JP2012530027A - 異種基板、それを利用した窒化物系半導体素子及びその製造方法 - Google Patents
異種基板、それを利用した窒化物系半導体素子及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012530027A JP2012530027A JP2012514892A JP2012514892A JP2012530027A JP 2012530027 A JP2012530027 A JP 2012530027A JP 2012514892 A JP2012514892 A JP 2012514892A JP 2012514892 A JP2012514892 A JP 2012514892A JP 2012530027 A JP2012530027 A JP 2012530027A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- nitride
- buffer layer
- growth
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 title claims abstract description 209
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 157
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 82
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 75
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 75
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 12
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 28
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 21
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 19
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 13
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 description 5
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- -1 nitride compound Chemical class 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002248 hydride vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005699 Stark effect Effects 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 208000012868 Overgrowth Diseases 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005428 wave function Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02538—Group 13/15 materials
- H01L21/0254—Nitrides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02367—Substrates
- H01L21/0237—Materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02436—Intermediate layers between substrates and deposited layers
- H01L21/02439—Materials
- H01L21/02455—Group 13/15 materials
- H01L21/02458—Nitrides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02436—Intermediate layers between substrates and deposited layers
- H01L21/02439—Materials
- H01L21/02488—Insulating materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02436—Intermediate layers between substrates and deposited layers
- H01L21/02494—Structure
- H01L21/02496—Layer structure
- H01L21/02502—Layer structure consisting of two layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02636—Selective deposition, e.g. simultaneous growth of mono- and non-monocrystalline semiconductor materials
- H01L21/02639—Preparation of substrate for selective deposition
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/005—Processes
- H01L33/0062—Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds
- H01L33/0066—Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds with a substrate not being a III-V compound
- H01L33/007—Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds with a substrate not being a III-V compound comprising nitride compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/20—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
- H01L33/22—Roughened surfaces, e.g. at the interface between epitaxial layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Recrystallisation Techniques (AREA)
Abstract
Description
Claims (29)
- 無極性または半極性面のうち1つを有するベース基板と;
前記ベース基板の面に形成された窒化物系結晶成長核層と;
前記結晶成長核層の上に成長され、水平方向に比べて垂直方向にさらに速く成長された第1バッファー層と;
前記第1バッファー層上に成長され、垂直方向に比べて水平方向にさらに速く成長された水平成長層と;
前記水平成長層上に成長された第2バッファー層と;
を含むことを特徴とする窒化物が積層された異種基板。 - 前記第1バッファー層、前記水平成長層または前記第2バッファー層の界面または内部に形成され、均一に複数の孔が形成された少なくとも1つの窒化シリコン(SiNx)層;をさらに含み、
前記窒化シリコン層の孔を通じて前記窒化シリコン層の下方の結晶が成長し、前記窒化シリコン層上を覆うことを特徴とする請求項1に記載の窒化物が積層された異種基板。 - 前記窒化シリコン層は、前記第1バッファー層上に前記水平成長層と前記第2バッファー層との間に形成されたことを特徴とする請求項2に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 前記ベース基板は、サファイア基板であることを特徴とする請求項3に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 前記無極性または半極性面は、a面、r面またはm面のうち1つであることを特徴とする請求項4に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 前記窒化物系結晶成長核層は、無極性または半極性を有する窒化物系単結晶であることを特徴とする請求項5に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 前記窒化物系結晶成長核層は、GaN、AlxGa1−xN、InxGa1−yN(0<x、y<1)のうち1つであることを特徴とする請求項6に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 前記窒化物系結晶成長核層は、450〜1300℃、30〜760torrの窒素や水素雰囲気、V/IIIの比が50〜3000で成長させたことを特徴とする請求項7に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 前記第1バッファー層は、V/IIIの比が50〜2000、450〜1300℃及び100〜760torrで成長させたことを特徴とする請求項8に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 前記水平成長層は、V/IIIの比が2〜1000、800〜1500℃及び10〜300torrで成長させたことを特徴とする請求項9に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 第2バッファー層は、V/IIIの比が50〜2000、450〜1300℃及び30〜760torrで成長させたことを特徴とする請求項10に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 前記窒化物系結晶成長核層は、5〜700nmの厚さを有することを特徴とする請求項11に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 前記ベース基板と異なる屈折率を有し、前記ベース基板の上面に形成される誘電体膜パターンをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 前記誘電体膜パターンは、SiO2及びSiNのうちいずれか1つであることを特徴とする請求項13に記載の窒化物が積層された異種基板。
- 請求項1〜14のいずれかに記載の窒化物が積層された異種基板と;
前記第2バッファー層上に形成されたnタイプまたはpタイプのうち1つの第1窒化物層と;
前記第1窒化物層上に形成された活性層と;
前記活性層上に形成され、前記第1窒化物層と反対タイプの第2窒化物層と;を含むことを特徴とする窒化物系半導体素子。 - 前記第1及び第2窒化物層それぞれに接合する第1及び第2電極をさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の窒化物系半導体素子。
- 前記第1及び第2電極は、c軸の垂直方向に互いに対向して形成されることを特徴とする請求項16に記載の窒化物系半導体素子。
- 前記第1及び第2電極は、前記第1及び第2電極のうちいずれか nタイプ電極がpタイプ電極を取り囲むように形成されることを特徴とする請求項16に記載の窒化物系半導体素子。
- 無極性または半極性面のうち1つを有するベース基板を準備する準備段階と;
前記ベース基板の面に窒化物系結晶成長核層を形成する結晶成長核層形成段階と;
前記結晶成長核層の上に第1バッファー層を成長させ、且つ、水平方向に比べて垂直方向にさらに速く成長させる第1バッファー層成長段階と;
前記第1バッファー層上に水平成長層を成長させ、且つ、垂直方向に比べて水平方向にさらに速く成長させる水平成長層成長段階と;
前記水平成長層上に第2バッファー層を成長させる第2バッファー層成長段階と;
を含むことを特徴とする窒化物が積層された異種基板の製造方法。 - 前記ベース基板は、サファイア基板であり、前記無極性または半極性面は、a面、r面またはm面のうち1つであることを特徴とする請求項19に記載の窒化物が積層された異種基板の製造方法。
- 前記水平成長層成長段階は、
前記第1バッファー層上に第1水平成長層を成長させる段階と;
前記第1水平成長層上に複数の孔を有する窒化シリコン層を形成する段階と;
前記窒化シリコン層の孔に露出した前記第1水平成長層を成長させて、前記窒化シリコン層を覆う第2水平成長層を成長させる段階と;
を含むことを特徴とする請求項19に記載の窒化物が積層された異種基板の製造方法。 - 前記第2バッファー層成長段階は、
前記水平成長層上に第2−1バッファー層を成長させる段階と;
前記第2−1バッファー層上に複数の孔を有する窒化シリコン層を形成する段階と;
前記窒化シリコン層の孔に露出した前記第2−1バッファー層を成長させて、前記窒化シリコン層を覆う第2−2バッファー層を成長させる段階と;
を含むことを特徴とする請求項19に記載の窒化物が積層された異種基板の製造方法。 - 前記水平成長層形成段階の後に行われる段階であって、前記水平成長層上に複数の孔を有する窒化シリコン層を形成する窒化シリコン層形成段階;をさらに含み、
前記第2バッファー層成長段階で、前記窒化シリコン層の孔に露出した前記水平成長層を成長させて、前記窒化シリコン層を覆う前記第2バッファー層を成長させることを特徴とする請求項19に記載の窒化物が積層された異種基板の製造方法。 - 前記準備段階の後に且つ前記結晶成長核層形成段階の前に、前記ベース基板と異なる屈折率を有する誘電体膜パターンを前記ベース基板の上面に形成する誘電体膜パターン形成段階;をさらに含むことを特徴とする請求項19に記載の窒化物が積層された異種基板の製造方法。
- 前記誘電体膜パターンは、SiO2及びSiNのうちいずれか1つであることを特徴とする請求項24に記載の窒化物が積層された異種基板の製造方法。
- 請求項19〜24のいずれか1項によって窒化物が積層された異種基板を製造する段階と;
前記第2バッファー層上にnタイプまたはpタイプのうちいずれか1つのタイプを有する第1窒化物層を形成する第1窒化物層形成段階と;
前記第1窒化物層上に活性層を形成する活性層形成段階と;
前記活性層上に前記第1窒化物層と反対タイプの第2窒化物層を形成する第2窒化物層形成段階と;を含むことを特徴とする窒化物系半導体素子の製造方法。 - 前記第1及び第2窒化物層上に前記第1及び第2窒化物層それぞれに接合するように第1及び第2電極を形成する電極形成段階;をさらに含むことを特徴とする請求項26に記載の窒化物系半導体素子の製造方法。
- 前記電極形成段階は、前記第1及び第2電極をc軸の垂直方向に互いに対向するように形成することを特徴とする請求項27に記載の窒化物系半導体素子の製造方法。
- 前記電極形成段階は、前記第1及び第2電極のうちnタイプ電極がpタイプ電極を取り囲むように形成することを特徴とする請求項27に記載の窒化物系半導体素子の製造方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2009-0053115 | 2009-06-15 | ||
KR1020090053115A KR101028585B1 (ko) | 2009-06-15 | 2009-06-15 | 이종 기판, 그를 이용한 질화물계 반도체 소자 및 그의 제조 방법 |
KR1020100029342A KR101104239B1 (ko) | 2010-03-31 | 2010-03-31 | 이종 기판, 그를 이용한 질화물계 반도체 소자 및 그의 제조 방법 |
KR10-2010-0029342 | 2010-03-31 | ||
PCT/KR2010/003828 WO2010147357A2 (ko) | 2009-06-15 | 2010-06-15 | 이종 기판, 그를 이용한 질화물계 반도체 소자 및 그의 제조 방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012530027A true JP2012530027A (ja) | 2012-11-29 |
Family
ID=43356887
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012514892A Pending JP2012530027A (ja) | 2009-06-15 | 2010-06-15 | 異種基板、それを利用した窒化物系半導体素子及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8878211B2 (ja) |
JP (1) | JP2012530027A (ja) |
WO (1) | WO2010147357A2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101890751B1 (ko) | 2012-09-05 | 2018-08-22 | 삼성전자주식회사 | 질화물 반도체 디바이스 및 그 제조 방법 |
KR101504731B1 (ko) * | 2012-11-30 | 2015-03-23 | 주식회사 소프트에피 | 3족 질화물 반도체 적층체 |
KR102061696B1 (ko) | 2013-11-05 | 2020-01-03 | 삼성전자주식회사 | 반극성 질화물 반도체 구조체 및 이의 제조 방법 |
KR101803929B1 (ko) * | 2016-03-10 | 2018-01-11 | 주식회사 소프트에피 | 근자외선 발광 반도체 발광소자 및 이에 사용되는 3족 질화물 반도체 템플릿 |
KR20180069403A (ko) * | 2016-12-15 | 2018-06-25 | 삼성전자주식회사 | 질화 갈륨 기판의 제조 방법 |
JP2019151922A (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-12 | 株式会社Flosfia | 積層体および半導体装置 |
KR102620159B1 (ko) | 2018-10-08 | 2024-01-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 발광 소자 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997011518A1 (en) * | 1995-09-18 | 1997-03-27 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor material, method of producing the semiconductor material, and semiconductor device |
JPH10321878A (ja) * | 1997-03-18 | 1998-12-04 | Toshiba Corp | 高耐圧半導体装置 |
JPH11191657A (ja) * | 1997-04-11 | 1999-07-13 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体の成長方法及び窒化物半導体素子 |
JP2005072310A (ja) * | 2003-08-26 | 2005-03-17 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物系化合物半導体の製造方法 |
JP2007095845A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Oki Data Corp | 半導体複合基板とそれを用いた半導体装置の製造方法 |
JP2008053594A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Sharp Corp | 窒化物半導体層の形成方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008034862A (ja) * | 1997-04-11 | 2008-02-14 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体の成長方法 |
JP4032538B2 (ja) * | 1998-11-26 | 2008-01-16 | ソニー株式会社 | 半導体薄膜および半導体素子の製造方法 |
JP4432180B2 (ja) * | 1999-12-24 | 2010-03-17 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物系化合物半導体の製造方法、iii族窒化物系化合物半導体素子及びiii族窒化物系化合物半導体 |
US6403451B1 (en) * | 2000-02-09 | 2002-06-11 | Noerh Carolina State University | Methods of fabricating gallium nitride semiconductor layers on substrates including non-gallium nitride posts |
JP2001267242A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-28 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物系化合物半導体及びその製造方法 |
US7141444B2 (en) * | 2000-03-14 | 2006-11-28 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Production method of III nitride compound semiconductor and III nitride compound semiconductor element |
JP3690326B2 (ja) * | 2001-10-12 | 2005-08-31 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物系化合物半導体の製造方法 |
US8809867B2 (en) * | 2002-04-15 | 2014-08-19 | The Regents Of The University Of California | Dislocation reduction in non-polar III-nitride thin films |
US7956360B2 (en) * | 2004-06-03 | 2011-06-07 | The Regents Of The University Of California | Growth of planar reduced dislocation density M-plane gallium nitride by hydride vapor phase epitaxy |
TW200703463A (en) * | 2005-05-31 | 2007-01-16 | Univ California | Defect reduction of non-polar and semi-polar III-nitrides with sidewall lateral epitaxial overgrowth (SLEO) |
PL1801855T3 (pl) * | 2005-12-22 | 2009-06-30 | Freiberger Compound Mat Gmbh | Proces selektywnego maskowania warstw III-N i przygotowywania wolnostojących warstw III-N lub urządzeń |
KR100781659B1 (ko) * | 2006-03-15 | 2007-12-05 | 서울옵토디바이스주식회사 | 개선된 버퍼층을 사용하여 발광 다이오드를 제조하는 방법및 그것에 의해 제조된 발광 다이오드 |
US8143646B2 (en) * | 2006-08-02 | 2012-03-27 | Intel Corporation | Stacking fault and twin blocking barrier for integrating III-V on Si |
KR100972977B1 (ko) * | 2007-12-14 | 2010-07-29 | 삼성엘이디 주식회사 | 반극성 질화물 단결정 박막의 성장 방법 및 이를 이용한질화물 반도체 발광소자의 제조 방법 |
US8415682B2 (en) * | 2007-12-28 | 2013-04-09 | Rohm Co., Ltd. | Light emitting semiconductor device having an improved outward luminosity efficiency and fabrication method for the light emitting semiconductor device |
KR101101133B1 (ko) * | 2008-06-03 | 2012-01-05 | 삼성엘이디 주식회사 | 질화물 단결정 성장 방법 및 질화물 반도체 발광소자제조방법 |
-
2010
- 2010-06-15 WO PCT/KR2010/003828 patent/WO2010147357A2/ko active Application Filing
- 2010-06-15 JP JP2012514892A patent/JP2012530027A/ja active Pending
-
2011
- 2011-12-15 US US13/327,647 patent/US8878211B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997011518A1 (en) * | 1995-09-18 | 1997-03-27 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor material, method of producing the semiconductor material, and semiconductor device |
JPH10321878A (ja) * | 1997-03-18 | 1998-12-04 | Toshiba Corp | 高耐圧半導体装置 |
JPH11191657A (ja) * | 1997-04-11 | 1999-07-13 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体の成長方法及び窒化物半導体素子 |
JP2005072310A (ja) * | 2003-08-26 | 2005-03-17 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物系化合物半導体の製造方法 |
JP2007095845A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Oki Data Corp | 半導体複合基板とそれを用いた半導体装置の製造方法 |
JP2008053594A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Sharp Corp | 窒化物半導体層の形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120086017A1 (en) | 2012-04-12 |
WO2010147357A2 (ko) | 2010-12-23 |
US8878211B2 (en) | 2014-11-04 |
WO2010147357A3 (ko) | 2011-03-03 |
WO2010147357A4 (ko) | 2011-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100448662B1 (ko) | 질화물반도체소자 및 그 제조방법 | |
US20240063340A1 (en) | METHOD FOR RELAXING SEMICONDUCTOR FILMS INCLUDING THE FABRICATION OF PSEUDO-SUBSTRATES AND FORMATION OF COMPOSITES ALLOWING THE ADDITION OF PREVIOUSLY UN-ACCESSIBLE FUNCTIONALITY OF GROUP lll-NITRIDES | |
KR101173072B1 (ko) | 경사진 기판 상의 고품질 비극성/반극성 반도체 소자 및 그 제조 방법 | |
US7790584B2 (en) | Method of growing semi-polar nitride single crystal thin film and method of manufacturing nitride semiconductor light emitting diode using the same | |
US20020074561A1 (en) | Semiconductor device and fabrication method thereof, and fabrication method of semiconductor substrate | |
US8878211B2 (en) | Heterogeneous substrate, nitride-based semiconductor device using same, and manufacturing method thereof | |
KR20120067752A (ko) | 나노구조의 발광소자 | |
KR101246832B1 (ko) | 무극성 또는 반극성 iii족 질화물 기반 발광 다이오드 및 이의 제조방법 | |
US20150091047A1 (en) | Method of growing nitride semiconductor, method of manufacturing template for semiconductor fabrication and method of manufacturing semiconductor light emitting device using the same | |
JP4883931B2 (ja) | 半導体積層基板の製造方法 | |
JP2008118049A (ja) | GaN系半導体発光素子 | |
JP5999916B2 (ja) | 半導体素子及びその製造方法 | |
KR20130040518A (ko) | 반도체 발광소자 및 이의 제조방법 | |
KR101028585B1 (ko) | 이종 기판, 그를 이용한 질화물계 반도체 소자 및 그의 제조 방법 | |
JP4743989B2 (ja) | 半導体素子およびその製造方法ならびに半導体基板の製造方法 | |
KR101104239B1 (ko) | 이종 기판, 그를 이용한 질화물계 반도체 소자 및 그의 제조 방법 | |
KR100935974B1 (ko) | 질화물 반도체 발광소자의 제조 방법 | |
WO2008056632A1 (fr) | Élément électroluminescent semi-conducteur gan | |
JP2008118048A (ja) | GaN系半導体発光素子 | |
US10763395B2 (en) | Light emitting diode element and method for manufacturing same | |
KR101250475B1 (ko) | 절연체 패턴을 갖는 이종 기판 및 그를 이용한 질화물계 반도체 소자 | |
JP2000332293A (ja) | Iii−v族窒化物半導体発光素子及びその製造方法 | |
KR101379341B1 (ko) | 마스크 패턴을 삽입한 고품질 반도체 소자용 기판의 제조 방법 | |
US20230238246A1 (en) | Large area synthesis of cubic phase gallium nitride on silicon | |
KR20110130165A (ko) | 질화갈륨막을 포함하는 반도체 기판 및 그 제조방법과 발광소자 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20130307 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130412 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140501 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150105 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150403 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150817 |