系樹脂からなる屈折率１．６３、厚さ８４ｎｍの易接着樹脂層を形成し、その上に、リバースコート法により、アクリル系樹脂からなる屈折率１．５３、厚さ２μｍの透明ハードコート層を形成した。
次に、ポリエチレンテレフタレートフィルムの他の片面に、アクリル系樹脂からなる屈折率１．５８、厚さ８ｎｍの樹脂層（有機誘電体層）を形成し、その上に、原料にＳｉ、プロセスガスにアルゴンガス、反応ガスに酸素ガスを用いてスパッタリング蒸着法により、屈折率１．４６、厚さ４０ｎｍのＳｉＯ_２薄膜層（無機誘電体層）を形成し、さらに原料にＩＴＯを用いてスパッタリング蒸着法にて、厚さ２３ｎｍのＩＴＯ薄膜層（透明導電層）を形成し、ハードコート層／易接着樹脂層／ポリエチレンテレフタレートフィルム／樹脂層／ＳｉＯ_２薄膜層／ＩＴＯ薄膜層（透明導電層）からなる透明導電フィルムを製造した。
尚、上記各層は透明プラスチックフィルム上に全面に形成した。
また、実施例２と同様に測定した表面抵抗率は、２７０Ω／□であった。

＜パターン状の電極部の形成＞
実施例２及び比較例１で製造した透明導電フィルムについて、Ｘ又はＹ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を、エッチング法により形成した。

［実施例３］
まず、実施例１で製造した本発明の透明導電フィルム（ハードコート層／易接着樹脂層／ポリエチレンテレフタレートフィルム／第１光学調整層／第２光学調整層／ＳｉＯ_２薄膜層／ＩＴＯ薄膜層）上に、レジスト材料（関西ペイント社製アレスSPR）をパターン状の電極部の形状に塗布し、エッチング液として２％塩酸水溶液を使用して、４０℃で７０秒間ウエットエッチング処理し、レジスト材料が塗布されていない部分についてはＩＴＯ薄膜層を除去するとともに、レジスト材料が塗布されている部分については、ＩＴＯ薄膜層を残存させた。その後、２％水酸化ナトリウム水溶液でレジスト材料を除去することにより、透明フィルム基材上に、第１光学調整層／第２光学調整層／ＳｉＯ_２薄膜層が全面に形成され、その上に、Ｘ方向に電気的に接続されたＩＴＯ薄膜層からなるパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムを製造した。
尚、パターン状の電極部以外の部分は、ＩＴＯ薄膜層が残存しない、透明フィルム基材／第１光学調整層／第２光学調整層／ＳｉＯ_２薄膜層からなる非電極部である。
さらに、上記と同様にして、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムも製造した。

［比較例２］
実施例１で製造した本発明の透明導電フィルムに代えて、比較例１で製造した透明導電フィルム（ハードコート層／易接着樹脂層／ポリエチレンテレフタレートフィルム／樹脂層／ＳｉＯ_２薄膜層／ＩＴＯ薄膜層）を使用したこと以外は、実施例３と同様にして、透明フィルム基材上に、樹脂層／ＳｉＯ_２薄膜層が全面に形成され、その上に、Ｘ方向に電気的に接続されたＩＴＯ薄膜層からなるパターン状の電極部が形成された比較例２の透明導電フィルムを製造した。
尚、パターン状の電極部以外の部分は、ＩＴＯ薄膜層が残存しない透明フィルム基材／樹脂層／ＳｉＯ_２薄膜層／からなる非電極部である。
さらに、上記と同様にして、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を形成した比較例２の透明導電フィルムも製造した。

実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムと、比較例２で製造した透明導電フィルムを目視にて比較したところ、比較例２で製造した透明導電フィルムは、電極部の存在がはっきり視認でき、さらに電極部同士が重なる部分の存在はよりはっきりと視認でき、視認性に劣っていた。
一方、実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムは、電極部の存在はほとんど視認することができず、さらに電極部同士が重なる部分の存在についてもほとんど視認することができず視認性に非常に優れていた。

尚、図４、及び図５に下記のスペクトルを示す。
＜図４＞
実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムと、比較例２で製造した透明導電フィルムそれぞれについて、波長４００〜８００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線透過率の値から非電極部の光線透過率の値を引いた値（ΔＴ）をプロットしたスペクトルを示す図。
＜図５＞
実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムと、比較例２で製造した透明導電フィルムそれぞれについて、波長４００〜８００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線反射率の値から非電極部の光線反射率の値を引いた値（ΔＲ）をプロットしたスペクトルを示す図。
図４から明らかな通り、実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムは、波長５５０〜７００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線透過率の値から非電極部の光線透過率の値を引いた値（ΔＴ）の絶対値が、０．２以下であり、前記条件（イ）を満足していることがわかるが、比較例２で製造した透明導電フィルムは、ΔＴの絶対値はほとんどの波長で０．５を超えており、条件（イ）を満足するものではないことがわかる。
また、図５から明らかな通り、実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムは、波長５００〜７００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線反射率の値から非電極部の光線反射率の値を引いた値（ΔＲ）が、−１．５〜０であり、前記条件（ロ）を満足していることがわかるが、比較例２で製造した透明導電フィルムは、ΔＲの値が、各波長において、＋側に振れ、０以下とはならず、条件（ロ）を満足するものではないことがわかる。

＜透明導電積層体の製造＞
［実施例４］
実施例３で製造した、Ｘ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムと、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムとを、前記高透明性粘着剤転写テープを使用して転写、形成した透明粘着剤層で貼り合わせることにより、本発明の透明導電積層体を製造した（図２参照）。各透明導電フィルムに形成された電極部同士ができるだけ重ならないように積層したが、透明導電積層体の構造上、電極部がわずかに重なる部分が生じた（図２Ｃ参照）。なお、この透明導電積層体は、光学機能層が形成されていない図２Ｂに示す透明導電積層体と同様に、上層の透明導電フィルムの非導電処理面（透明フィルム基材側の面）と下層の透明導電フィルムの導電処理面（ＩＴＯ薄膜層側の面）が面するように貼り合わせられている。

［比較例３］
実施例３で製造したパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムに代えて、比較例２で製造したパターン状の電極部が形成された透明導電フィルムを使用したこと以外は、実施例４と同様にして、比較例３の透明導電積層体を製造した。

実施例４で製造した本発明の透明導電積層体と、比較例３で製造した透明導電積層体を目視にて比較したところ、比較例３で製造した透明導電積層体は、電極部の存在がはっきり視認でき、さらに電極部同士が重なる部分の存在はよりはっきりと視認でき、視認性に劣っていた。
一方、実施例４で製造した本発明の透明導電積層体は、電極部の存在はほとんど視認することができず、さらに電極部同士が重なる部分の存在についてもほとんど視認することができず視認性に非常に優れていた。

＜静電容量方式のタッチパネルの製造＞
［実施例５］
厚さ２ｍｍの無色透明の板状ガラスと、実施例４で製造した本発明の透明導電積層体の透明導電層面（導電処理面）とを、前記高透明性粘着剤転写テープを使用して転写、形成した透明粘着剤層で貼り合わせるとともに、透明導電積層体の端部に電極を形成して、本発明の静電容量方式のタッチパネルを製造した。

［比較例４］
実施例４で製造した本発明の透明導電積層体に代えて、比較例３で製造した透明導電積層体を使用したこと以外は、実施例４と同様にして、比較例４の静電容量方式のタッチパネルを製造した。

実施例５で製造した本発明の静電容量方式のタッチパネルと、比較例４で製造した静電容量方式のタッチパネルを目視にて比較したところ、比較例４で製造した静電容量方式のタッチパネルは、電極部の存在がはっきり視認でき、さらに電極部同士が重なる部分の存在はよりはっきりと視認でき、視認性に劣っていた。
一方、実施例５で製造した本発明の静電容量方式のタッチパネルは、電極部の存在はほとんど視認することができず、さらに電極部同士が重なる部分の存在についてもほとんど視認することができず視認性に非常に優れていた。

１ 透明フィルム基材
２ 第１光学調整層
３ 第２光学調整層
４ 透明導電層
４Ｐ 透明導電層からなるパターン状の電極部
４Ｐｘ 透明導電層からなる、Ｘ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部
４Ｐｙ 透明導電層からなる、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部
５ 透明導電フィルム
６ 透明粘着剤層
７ ガラス
８ 電極

Claims (9)

1. 透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含む光学調整層が形成されている光学調整フィルムであって、光学調整層が、透明フィルム基材側から、第１光学調整層、及び第２光学調整層が順次形成されたものであり、かつ下記条件（Ａ）〜（Ｃ）を満足することを特徴とする光学調整フィルム。
   （Ａ）第１光学調整層の屈折率ｎ１が、１．５〜１．７８である
   （Ｂ）第２光学調整層の屈折率ｎ２が、１．６〜１．８である
   （Ｃ）ｎ１＜ｎ２の関係を有する
2. 第１光学調整層の厚さが３０〜１５０ｎｍであり、第２光学調整層の厚さが３０〜２００ｎｍである請求項１記載の光学調整フィルム。
3. 光学調整層上に、光学機能層が形成されている請求項１、又は２記載の光学調整フィルム。
4. 請求項１、又は２記載の光学調整フィルムの光学調整層上に、透明導電層が形成されていることを特徴とする透明導電フィルム。
5. 請求項３記載の光学調整フィルムの光学機能層上に、透明導電層が形成されていることを特徴とする透明導電フィルム。
6. パターン状の電極部が形成されている請求項４、又は５記載の透明導電フィルム。
7. 請求項６記載の透明導電フィルム同士を２枚、一方の透明導電フイルムの透明フィルム基材面側と、他方の透明導電フィルムの透明導電層面側とを、透明粘着剤層で貼り合わせたことを特徴とする透明導電積層体。
8. 請求項４〜６何れかに記載の透明導電フィルムを備えたタッチパネル。
9. 請求項７記載の透明導電積層体を備えた静電容量方式のタッチパネル。