JP2012519576A - 排気システム、この排気システムを用いた滅菌装置およびこの滅菌装置を用いた滅菌方法 - Google Patents

Abstract

高濃度ＮＯ₂ガスを用いて滅菌対象物を滅菌した使用済みの排ガスを排出する排気システムであって、オゾン発生装置と、該オゾン発生装置で生成したオゾンおよび排ガス中のＮＯ₂を吸着するとともに双方の化学反応による無水硝酸の生成、或いは硝酸の生成を促進してこれらを保持するガス処理手段と、排ガスを排出する排気装置とを備えたことを特徴とする排気システムを提供する。この排気システムは、通常のレベルを超える濃度の高濃度ＮＯ₂を、効果的かつ確実に浄化できる。

Description

本発明は医療用鋏、カテーテル等の医療機器、その他高い滅菌信頼性が要求される滅菌対象物に用いる滅菌装置、この滅菌装置に組み込まれる排気システム、および前記滅菌装置を用いて実施する滅菌方法に関する。

予てより、窒素酸化物（以下、単にＮＯｘということもある）、オゾン、Ｈ₂Ｏ₂等の滅菌ガスの雰囲気中に、医療器具等の滅菌対象物を一定時間収容することにより、滅菌対象物に付着したバクテリア、ウィルス等を死滅させるガス滅菌手段が多用されている。しかしこれら滅菌処理の多くは、人口が密集する都市部の病院、研究室等において実施されるため、使用後の滅菌ガスを無害化処理した上で大気中に放出する必要がある。

例えば、炭素系ジアゼニウムジオレート化合物等の殺菌剤ガス発生組成物が発生する一酸化窒素（以下、単にＮＯということもある）またはＮＯと二酸化窒素（以下、単にＮＯ₂ということもある）との混合物からなる滅菌ガスを用いた滅菌装置においては、ＮＯをＮＯ₂に変換する酸化剤、およびＮＯ₂を捕集する吸収剤を用いて滅菌ガスを除去する処理方法が採られている。そして当該方法を用いると、ＮＯ、ＮＯ₂およびＮＯｘの濃度をＬＴＷＡレベルに低減できるとしている（特許文献１）。

或いは、エチレンオキサイドガスを用いた滅菌装置において、活性炭、水、希硝酸などの吸着剤または熱触媒を充填したガス処理槽に排ガスを複数回還流させることによりエチレンオキサイドガスを吸着して浄化する方法が採られている（特許文献２）。

他方、ディーゼルエンジンの燃焼排気ガス中のＮＯｘ除去方法として、エンジンの排気通路にＳＣＲ触媒を設けると共に、このＳＣＲ触媒の上流側にアンモニア等の還元剤を排気通路内に供給する還元剤供給装置を設け、ＳＣＲ触媒の触媒作用により前記還元剤供給装置から供給されるアンモニアで排ガス中のＮＯｘを還元して排ガスを浄化する所謂ＳＣＲ法が採用されている（特許文献３）。

特表２００７−５２１１１８号公報 特開２０００−３１２７０９号公報 特開２０００−３０３８２６号公報

一方本発明者等は、別に特許出願している高濃度ＮＯ₂生成方法を発明し、これにより得られる高濃度ＮＯ₂ガスを使用して、信頼性が非常に高い滅菌装置を開発している。しかし当該滅菌装置から排出する排ガスは、高濃度のＮＯ₂ガスを含むものであり、叙上のＮＯｘを処理する従来の方法、装置では、何れも所定時間内で安全レベル迄無毒化することが不可能であった。その為前記高濃度ＮＯ₂ガス使用の滅菌装置は、医療現場等で実用化することが出来ないという課題を抱えていた。

本発明は、斯かる実情に鑑み、オゾン発生装置と、オゾンおよびＮＯ₂による無水硝酸（Ｎ₂Ｏ₅）、或いは硝酸（ＨＮＯ₃）化反応を利用した排ガス処理手段と、排ガスを排出する排気装置とを備えることを基本とし、従来の常識を超えたレベルの高濃度ＮＯ₂排ガスを、効率的にかつ確実に浄化しうる排気システムを提供しようとするものである。

本発明の排気システムは、高濃度ＮＯ₂ガスを用いて滅菌対象物を滅菌した使用済みの排ガスを排出する排気システムであって、オゾン発生装置と、該オゾン発生装置で生成したオゾンおよび排ガス中のＮＯ₂を吸着するとともに双方の化学反応による無水硝酸の生成、或いは硝酸の生成を促進してこれらを保持するガス処理手段と、排ガスを排出する排気装置とを備えたことを特徴とするものである。

すなわち、本発明は、高濃度ＮＯ₂ガスを用いて滅菌対象物を滅菌した使用済みの排ガスを排出する排気システムであって、オゾン発生装置と、該オゾン発生装置で生成したオゾンおよび排ガス中のＮＯ₂を吸着するとともに双方の化学反応による無水硝酸の生成、或いは硝酸の生成を促進してこれらを保持するガス処理手段と、排ガスを排出する排気装置とを備えたことを特徴とする排気システムである。

前記オゾン発生装置は、オゾナイザーと、該オゾナイザーが生成するオゾンを蓄えるオゾンチャンバーとを備えることが好ましい。

前記ガス処理手段の上流側に、排ガス中のＮＯ₂とオゾンとの混合比率を調整するバッファ部をさらに設けることが好ましい。

前記ガス処理手段は、吸着触媒を用いることが好ましい。

前記排気装置は、滅菌に使用した排ガスを、複数回に分割して排出することが好ましい。

また、本発明は、下記構成を備えた滅菌装置である。すなわち、（ａ）高濃度ＮＯ₂ガスを蓄えるチャンバーと、プラズマ発生器と、循環手段とを接続して循環経路を構成したＮＯ₂ガス供給系、（ｂ）前記チャンバーに第１の開閉具を介して接続した滅菌室、（ｃ）前記滅菌室に第２の開閉具を介して接続した前記排気システムを備えた滅菌装置である。

前記チャンバーは、第３の開閉具を介して排気システムに接続されることが好ましい。

前記滅菌室は、滅菌室内の高濃度ＮＯ₂ガスを、ＮＯ₂センサを経由して滅菌室に戻す計測経路を付設していることが好ましい。

複数の滅菌室を単一の排気システムに接続していることが好ましい。

また、本発明は、前記滅菌装置を用いる滅菌方法であって、滅菌対象物を滅菌した使用済みの高濃度ＮＯ₂ガスを排出する排ガス工程において、高濃度ＮＯ₂ガスを所定のガス成分量毎、排気システムに向け分割排気することを特徴とする滅菌方法である。

前記滅菌装置を用いる滅菌方法であって、滅菌対象物を滅菌した滅菌工程の後に使用済みの高濃度ＮＯ₂ガスを排出する排ガス工程において、先に前記第１の開閉具を閉、第２の開閉具を開とした状態で、排気システムの排気装置で滅菌室内の高濃度ＮＯ₂ガスを排ガス処理手段に向け排出することにより滅菌室を負圧とし、次いで第１の開閉具を開、第２の開閉具を閉とすることにより、チャンバー内に残留する高濃度ＮＯ₂ガスを前記負圧により滅菌室に吸引する手順を繰り返すことが好ましい。

また、本発明は、前記滅菌装置を用いる滅菌方法であって、（ｄ）滅菌室に滅菌対象物をセットする工程（セット工程）、（ｅ）滅菌室内を真空引きする工程（真空引き工程）、（ｆ）滅菌室内を加湿する工程（加湿工程）、（ｇ）第１の開閉具を開き、ＮＯ₂ガス供給系で生成されてチャンバーに貯まったＮＯ₂ガスを滅菌室に供給する工程（供給工程）、（ｈ）チャンバーに乾燥した混合気体を充填する工程（給気工程）、（ｉ）ＮＯ₂ガス供給系を駆動してＮＯ₂ガスを生成する工程（循環工程）を含み、（ｇ）〜（ｉ）を複数回繰り返すことを特徴とする滅菌方法である。

前記（ｈ）の給気工程の前に、第１の開閉具を閉めるとともに第３の開閉具を開いてチャンバーと排気システムとを直結し、排気システムによりチャンバー内に残存するＮＯ₂ガスを排気するとともに真空引きする工程（排気工程）を行うことが好ましい。

本発明の一実施形態にかかる排気システムの構成を説明するための説明図である。 本発明の一実施形態にかかる排気システムの構成におけるプラズマ生成部を説明するための説明図である。 本発明の一実施形態にかかる排気システムを含む構成におけるプラズマ発生器を説明するための説明図である。 本発明の一実施形態にかかる排気システムを説明するための説明図である。

以下、本発明の実施の形態を図示例と共に説明する。排気システムは、高濃度ＮＯ₂ガスを用いて滅菌対象物を滅菌した使用済みの排ガスを排出するためのシステムであり、本形態では、医療機器類その他の滅菌対象物を効率的に滅菌処理できる滅菌装置に採用されている。そこで、本発明の滅菌装置の実施形態を先に説明する。

本形態の滅菌装置は、高濃度ＮＯ₂ガスを生成するＮＯ₂ガス供給系と、高濃度ＮＯ₂ガスを用いて、収容した滅菌対象物を滅菌する滅菌室と、滅菌に使用済みの高濃度ＮＯ₂ガスである排ガスを無害化する排気システムとを含み構成したものを例示している。

図１に示されるように、前記ＮＯ₂ガス供給系は、チャンバー１と、プラズマ発生器２と、循環手段３とを接続した循環経路４を具備している。該循環経路４はより具体的には、チャンバー１と、該チャンバー１の経路下流側に配管を介して接続された流動抵抗部５と、該流動抵抗部５の経路下流側に配管を介して接続されたプラズマ発生器２と、該プラズマ発生器２の経路下流側に配管を介して接続された循環手段３とを含んで構成される。さらに該循環手段３は、前記チャンバー１の経路上流側に配管を介して接続され、その結果チャンバー１、流動抵抗部５、プラズマ発生器２、および循環手段３によりサイクル状の循環経路４を形成している。そして循環手段３の作用により、窒素と酸素とを含む混合気体が循環経路４内を循環してＮＯ₂を生成する。

なお本明細書において、高濃度ＮＯ₂の生成装置に原料として外部から供給される窒素と酸素とを含む気体を混合気体と称し、プラズマ発生器２を少なくとも一度循環して発生したＮＯｘを含む気体をＮＯｘ混合ガスと称し、上記循環を繰り返すことにより所望のＮＯ₂濃度に達した気体を高濃度ＮＯ₂ガスと称している。

前記チャンバー１は、生成される高濃度ＮＯ₂ガスを収容するための気密性を有する収容室であり、本形態では矩形箱状をなしているが、球状、円筒状でもよい。本形態のチャンバー１は、循環経路４を形成するため、流出口と流入口、および高濃度ＮＯ₂ガスを取り出すための開閉可能なガス供給口とが形成される。

前記流動抵抗部５は、本形態では、オリフィス５ａにより形成されている。該オリフィス５ａは、前記チャンバー１下流側の配管に設けられ、オリフィス流量計を構成している。このように本形態では、オリフィス流量計によって、チャンバー１から出て循環するガス流量を計測できる点で好ましい。流動抵抗部５は、オリフィス５ａのほか、チャンバー１下流側の配管の一部区間を細径のパイプで構成し、該区間の流動抵抗を高めて構成することもできる。

図２および図３に示されるように、前記プラズマ発生器２は、マイクロ波を利用し、常温常圧でのプラズマ発生が可能なユニットであって、大略的に、所定波長のマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置２ａと、このマイクロ波発生装置２ａに接続され、前記マイクロ波を伝搬させる導波管２ｂと、該導波管２ｂと一体に設けられたプラズマ生成部２ｃとを備えて構成されている。

マイクロ波発生装置２ａは、例えば２．４５ＧＨｚのマイクロ波を発生し、該マイクロ波を導波管２ｂの内部へ伝搬させる。このためマイクロ波発生装置２ａは、マイクロ波を発生するマグネトロン等のマイクロ波発生源と、このマイクロ波発生源にて発生したマイクロ波の強度を所定の出力強度に調整するアンプと、マイクロ波を導波管２ｂの内部へ放出するマイクロ波送信アンテナとを備える。プラズマ発生器２に用いるマイクロ波発生装置２ａとしては、例えば１Ｗ〜３ｋＷのマイクロ波エネルギーを出力できる連続可変型のものが好適である。

前記導波管２ｂは、例えば非磁性金属（アルミニウム等）からなり、断面矩形の管状を呈し、マイクロ波発生装置２ａにより発生されたマイクロ波をプラズマ生成部２ｃへ向けて伝搬させる。本形態の導波管２ｂは、金属平板からなる上面板、下面板および２枚の側面板を用いた角筒状の組み立て体にて構成している。このような平板の組み立てによらず、導波管は押し出し成形や板状部材の折り曲げ加工等により形成しても良い。また、断面矩形の導波管２ｂに限らず、断面楕円の導波管２ｂを用いることも可能である。さらに、非磁性金属に限らず、導波作用を有する各種の部材で導波管を構成することもできる。そして導波管２ｂは、本形態では接地している。

前記プラズマ生成部２ｃは、上記導波管２ｂに対して一体的に構成され、導波管２ｂに挿通するロッド状の導電軸２ｄと、筒状の導電管２ｅとを備える。さらに該導電軸２ｄは、導波管２ｂ内に挿入され上記マイクロ波を受信するアンテナ部２ｆと、導波管２ｂの外部へ突出する中心電極２ｇとで構成され、本形態では、導波管２ｂに対し電気絶縁部を介して挿通している。本形態の導電軸２ｄは、断面円形であるが、この他卵形断面、楕円形断面、または長楕円形断面のものを採用できる。本形態の導電軸２ｄは、チタンを用いて形成しているが、この他チタン合金、銅、白金、金、銀等のマイクロ波を伝導できる材料を用いることができる。アーク放電を防止し、電極を保護するために、セラミック製のシールド膜が導電軸２ｄ（中心電極２ｇ）の先端に形成されている。

前記導電管２ｅは、本形態では、略円筒状をなし、その内径は、前記導電軸２ｄの外径に比して大きく形成されている。そして該導電管は、上記導波管２ｂから外部に突出した中心電極２ｇを中心にこれを覆って配され、中心電極２ｇと導電管２ｅとの間で環状空間２ｉが形成される。また導電管２ｅの基端部は、前記導波管２ｂに対し、電気的に導通して固定され、その結果本形態の導電管２ｅは、導波管２ｂを介して接地している。なお導電管２ｅは、円形断面の他、矩形断面、楕円形断面等のものでも良い。但し、その先端が、前記中心電極２ｇの先端と略同位置にて終端する長さに形成される。なお本形態の導電管２ｅは、ステンレス鋼を用いて形成しているが、この他アルミニウム等も用いることができる。

本形態の導電管２ｅは、その基端寄りに通気開口が設けられ、該通気開口に前記流動抵抗部５からのびる配管２ｊを接続することにより、流動抵抗部５乃至プラズマ発生器２につながる循環経路４が構成される。そして循環経路４を流れる前記混合気体が環状空間２ｉ内を、中心電極２ｇ端部に向けて移動する。さらに導電管２ｅの縁端には、中心電極２ｇとの間のアーク放電防止のため、セラミック製のシールド筒２ｋが内挿されている。そして該シールド筒２ｋの縁端は、経路下流側に向かってさらに経路下流に向かう配管２ｊに繋がり、循環経路４が形成されている。

このように構成されたプラズマ生成部２ｃでは、マイクロ波発生装置２ａ（マグネトロン）により発生した２．４５ＧＨｚのマイクロ波（出力は調整可能）が、導波管２ｂの一端に配されたマイクロ波発生装置２ａのマイクロ波送信アンテナから、前記プラズマ生成部２ｃに向け放出される。該放出されたマイクロ波は、導波管２ｂ内を伝搬し、前記プラズマ生成部２ｃにおける該導電軸２ｄのアンテナ部２ｆがこれを受信する。このようにアンテナ部２ｆで受信されたマイクロ波は、導電軸２ｄの表面を伝搬し、中心電極２ｇ先端に到達する。中心電極２ｇ先端は、導波管２ｂと電気的に結合され接地電位である導電管２ｅの先端に近接し、中心電極２ｇ先端に到達したマイクロ波により、この導電管２ｅ先端と中心電極２ｇ先端の間、特に中心電極２ｇ先端近傍に、強電界部が形成される。なお、この導電軸２ｄは２．４５ＧＨｚ帯に共振点を持つように形成されており、これにより中心電極２ｇ先端部に効率よく強電界を形成することを可能としている。

このように形成される強電界により、循環経路４を経て供給される前記混合気体に含まれる窒素および酸素に部分電離が発生し、その結果数万℃の電子、ほぼ常温のイオン、ほぼ常温の中性原子、およびほぼ常温の中性分子の集合体が構成される。この状態は、総合的には電気的に中性の状態であり、言い換えるとプラズマ状態、より詳細には低温プラズマ(非平衡プラズマ)状態が形成される。

すなわち中心電極２ｇ端部近傍の混合気体の窒素と酸素とが、マイクロ波によって形成された強電界に励起されて絶縁破壊を生じ、分子の状態から低温プラズマ(非平衡プラズマ)状態に変位する。そしてこの低温プラズマ状態のガスは、他の低温プラズマ状態のガスまたは分子状態のガスとの反応性が高い。そのため、窒素と酸素を主とする混合気体をプラズマ生成部２ｃに導入すると、その一部が下記の如く、一酸化窒素、二酸化窒素などの窒素酸化物、或いはオゾンへと変換される。
１．Ｎ₂+Ｏ₂→２ＮＯ
２．Ｎ₂+２Ｏ₂→２ＮＯ₂
３．３Ｏ₂→２Ｏ₃

なおこのとき、式１による変換の比率が最も多い。そして、式１で生成した一酸化窒素の一部は、プラズマ生成部２ｃにおいて低温プラズマ状態の酸素と結合して二酸化窒素に変換される。
４．２ＮＯ+Ｏ₂→２ＮＯ₂

このようにして生成されたＮＯ₂を含むＮＯｘ混合ガスは、循環経路４を循環し、或いはチャンバー１に滞留する。そしてその間に、式１で生成された一酸化窒素は、段階的にＮＯｘ混合ガス中の酸素、或いは上記式３で生成されたオゾンと反応し、下記式５、６の如くさらに二酸化窒素へと変換され、その結果ＮＯ₂濃度が向上する。
５．２ＮＯ+Ｏ₂→２ＮＯ₂
６．ＮＯ+Ｏ₃→ＮＯ₂＋Ｏ₂

さらに上記式３で生成されたオゾンは、ＮＯｘ混合ガス中の窒素と反応し、一酸化窒素を生成する。
７．Ｎ₂+２Ｏ₃→２ＮＯ+２Ｏ₂

そして、この一酸化窒素も、式５、６の反応によって二酸化窒素に変換される。

このようにして、ＮＯｘ混合ガスが循環経路内での循環を繰り返すことによって、次第に二酸化窒素の濃度が濃くなってゆき、所望のＮＯ₂濃度の高濃度ＮＯ₂ガスが得られる。ただし、生成された一酸化窒素や二酸化窒素が再度プラズマ発生器２を通過する際、その一部が解離反応によって、再度低温プラズマ状態になり、窒素や酸素に逆戻りする現象が生じる。従って循環の繰り返しにより、ＮＯｘ混合ガス濃度が一定レベルの高濃度ＮＯ₂ガスに達すると、窒素酸化物の生成と窒素酸化物の解離が均衡化状態となり、所定濃度で更なる高濃度化は進まなくなる。

本形態の高濃度ＮＯ₂ガスの生成装置では、図１に示すように、プラズマ発生器２を１つ備える循環経路４を例示している。しかし、２つまたは３つ以上のプラズマ発生器２を並列接続して、循環経路４を構成することもでき、この場合には短時間で高濃度ＮＯ₂ガスを生成できる点で好ましい。さらに単一のプラズマ発生器２内で、循環経路４を分岐し、各分岐経路にプラズマ生成部２ｃを設けても良い。

前記循環手段３は、本形態では、加圧装置６を用いて構成される。但し循環手段３として、ファンを用いることもできる。加圧装置６としては、エアーポンプを好適に採用でき、エアーブロアー、エアーコンプレッサー等を用いることもできる。前記エアーポンプとしては、出力が２０〜１００ワット程度のフッ素系ゴムを用いたダイヤフラムポンプ、セラミック製のプランジャポンプ、ベローズポンプ等を採用することができる。そして該加圧装置６は、前記プラズマ発生器２と前記チャンバー１とをつなぐ配管に設けられ、経路下流側にあるチャンバー１側を加圧するよう接続される。

叙上のごとく本形態の高濃度ＮＯ₂ガス供給系は、チャンバー１、流動抵抗部５、プラズマ発生器２、および加圧装置６を配管を介して環状に接続することにより、サイクル状の循環経路４を形成している。そして前記加圧装置６の作用によって、吸気部７から取り入れた空気（混合気体）が循環経路４を還流し、プラズマ発生器２を通過する際に低温プラズマ(非平衡プラズマ)状態に変位した窒素と酸素とが反応して発生する一酸化窒素、二酸化窒素を含んだＮＯｘ混合ガスが生成される。そして前記一酸化窒素が、段階的にＮＯｘ混合ガス中の酸素、オゾンと反応することにより二酸化窒素へと変換され、その結果二酸化窒素の濃度が漸増して高濃度ＮＯ₂ガスを生成できる。

本実施の形態では、チャンバー１の下流に、ＮＯ₂濃度測定センサ８が備えられている。これにより、ＮＯ₂の濃度を測定することができる。また、チャンバー１へ導入される空気の露点を調整するためのガス乾燥手段９が備えられている。ガス乾燥手段９としては、たとえば２筒に充填されたモレキュラーシーブによる自己再生方式があげられる。さらに、チャンバー１およびプラズマ発生器２には、それぞれ、圧力計（図示せず）が備えられている。これにより、チャンバー１およびプラズマ発生器２中の圧力を制御できると共に、その圧力に異常が発生していないか確認することができる。

前記滅菌室１０は、本形態では医療機器用の滅菌装置の主要部を構成し、滅菌対象物を出し入れする開口部と、該開口部を密閉しうる遮蔽ドアと、高濃度ＮＯ₂ガスを取り入れるガス供給口と、滅菌後の排ガスを排出するガス排出口とを備える。前記遮蔽ドアは、前記密閉性を確保するため、周縁にシール材を設けている。本形態のシール材は気密性、耐腐食性を考慮して、含フッ素エラストマーを用いている。また遮蔽ドアは、ＮＯ₂センサの測定により、滅菌室１０内のＮＯ₂ガス濃度が人体に危険な水準値以上の場合には開扉しないインターロックを設けると、安全性を向上できる点で好ましい。

前記ガス供給口から前記ＮＯ₂ガス供給系のチャンバー１に向けて供給管１０ａが配管される。そしてチャンバー１内に蓄えられた高濃度ＮＯ₂ガスが供給管を通って、ガス供給口から滅菌室１０に供給される。さらに前記供給管には、エア駆動弁を用いた第１の開閉具１０ｂが設けられ、この第１の開閉具１０ｂのオンオフ制御によって、滅菌室１０への高濃度ＮＯ₂ガスの供給がコントロールされる。

前記滅菌室１０には、室内のＮＯ₂ガスをポンプで吸引し、ＮＯ₂センサ１１でその濃度を計測した後、再び滅菌室１０に戻す計測経路を付設している。本形態の計測経路では、途中で２つの経路に分岐し、各々高濃度計測用、低濃度計測用の２個のＮＯ₂センサ１１ａおよび１１ｂを設け、精度良く濃度測定できるように構成している。

図１および図４に示されるように、前記排気システム１２は、滅菌室１０内に充填された滅菌処理後の高濃度ＮＯ₂ガス（排ガス）を、無害化して排出するものであり、オゾン発生装置１３と、該オゾン発生装置１３から送られるオゾンおよび排ガスの混合比率を調整するバッファ部１４と、ガス処理手段１５と、オゾン処理手段１６と、排気装置１７とを含み構成される。排気装置１７の下流、バッファ部の上流には除湿部Ｄ１、排ガス流量計Ｆ１を含み、構成している。

前記除湿部Ｄ１は、本実施形態ではシリカゲルより構成される。シリカゲルは、高濃度ＮＯ₂ガス（排ガス）に含まれる水分を吸着させることによって、排ガス流量計内の結露による故障の抑止、および下流のガス処理手段１５の効率化を行う。なお、シリカゲルによって、ＮＯ₂の一部が吸収される。また、排ガス流量計Ｆ１は、排気される排ガスの流量を測定する。

前記オゾン発生装置１３は、本形態では、オゾナイザー１８と、オゾンチャンバー１９と、オゾン排気装置２０と、オゾン流量制御部２１とを備えている。オゾナイザー１８（オゾン発生装置）は、誘電体を介在させた電極間に高電圧を印加し、放電ギャップ中に満たした空気または酸素を放電させてオゾンに変換する装置であり、環境対策機器として汎用されている。

前記オゾンチャンバー１９は、４０〜８０Ｌ程度の容器状小空間であり、オゾナイザー１８に接続し、オゾナイザー１８で生成されたオゾンを一時的に蓄えることができる。このようなオゾンチャンバー１９を設けることにより、高濃度ＮＯ₂ガスとの化学反応によって生成された無水硝酸、或いは硝酸化に必要なオゾンを低能力のオゾン発生装置１３でまかなうことができ、高濃度のＮＯ₂ガスを着実に無害化できる。

前記オゾン排気装置２０と、オゾン流量制御部２１とによって、オゾンチャンバー１９からのオゾンの排気量を調整する。具体的にはオゾン流量制御部２１は、前記排ガス流量計Ｆ１によって測定された排ガスの流量に基づき、オゾンの流量を制御可能な調整弁である。これによって、高濃度ＮＯ₂の流量と、オゾンの流量の混合比率を調整することができ、排ガス中に含まれるＮＯ₂に充分なオゾンを送り出すことができる。

前記バッファ部１４は、１０Ｌ程度の容器状小空間である。オゾンを圧送するポンプの圧変動によりオゾン供給量が時間軸に対して過剰側、或いは不足側に変動する。しかし、前述のように、オゾンチャンバー１９からのオゾンを、排ガス流量計Ｆ１に基づきオゾン流量制御部２１が流量制御し、バッファ部１４に送り込んで混合し、該バッファ部１４にてその混合ガスを滞留させることにより、前記の如く変動の大きなオゾン供給量を平均化させることができる。

前記ガス処理手段１５は、本形態では前記バッファ部１４の下流側の排ガス経路上に、吸着触媒を収容した処理部を設けることによって構成している。該吸着触媒は、ＮＯ₂およびオゾンを良好に吸着し、且つ吸着したＮＯ₂とオゾンとの反応を促進してＮ₂Ｏ₅に化学変化させる機能、或いは残留した水蒸気との反応によりＨＮＯ₃生成する触媒をいう。本形態では、吸着触媒としてゼオライトを用いている。なおゼオライトの中でも特にシリカライトを用いると、効率的にＮＯ₂を吸着できる点で好ましい。

前記オゾン処理手段１６は、前記ガス処理手段１５の下流に位置し、ＮＯ₂との化学変化において余剰したオゾンを分解するオゾン分解装置である。これによって、オゾンを所定濃度以下にして、排気することができる。

このように構成したガス処理手段１５は、前記バッファ部１４においてＮＯ₂とオゾンとを好適な混合比率に調整した混合ガスを吸着し、かつＮＯ₂とオゾンとでＮ₂Ｏ₅に化学変化させ、或いは残留する水蒸気とＮＯ₂との反応でＨＮＯ₃の生成を促進することによって、排ガス中のＮＯ₂を除去し、排ガスを無害化しうるものである。しかもＮＯ₂は、オゾンとの化学反応でＮ₂Ｏ₅、或いはＨＮＯ₃を生成して除去されることから、ＮＯ₂が高濃度であっても効率的にこれを除去でき、高濃度ＮＯ₂を用いる滅菌装置において、実用に好適な時間内での確実な排ガス処理が可能となる。さらに本形態では、オゾン処理手段１６の下流側にＮＯ₂センサおよびオゾンセンサを設けて、排ガスが無害化されたことをチェックしている。

このようにガス処理手段１５において、前記混合ガスのＮＯ₂とオゾンとが化学変化してＮ₂Ｏ₅、或いはＨＮＯ₃を生成することから、前記バッファ部１４における混合ガスのＮＯ₂とオゾンとの混合比率は２：１とするのが好適と考えられる。しかしながら実際は、オゾンが高圧環境下では分解し易く、特に配管、各容器が金属で構成されるため、これら金属が触媒となって一層の分解が促進される。従って前記混合ガスのＮＯ₂とオゾンとの混合比率は２：１よりもオゾンの割合を多くする、例えば２：１〜１：２とすることが好ましい。本形態では３：２としている。

このように構成された排気システムは、前記滅菌室１０のガス排出口との間を排気管２２で接続されている。より具体的に、滅菌室１０からのびる排気管２２は、前記バッファ部１４に接続され、その結果滅菌室１０から排出される排ガスがバッファ部１４に移送される。さらに前記排気管２２には、エア駆動弁を用いた第２の開閉具２３が設けられ、この第２の開閉具２３のオンオフ制御によって、バッファ部１４に向けての排ガスの移送がコントロールされる。

前記排気装置１７は、滅菌室１０内に残留する排ガスを吸引して排気システムに移送し、ガス処理手段１５により無害化した後排出するガス流動のエネルギーを付与するものであり、エアーポンプ、ファン等を用いる。本形態では、前記排気管２２にエアーポンプを設けて構成している。

また本形態の排気装置１７は、滅菌室１０中の排ガスを一度に排出するように制御しているが、複数回に分割してバッファ部１４に排出するよう制御してもよい。このように、排ガスを複数回に分けて排ガス処理手段１５に供給すると、排ガスを確実に無害化できる点で好ましい。

本形態では、前記ＮＯ₂ガス供給系のチャンバー１と排気システムとの間を、第３の開閉具２４を設けたバイパス管２５で接続している。第３の開閉具２４を開くことにより、排気システムの排気装置１７の駆動でチャンバー１内を真空引きする排気工程を行うことができる。しかも、チャンバー１内で残留するＮＯ₂ガスは、排気システムにて無害化され安全に排気される。

本形態では、１つの滅菌室１０と排気システムを排気管２２を介して連係させた滅菌装置を構成している。この他、複数の滅菌室１０からの排気管２２を、単一の排気システムに連係させてマルチタイプとし、排ガス時のみ必要な排気システムをシェアリングして駆動するよう制御することもできる。複数の滅菌室１０に対し、共通の排気システムを機能させることから、滅菌装置全体として無駄がなく、コンパクトに構成できる点で好ましい。

次に、前記滅菌装置を用いた本発明の滅菌方法の実施形態を説明する。当該滅菌方法は、本形態では、以下の工程を含んでいる。
（１）滅菌室１０に滅菌対象物をセットする工程（セット工程）
（２）滅菌室１０内を真空引きする工程（真空引き工程）
（３）滅菌室１０内を加湿する工程（加湿工程）
（４）第１の開閉具１０ｂを開き、ＮＯ₂ガス系で生成されてチャンバー１に貯まったＮＯ₂ガスを滅菌室１０に供給する工程（供給工程）
（５）第１の開閉具１０ｂを閉めるとともに第３の開閉具２４を開いてチャンバー１と排気システムとを直結し、排気システムによりチャンバー１内に残存するＮＯ₂ガスを排気するとともに真空引きする工程（排気工程）
（６）チャンバー１に乾燥した混合気体を充填する工程（給気工程）
（７）ＮＯ₂ガス供給系を駆動してＮＯ₂ガスを生成する工程（循環工程）
（８）滅菌室１０内に充填された高濃度ＮＯ₂ガスにより滅菌対象物を滅菌する工程（滅菌工程）
（９）使用済みの高濃度ＮＯ₂ガスを滅菌室１０から排出する工程（排ガス工程）

前記セット工程では、滅菌室１０の遮蔽ドアを開いて、開口部から室内に滅菌対象物を挿入して設置する。高濃度ＮＯ₂ガスとの接触を妨げないように、滅菌対象物は、その形状に応じて適宜設置台上に設置されても良い。また複数個の滅菌対象物を同時に滅菌する場合、重なりがないように設置棚を備え、その上に設置することも良い。

前記真空引き工程では、前記排気装置のエアーポンプを駆動して、室内の空気を排気することにより、滅菌室１０内を減圧する。この減圧により、滅菌対象物の孔部等、細部のしかも奥の空気が取り除かれるため、後の滅菌工程において高濃度ＮＯ₂ガスを充填の際、滅菌対象物の孔部等の細部奥にまで、ＮＯ₂ガスが瞬時に入り込み、その結果滅菌の信頼性が向上する。

前記加湿工程では、滅菌室１０に付設した加湿装置２６により、滅菌室１０内に水蒸気を供給する。加湿工程によって滅菌対象物の孔部等の細部奥まで水蒸気が行きわたり、その状態で高濃度ＮＯ₂ガスを充填することになるため、滅菌対象物の細部、奥部に亘って滅菌に適した湿度とＮＯ₂濃度が達成でき、その結果滅菌の信頼性を向上できる点で好ましい。十分な湿度とＮＯ₂濃度の組み合わせは、菌の表面での硝酸の生成を容易にし、滅菌効果を高めていると考えられる。しかも本形態では加湿の後、高濃度ＮＯ₂ガス充填を行っている。そのため高濃度ＮＯ₂ガスが滅菌室１０に充填される際の圧力上昇に伴って、ＮＯ₂が既に加湿された滅菌対象物の細部、奥部に入り込む為、該細部奥にまで及んで、ＮＯ₂の硝酸化が加速され、その結果滅菌作用をさらに有効に発揮できる。また本形態では加湿を、前記真空引きされた低圧下で行っている。そのため前記加湿装置２６において、比較的低温にて水蒸気発生が得られるとともに、水蒸気が滅菌対象物の細部にまで瞬時に入り込む点で好ましい。

前記供給工程では、先にＮＯ₂ガス系が駆動することによりチャンバー１に溜まった高濃度ＮＯ₂ガスが、前記真空引き工程で減圧した滅菌室１０の負圧により吸引され、第１の開閉具１０ｂを開いた供給管１０ａを通って、滅菌室１０へ供給される。供給工程完了時、前記第１の開閉具１０ｂは閉止する。

前記排気工程では、第３の開閉具２４を開くことにより、前記バイパス管２５を介し、チャンバー１と排気システムとが連通する。そして、排気システムの排気装置１７（エアーポンプ）の駆動により、チャンバー１内に残存するＮＯ₂ガスを吸引するとともにこれを排気システムで無害化して排出する。同時に当該吸引力により、チャンバー１の真空引き（排気工程）を実行できる。このように本形態では、排気システムによって、チャンバー１に残存のＮＯ₂ガスの無害化排出が行なえ、また同システムの排気装置１７の吸引機能により、チャンバー１内の排気工程（真空引き）を実行できる等、滅菌装置が全体として有機的に連動し機能する点で好ましい。

前記給気工程では、排気工程により真空引きされたチャンバー１の負圧によって、乾燥した新たな混合気体が吸引される。

前記循環工程では、プラズマ発生器２のマイクロ波発生装置２ａと、加圧装置６とを始動する。これにより、混合気体が循環経路４内を循環するとともに、叙上のごとくプラズマ発生器２のプラズマ生成部２ｃで、混合気体の窒素と酸素とが低温プラズマ状態に変位することにより、一酸化窒素、二酸化窒素などの窒素酸化物、およびオゾンを発生させ、ＮＯｘ混合ガスが生成される。該ＮＯｘ混合ガスをさらに循環することにより、叙上のごとくＮＯ₂濃度が漸増し、その結果ＮＯ₂濃度が５，０００〜１００，０００ｐｐｍの高濃度ＮＯ₂ガスが生成される。

前記循環工程で生成された高濃度ＮＯ₂ガスは、前記供給工程を再度実施することにより滅菌室１０へ供給される。このように本形態では、排気工程、給気工程、循環工程、および供給工程を繰り返すことにより、チャンバー１に比べて大容量の滅菌室１０は、真空引き工程で減圧された内圧が上昇し、且つＮＯ₂濃度が増加する。５，０００〜１００，０００ｐｐｍの高濃度ＮＯ₂ガスを充填することにより、滅菌室１０内のＮＯ₂濃度は、９〜１００ｍｇ／Ｌ、より好ましくは２０〜８０ｍｇ／Ｌ、本形態では２０〜４０ｍｇ／Ｌに調整される。９ｍｇ／Ｌ未満では、あらゆる菌に対して必要充分な滅菌効果を得ることが出来ない。逆に１００ｍｇ／Ｌを超えると、これ以上の濃度は、滅菌時間短縮の有意差も僅少となり、むしろ排気ガス処理が煩雑化するという問題を生じる。

前記滅菌工程では、前記セット工程に収容された滅菌対象物を、前記所定のＮＯ₂濃度のＮＯ₂ガスが充填された滅菌室１０内で、一定時間維持する。この滅菌維持時間は、滅菌室１０内のＮＯ₂濃度、滅菌対象物の種類等によって異なるが、好ましくは１０〜４８０分程度維持するものとする。１０分未満では、あらゆる種類の菌に対して確実に滅菌できない可能性がある。逆に４８０分を超えると、それ以上の維持は滅菌効果に対しては有意差がなく、処理時間を不必要に長引かせるだけの傾向となる。

前記排ガス工程では、前記第２の開閉具２３を開くとともに、排気システムの排気装置１７を駆動する。これにより使用済み高濃度ＮＯ₂ガス（排ガス）を滅菌室１０から吸引し、前記ガス処理手段１５によってＮＯ₂を除去、無害化して排出する。本形態では、滅菌室１０に残留する排ガスを、ガス処理手段１５の処理能力に応じた所定のＮＯ₂ガス成分量毎、３〜１０回程度に分割して吸引し排出している。これにより高濃度ＮＯ₂の排ガスであっても、該排ガス処理手段１５の規模を過大に構成することなく、確実に無害化できる点で好ましい。

また、先に前記第１の開閉具を閉、第２の開閉具を開とした状態で排気装置１７を駆動し、滅菌室内の高濃度ＮＯ₂ガスを一定量、排ガス処理手段１５に向け排出し、これにより滅菌室１０を負圧とする。次いで第１の開閉具を開、第２の開閉具を閉とすることにより、チャンバー１内に残留する高濃度ＮＯ₂ガスを前記負圧により滅菌室１０に吸引する。この手順を複数回繰り返すことにより滅菌室１０とチャンバー１に残る排ガスを無害化して排出できる。これにより、チャンバー１と滅菌室１０を繋ぐ（第１の開閉具１０ｂを含む）経路内に残存するＮＯ₂ガスも排出されるとともに、排気装置１７の吸引エネルギーを効果的に使って滅菌装置全体に亘っての排気を行うことができる点で好ましい。

以下、実施例により本発明の排気システムにおける、適切なＮＯ₂とオゾンとの混合比率を求めた。

実施例１
（高濃度ＮＯ₂ガスの調製について）
高濃度ＮＯ₂ガスは、ＮＯ₂ガス供給系により調製した。原料として、空気（露点：−６０℃）を用い、プラズマ発生器におけるプラズマ点灯時間は２５分とした。生成された高濃度ＮＯ₂ガスの濃度は、４７ｋｐｐｍであり、チャンバー内に蓄積した。その際の圧力は大気圧（１０１ｋPa（絶対圧））からの差圧で−５ｋＰａ（相対圧）であった。

（オゾンの調製について）
オゾナイザー（ＳＧＡ−０１−ＰＳＡ２、株式会社住友精密工業製）を使用し、空気を原料として４０ｋｐｐｍのオゾンを調製した。調製されたオゾンを、オゾンチャンバーに導入し、オゾン濃度が４０ｋｐｐｍに達するまで置換を行った。

（排気工程について）
第３の開閉具を開放して排気を開始した。高濃度ＮＯ₂ガスは、パーティクルフィルター（ＳＦＢ２００、ＳＭＣ株式会社）およびシリカゲル層（シリカゲルＡ型５ＵＰ、東海化学工業所製）を通過した後に、排ガス流量計（８５５０、コフロック株式会社製）によりオゾンとの配合割合が２：１となるよう調整した。

オゾンは、オゾン流量制御部（８５００、コフロック株式会社製）により、前述の流量が調整された高濃度ＮＯ₂ガスと、オゾンとの配合割合が２：１となるよう混合した。高濃度ＮＯ₂ガスとオゾンとの混合は、バッファ部（バッファータンク）で行なった。該無水硝酸を含む混合気体を、直列に２個配置された硝酸吸着触媒（ＡＤＳ５５、吸着技術工業株式会社製）に通過させた後、前述の高濃度ＮＯ₂を蓄積したチャンバー内の圧力が特定の値（−５０、−６５、−７５、−８５、−９０ｋＰａ（相対圧））を示す各タイミングにてサンプリングし、硝酸吸着触媒通過後の排ガス中に残存するＮＯｘの濃度を測定した。結果を表１に示す。

実施例２
ＮＯ₂ガス供給系において生成する高濃度ＮＯ₂ガスの濃度を４４ｋｐｐｍとし、排気工程における高濃度ＮＯ₂ガスとオゾンとの配合割合を５：２としたほかは、実施例１と同様に高濃度ＮＯ₂ガスを処理し、残存するＮＯｘの濃度を測定した。結果を表１に示す。

実施例３
ＮＯ₂ガス供給系において生成する高濃度ＮＯ₂ガスの濃度を５０ｋｐｐｍとし、排気工程における高濃度ＮＯ₂ガスとオゾンとの配合割合を３：１としたほかは、実施例１と同様に高濃度ＮＯ₂ガスを処理し、残存するＮＯｘの濃度を測定した。結果を表１に示す。

表１に示されるように、高濃度ＮＯ₂ガスとオゾンとの配合割合が２：１である実施例１では、チャンバー内圧力が−５０〜−９０ｋＰａのすべてにおいて、完全にＮＯｘが分解された。また、高濃度ＮＯ₂ガスとオゾンとの配合割合が５：２である実施例２においても、チャンバー内圧力が−５０〜−９０ｋＰａのすべてにおいて、完全にＮＯｘが分解された。

一方、高濃度ＮＯ₂ガスとオゾンとの配合割合を３：１とした実施例３の場合には、チャンバー内圧力が−５０〜−８５ｋＰａのときに完全にＮＯｘは分解されたが、チャンバー内圧力が−９０ｋＰａのときにはＮＯｘの一部が分解されずに残存した。

なお、表１中における「ＮＯ₂の割合％（換算前）」とは、高濃度ＮＯ₂ガスとオゾンとの混合気体中の高濃度ＮＯ₂ガスの割合（理論値）をいう。この実施例では、高濃度ＮＯ₂ガスは、オゾンとの混合前においてシリカゲル層を通過することにより、高濃度ＮＯ₂ガスの一部（２５％）が消費されることとなるため、「ＮＯ₂の割合％（換算後）」では、高濃度ＮＯ₂ガスとオゾンとの混合気体中の高濃度ＮＯ₂ガスの割合（理論値）を計算している。実施例１について具体的には、
ＮＯ₂の割合％（換算前）：２／（２＋１）×１００＝６７であり、
ＮＯ₂の割合％（換算後）：２×０．７５／（２×０．７５＋１）×１００＝６０である。以上より、ＮＯ₂の割合％（換算後）が６６％未満の場合（実施例１〜２）では、完全にＮＯｘを分解できることが判り、ＮＯ₂の割合％（換算後）が６９％を超える場合（比較例１）では、ＮＯｘの一部が分解されずに残存することが判った。

本発明の排気システムおよび該排気システムを用いた滅菌装置ならびに該滅菌装置を用いた滅菌方法によれば、滅菌プロセスで使用された高濃度ＮＯ₂ガス中のＮＯ₂およびオゾンを吸着し、且つ吸着したＮＯ₂とオゾンとの化学反応の促進によって硝酸または無水硝酸を生成してこれを保持する結果、高濃度であっても、確実かつ効率的に排ガスを無害化できるという優れた効果を奏し得る。

本発明の滅菌装置によれば、滅菌装置で排気される排ガス中のＮＯ₂を除去することができる。また、本発明の滅菌方法によれば、高濃度ＮＯ₂ガスを完全に分解し、無毒化したうえで排気することができる。

１ チャンバー
２ プラズマ発生器
２ａ マイクロ波発生装置
２ｂ 導波管
２ｃ プラズマ生成部
２ｄ 導電軸
２ｅ 導電管
２ｆ アンテナ部
２ｇ 中心電極
２ｈ シールド膜
２ｉ 環状空間
３ 循環手段
４ 循環経路
５ 流動抵抗部
５ａ オリフィス
６ 加圧装置
７ 吸気部
８ ＮＯ₂濃度測定センサ
９ ガス乾燥手段
１０ 滅菌室
１０ａ 供給管
１０ｂ 第１の開閉具
１１、１１ａ、１１ｂ ＮＯ₂センサ
１２ 第１の開閉具
１３ オゾン発生装置
１４ バッファ部
１５ ガス処理手段
１６ オゾン処理手段
１７ 排気装置
１８ オゾナイザー
１９ オゾンチャンバー
２０ オゾン排気装置
２１ オゾン流量制御部
２２ 排気管
２３ 第２の開閉具
２４ 第３の開閉具
２５ バイパス管
２６ 加湿装置
Ｄ１ 除湿部
Ｆ１ 排ガス流量計

Claims (13)

1. 高濃度ＮＯ₂ガスを用いて滅菌対象物を滅菌した使用済みの排ガスを排出する排気システムであって、
   オゾン発生装置と、該オゾン発生装置で生成したオゾンおよび排ガス中のＮＯ₂を吸着するとともに双方の化学反応による無水硝酸の生成、或いは硝酸の生成を促進してこれらを保持するガス処理手段と、排ガスを排出する排気装置とを備えたことを特徴とする排気システム。
2. 前記オゾン発生装置は、オゾナイザーと、該オゾナイザーが生成するオゾンを蓄えるオゾンチャンバーとを備えることを特徴とする請求項１記載の排気システム。
3. 前記ガス処理手段の上流側に、排ガス中のＮＯ₂とオゾンとの混合比率を調整するバッファ部をさらに設けたことを特徴とする請求項１または２記載の排気システム。
4. 前記ガス処理手段は、吸着触媒を用いることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の排気システム。
5. 前記排気装置は、滅菌に使用した排ガスを、複数回に分割して排出することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の排気システム。
6. （ａ）高濃度ＮＯ₂ガスを蓄えるチャンバーと、プラズマ発生器と、循環手段とを接続して循環経路を構成したＮＯ₂ガス供給系と、
   （ｂ）前記チャンバーに第１の開閉具を介して接続した滅菌室と、
   （ｃ）前記滅菌室に第２の開閉具を介して接続した請求項１記載の排気システムと
   を含んでなる滅菌装置。
7. 前記チャンバーは、第３の開閉具を介して排気システムに接続されることを特徴とする請求項６記載の滅菌装置。
8. 前記滅菌室は、滅菌室内の高濃度ＮＯ₂ガスを、ＮＯ₂センサを経由して滅菌室に戻す計測経路を付設していることを特徴とする請求項６または７記載の滅菌装置。
9. 複数の滅菌室を単一の排気システムに接続していることを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載の滅菌装置。
10. 請求項６〜９のいずれかに記載の滅菌装置を用いる滅菌方法であって、滅菌対象物を滅菌した使用済みの高濃度ＮＯ₂ガスを排出する排ガス工程において、高濃度ＮＯ₂ガスを所定のガス成分量毎、排気システムに向け分割排気することを特徴とする滅菌方法。
11. 請求項６〜９のいずれかに記載の滅菌装置を用いる滅菌方法であって、滅菌対象物を滅菌する滅菌工程の後に使用済みの高濃度ＮＯ₂ガスを排出する排ガス工程において、
    先に前記第１の開閉具を閉、第２の開閉具を開とした状態で、排気システムの排気装置で滅菌室内の高濃度ＮＯ₂ガスを排ガス処理手段に向け排出することにより滅菌室を負圧とし、次いで第１の開閉具を開、第２の開閉具を閉とすることにより、チャンバー内に残留する高濃度ＮＯ₂ガスを前記負圧により滅菌室に吸引する手順を繰り返すことを特徴とする滅菌方法。
12. 請求項６〜９のいずれかに記載の滅菌装置を用いる滅菌方法であって、以下の工程：
    （ｄ）滅菌室に滅菌対象物をセットする工程（セット工程）
    （ｅ）滅菌室内を真空引きする工程（真空引き工程）
    （ｆ）滅菌室内を加湿する工程（加湿工程）
    （ｇ）第１の開閉具を開き、ＮＯ₂ガス供給系で生成されてチャンバーに貯まったＮＯ₂ガスを滅菌室に供給する工程（供給工程）
    （ｈ）チャンバーに乾燥した混合気体を充填する工程（給気工程）
    （ｉ）ＮＯ₂ガス供給系を駆動してＮＯ₂ガスを生成する工程（循環工程）を含み、
    （ｇ）〜（ｉ）を複数回繰り返すことを特徴とする滅菌方法。
13. （ｈ）の給気工程の前に、第１の開閉具を閉めるとともに第３の開閉具を開いてチャンバーと排気システムとを直結し、排気システムによりチャンバー内に残存するＮＯ₂ガスを排気するとともに真空引きする工程（排気工程）を行うことを特徴とする請求項１２記載の滅菌方法。

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