JP2012522898A5

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Publication number: JP2012522898A5
Application number: JP2012503962A
Authority: JP
Filing date: 2010-03-29
Publication date: 2013-05-09
Anticipated expiration: 2030-03-29

Claims

金属イオンの供給源、及び
ａ）活性アミノ官能基を含むアミン化合物と、
ｂ）エチレンオキシド、及びＣ３及びＣ４アルキレンオキシドから選ばれる、少なくとも１種の化合物の混合物、
を反応させることによって得ることができる、少なくとも１種の抑制剤を含み、
該抑制剤は、分子量Ｍ_ｗが６０００ｇ／モル以上であり、及び
エチレンオキシド及び更なるＣ３〜Ｃ４アルキレンオキシドのコポリマー中のエチレンオキシドの含有量が、３０〜７０％であることを特徴とする組成物。
前記抑制剤は、分子量Ｍ_ｗが、７０００〜１９０００ｇ／モルであることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
抑制剤の分子量Ｍ_ｗが、９０００〜１８０００ｇ／モルであることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
金属イオンが、銅イオンを含むことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の組成物。
活性アミノ官能基を含むアミン化合物が、少なくとも３個の活性アミノ基を含むことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の組成物。
抑制剤が、式Ｉ

（但し、
−Ｒ^１基が、それぞれ独立して、エチレンオキシド、及び少なくとも１種の、更なるＣ３〜Ｃ４アルキレンオキシドのコポリマーから選ばれ、該コポリマーは、ランダムポリマーであり、
−Ｒ^２基が、それぞれ独立してＲ^１、又はアルキレン、好ましくはＣ１から選ばれ、
−Ｘ及びＹが、独立してスペーサー基であり、及びＸが、各繰り返し単位について、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン、及びＺ−（Ｏ−Ｚ）_ｍから選ばれ、ここで、Ｚ基は、それぞれ独立して、Ｃ２〜Ｃ６アルキレンから選ばれ、
−ｎが、０以上の整数であり、
−ｍが、１以上の整数である）
の化合物から選ばれることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の組成物。
Ｘ及びＹが独立しており、及びＸが、各繰り返し単位について、Ｃ１〜Ｃ４アルキレンから選ばれることを特徴とする請求項６に記載の組成物。
アミン化合物が、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、（３−（２−アミノエチル）アミノプロピルアミン、３，３’−イミノジ（プロピルアミン）、Ｎ，Ｎ−ビス（３−アミノプロピル）メチルアミン、ビス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン、トリエチレンテトラアミン、及びＮ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミンから選ばれることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の組成物。
Ｃ３〜Ｃ４アルキレンオキシドが、プロピレンオキシドから選ばれることを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載の組成物。
更に、少なくとも１種の促進剤を含むことを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載の組成物。
少なくとも１種の平滑剤を含むことを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項に記載の組成物。
請求項１に記載の組成物を含む金属メッキ溶液を、アパーチャー径が３０ナノメーター以下の機構を含む基材上に金属を堆積させるために使用する方法。
ａ）請求項１〜１２の何れか１項に記載の組成物を含む金属メッキ溶液を、基材と接触させる工程、及び
ｂ）金属層が前記基材上に堆積するのに十分な時間、前記基材に電流密度を施す工程、
によって基材上に金属層を堆積させる方法。
基材が、マイクロメーター以下の寸法の機構を有し、及び堆積が、マイクロメーター以下の寸法の機構を満たすように行われることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
マイクロメーター以下の寸法の機構が、１〜３０ｎｍのアパーチャー径、及び／又は４以上のアスペクト比を有することを特徴とする請求項１４に記載の方法。