JP2012518896A - 有機太陽電池における正孔輸送材料としてのトリアリールアミン誘導体の使用、及び前記トリアリールアミン誘導体を含む有機太陽電池 - Google Patents

有機太陽電池における正孔輸送材料としてのトリアリールアミン誘導体の使用、及び前記トリアリールアミン誘導体を含む有機太陽電池 Download PDF

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Abstract

本発明は、一般式(I)の化合物を、有機太陽電池中で正孔輸送材料として用いる使用に関し、前記式中、A1、A2、A3はそれぞれ相互に独立して二価の有機単位であり、この有機単位は1つ、2つ、又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基を有していてよく、ここで芳香族基又はヘテロ芳香族基が2つ又は3つである場合には、これらの基のうち2つがそれぞれ化学結合によって、及び/又は二価のアルキル基によって相互に結合されており、R1、R2、R3はそれぞれ相互に独立して、置換基R、OR、NR2、A3−OR、又はA3−NR2であり、Rはアルキル、アリール、又は一価の有機基であり、この有機基は1つ、2つ、又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基を有していてよく、ここで芳香族基又はヘテロ芳香族基が2つ又は3つである場合には、これらの基のうち2つがそれぞれ化学結合によって、及び/又は二価のアルキル基若しくはNR’基によって相互に結合されており、R’はアルキル、アリール、又は一価の有機基であり、この有機基は2つ又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基を有していてよく、ここで芳香族基又はヘテロ芳香族基が2つ又は3つである場合には、これらの基のうち2つがそれぞれ化学結合によって、及び/又は二価のアルキル基によって相互に結合されており、かつnは式Iで現れるすべてについて、独立して0、1、2、又は3であるが、ただし、nの各値の合計は少なくとも2であり、基R1、R2、R3のうち少なくとも2つは置換基OR及び/又はNR2である。本発明はさらに、前記成分を含む有機太陽電池に関する。

Description

本発明は、一般式I
Figure 2012518896
の化合物を有機太陽電池中で正孔輸送材料として用いる使用に関し、
前記式中、
1、A2、A3はそれぞれ相互に独立して二価の有機単位であり、この有機単位は1つ、2つ、又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基を有していてよく、ここで芳香族基又はヘテロ芳香族基が2つ又は3つである場合には、これらの基のうち2つがそれぞれ化学結合によって、及び/又は二価のアルキル基によって相互に結合されており、
1、R2、R3はそれぞれ相互に独立して、置換基R、OR、NR2、A3−OR、又はA3−NR2であり、
Rはアルキル、アリール、又は一価の有機基であり、この有機基は1つ、2つ、又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基を有していてよく、ここで芳香族基又はヘテロ芳香族基が2つ又は3つである場合には、これらの基のうち2つがそれぞれ化学結合によって、及び/又は二価のアルキル基若しくはNR’基によって相互に結合されており、
R’はアルキル、アリール、又は一価の有機基であり、この有機基は1つ、2つ又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基を有していてよく、ここで芳香族基又はヘテロ芳香族基が2つ又は3つである場合には、これらの基のうち2つがそれぞれ化学結合によって、及び/又は二価のアルキル基によって相互に結合されており、かつ
nは式Iで現れるすべてについて、独立して0、1、2、又は3であるが、
ただし、nの各値の合計は少なくとも2であり、基R1、R2、R3のうち少なくとも2つは置換基OR及び/又はNR2である。
本発明はさらに、当該化合物を有する有機太陽電池に関する。
色素増感型太陽電池(Dye Solar Cell, "DSC"、又はDye Sensitized Solar Cell, "DSSC"とも呼ばれる。これらの用語若しくは略称はこれ以降、同義語として用いる)は現在、効率的な代替太陽電池技術の1つである。これらの技術の液状の変法の場合、これまでは効率が最大11%である(例えば、Graetzel M. et al., J. Photochem. Photobio. C, 2003, 4, 145; Chiba et al., Japanese Journal of Appl. Phys., 2006, 45, L638-L640)。
DSCの構成は通常、透明な導電層(作用電極)で被覆されたガラス基板に基づく。この電極上、又はその近傍には通常、n導電性酸化金属、例えば厚さ約10〜20μmのナノ多孔質層である二酸化チタン(TiO2)が施与される。その表面に再度、通常は光感受性色素の単層(Monolage)、例えばルテニウム錯体を吸着させ、これが光吸収によって励起状態に移行する。対極は場合によりμm未満の厚さの触媒金属層、例えば白金層を有することができる。2つの電極の間の領域は、レドックス電解質、例えばヨウ素(I2)とヨウ化リチウム(LiI)からの溶液で満たされている。
DSC機能は、光が色素に吸収され、励起された色素から電子がn−半導体の金属酸化物半導体へと移り、ここでアノードへと移動すること、これに対して電荷平衡のための電解質はカソードをもたらすことに基づく。つまり、n半導体の金属酸化物、色素、及び(たいていは液状の)電解質は、DSCの基本的な成分であり、ここで液状電解質を有する電池は多くの場合、最適ではない封止を伴い、これが安定性の問題につながる。そこで様々な材料が、固体電解質/p半導体としての適性について調査された。
このため様々な無機p−半導体、例えばCul、CulBr・3(S(C492)、又はCuSCNが、固定のDSCでこれまで使用されている。Cul若しくはCuSCNをベースとする固体のDSCによって例えば、最大3%の効率が報告されている(Tennakone et al. J. Phys. D: Appl. Phys, 1998, 31 , 1492; O'Regan et al. Adv. Mater 200, 12, 1263; Kumara et al. Chem. Mater. 2002, 14, 954)。
有機ポリマーも、固体のp−半導体として使用される。その例には、ポリピロール、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、カルバゾールベースのポリマー、ポリアニリン、ポリ(4−ウンデシル−2,2’−ビチオフェン)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(トリフェニル)ジアミン、及びポリ(N−ビニルカルバゾール)が含まれる。効率は、ポリ(N−ビニルカルバゾール)の場合には、最大2%、その場で重合されたPEDOT(ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン))を用いても2.9%にしか達せず(Xia et al. J. Phys. Chem. C 2008, 1 12, 11569)、ここでポリマーは典型的には純粋ではないどころか、たいていは添加剤との混合物で使用される。さらに、ポリマー性p−半導体が直接Ru色素と結合されている、技術思想も提示されている(Peter, K., Appl. Phys. A 2004, 79, 65)。
しかしながらこれまで最高の効率を達成するのは、低分子の有機p−半導体である。そこで例えばトリフェニルアミン(TPD)の蒸着層が、液状電解質の代わりに色素増感層に施与される。色素型太陽電池における、有機化合物2,2’、7,7’−テトラキス(N,N−ジ−p−メトキシフェニルアミン)9,9’−スピロビフルオレン(スピロ-MeOTAD)の使用は、1998年に報告された。メトキシ基がスピロ-MeOTADの酸化ポテンシャルを調整して、Ru錯体を効率的に再生できるようになる。p半導体としてスピロ-MeOTADのみを使用する際には、5%の最大IPCE(incident photon to current conversion efficiency、外部光子変換効率)が達成される。N(PhBr)3SbCl6(ドープ剤として)、及びLi[(CF3SO22N]を添加すると、IPCEは33%に上昇し、0.74%の効率が観察される。t−ブチルピリジンの添加により、効率は2.56%に上昇可能であり、ここで開放電圧(Voc)は約910mVであり、約1.07cm2の活性面積で短絡電流ISCは約5mAと測定された(Krueger et al., Appl. Phys. Lett., 2001 , 79, 2085)。TiO2層のより良好な被覆を達成し、かつスピロ-MeOTAD上での良好な濡れ性を有する色素は、4%超の効率を示す(Schmidt-Mende et al., Adv. Mater. 17, p813-815 (2005))。5.1%というさらに良好な効率は、オキシエチレン側鎖を有するルテニウム錯体を用れば観察される(Snaith, H. et al., Nano Lett., 7, 3372-3376 (2007))。
Durrant et al., Adv. Func. Mater. 2006, 16, 1832-1838は、光電流は多くの場合、固体のp−半導体に対して酸化された色素の正孔移動における収率に直接依存していることを記載している。このことは基本的に、2つの要因による:1つは、酸化物極へのp−半導体の侵入空間であり、もう1つは電荷移動のための熱力学的な駆動力、つまり、とりわけ色素とp−半導体の間の自由エンタルピーの差ΔGである。
固体の正孔半導体を用いたDSCにおける最良の効率は現在、先に述べた化合物スピロ-MeOTADを用いて得られ、その化学式を以下に示す:
Figure 2012518896
(Snaith, H. J.; Moule, A. J.; Klein, C; Meerholz, K.; Friend, R. H.; Graetzel, M. Nano Lett.; (Letter); 2007; 7(1 1); 3372-3376)。
Jaeger et al. (Proc. SPIE 4108, 104-1 10 (2001))の調査によれば、この化合物は半結晶質で存在し、このためプロセス化された形態で、つまりDSCで(再)結晶の危険性がある。
さらに通常のプロセス溶剤への溶解性は比較的低く、このことが相応して低い多孔質充填度に繋がる。
よって本発明の課題は、太陽電池、とりわけDSC中でp−半導体として有利に使用可能なさらなる化合物を提供することである。その特性プロフィールについて、これらの化合物は良好な正孔輸送特性を有し、結晶化傾向が全く無いか或いは非常に低く、かつ通常使用される溶剤に良好に溶解性であり、このため酸化物細孔の可能な限り高い充填度をもたらすのが望ましい。
これに相応して冒頭に記載した化合物の有機太陽電池での使用、並びに前記化合物を含む有機太陽電池が見出された。
アルキルとは、置換又は非置換のC1〜C20アルキル基と理解されるべきである。好ましいのはC1〜C10アルキル基であり、特に好ましいのはC1〜C8アルキル基である。これらのアルキル基は、直鎖状でも分枝鎖状でもよい。これらのアルキル基は更に、C1〜C20アルコキシ、ハロゲン、好ましくはF、及びC6〜C30アリール(さらに置換又は非置換であってよい)から成る群から選択される1つ又は複数の置換基で置換されていてよい。適切なアルキル基の例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、及びオクチル、並びにC6〜C30アリール、C1〜C20アルコキシ、及び/又はハロゲン、とりわけF、上記アルキル基の置換誘導体、例えばCF3である。直鎖状及び分枝鎖状のアルキル基の例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、及びオクチル、並びにイソプロピル、イソブチル、イソペンチル、s−ブチル、t−ブチル、ネオペンチル、3,3−ジメチルブチル、2−エチルヘキシルである。
単位A1、A2、A3、R、R’、R4、R5、R6、R7、R8、及びR9中の二価のアルキル基は、上記のアルキルからさらなる水素原子の形式的な除去により誘導される。
アリールとして適しているのは、単環式、二環式、又は三環式の芳香族化合物から誘導され、環上にヘテロ原子を有さないC6〜C30アリール基である。単環式の系でない限りは、第二の環に対してアリールという呼称の場合、飽和形(ペルヒドロ形)又は部分不飽和形(例えばジヒドロ形又はテトラヒドロ形)は、それぞれの形が知られており、かつ安定であれば可能である。よってアリールという呼称は、本発明の意味合いにおいては例えば、二環性又は三環性の基(両方とも3つの基がすべて芳香族である)も、二環性又は三環性の基(2つの環が芳香族である)も含む。アリール基の例は、フェニル、ナフチル、インダニル、1,2−ジヒドロナフテニル、1,4−ジヒドロナフテニル、フルオレニル、インデニル、アントラセニル、フェナントレニル、又は1,2,3,4−テトラヒドロナフチルである。特に好ましいのは、C6〜C10アリール基、例えばフェニル若しくはナフチルであり、極めて特に好ましいのはC6アリール基、例えばフェニルである。
単位A1、A2、A3、R、R’、R4、R5、R6、R7、R8、及びR9中の芳香族基は、上記のアリールから1つ又は複数のさらなる水素原子の形式的な除去により誘導される。
単位A1、A2、A3、R、R’、R4、R5、R6、R7、R8、及びR9中のヘテロ芳香族基は、ヘタリール基から1つ又は複数のさらなる水素原子の形式的な除去により誘導される。
ここで基礎となるヘタリール基は置換又は非置換であり、5〜30個の環原子を有する。ヘタリールは、単環式、二環式、又は三環式であり、上述のアリールから部分的に誘導でき、その中でアリール基本骨格において少なくとも1つの炭素原子が1つのヘテロ原子によって交換されているものを表す。好ましいヘテロ原子は、N、O、及びSである。ヘタリール基は特に好ましくは、5〜13個の環原子を有する。特に、ピリジンのような系、及びチオフェン、ピロール、イミダゾール又はフランのような5員のヘテロ芳香族化合物から選択されるヘテロアリール基の基本骨格が好ましい。これらの基本骨格は場合により、1つ又は2つの六員の芳香族基と縮合(anellieren)していてよい。適切な縮合型ヘテロ芳香族化合物は、カルバゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾフリル、ジベンゾフリル、又はジベンゾチオフェニルである。該基本骨格は、1つの、複数の又は全ての置換可能な位置で置換されていてよく、その際、好適な置換基は、既にC6〜C30アリールの定義で挙げた置換基である。しかしながらヘタリール基は、非置換であるのが好ましい。適切なヘタリール基は例えば、ピリジン−2−イル、ピリジン−3−イル、ピリジン−4−イル、チオフェン−2−イル、チオフェン−3−イル、ピロール−2−イル、ピロール−3−イル、フラン−2−イル、フラン−3−イル、及びイミダゾール−2−イル、並びに相応のベンゾ縮合された基、とりわけカルバゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾフリル、ジベンゾフリル、又はジベンゾチオフェニルを挙げることができる。
1つ、2つ、又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基のさらなる置換基として考慮されるのはアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、及びオクチル、並びにイソプロピル、イソブチル、イソペンチル、s−ブチル、t−ブチル、ネオペンチル、3,3−ジメチルブチル、及び2−エチルヘキシル、アリール基、例えばC6〜C10アリール基、とりわけフェニル又はナフチル、極めて特に好ましくはC6アリール基、例えばフェニル、及びヘタリール基、例えばピリジン−2−イル、ピリジン−3−イル、ピリジン−4−イル、チオフェン−2−イル、チオフェン−3−イル、ピロール−2−イル、ピロール−3−イル、フラン−2−イル、フラン−3−イル、及びイミダゾール−2−イル、並びに相応するベンゾ縮合された基、とりわけカルバゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾフリル、ジベンゾフリル、又はジベンゾチオフェンイルである。ここで置換度は、あり得る置換基による一回の置換から最大回数の置換まで様々であってよい。
本発明により好ましく使用される式Iの化合物は、基R1、R2、及びR3のうちの少なくとも2つがパラ位のOR置換基及び/又はNR2置換基であることを特徴とする。ここで少なくとも2つの基は、OR基のみであるか、NR2基のみであるか、又は少なくとも1つのOR基と少なくとも1つのNR2基であり得る。
本発明により特に好ましく使用されるべき式Iの化合物は、基R1、R2、及びR3のうちの少なくとも4つがパラ位のOR置換基及び/又はNR2置換基であることを特徴とする。ここで少なくとも4つの基は、OR基のみであるか、NR2基のみであるか、又はOR基とNR2基の混合物であり得る。
本発明により極めて特に好ましく使用されるべき式Iの化合物は、基R1、R2、及びR3のうちのすべてがパラ位のOR置換基及び/又はNR2置換基であることを特徴とする。ここでこれは、OR基のみであるか、NR2基のみであるか、又はOR基とNR2基の混合物であり得る。
すべての場合で、基NR2中の2つのRは相互に異なっていてよいが、これらは好適には同じである。
好ましい二価の有機単位A1、A2、及びA3は、(CH2)m、C(R7)(R8)、N(R9)、
Figure 2012518896
から成る群から選択されており、
前記式中、
mは1〜18の整数であり、
4、R9はアルキル、アリール、又は一価の有機基であり、この有機基は2つ又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基を有していてよく、ここで芳香族基又はヘテロ芳香族基が2つ又は3つである場合には、これらの基のうち2つがそれぞれ化学結合によって、及び/又は二価のアルキル基によって相互に結合されており、
5、R6、R7、R8はそれぞれ相互に独立して水素原子、又はR4及びR9で定義した基であり、
上記単位の芳香族環又はヘテロ芳香族環は、さらに置換されていてもよい。
ここで芳香族環又はヘテロ芳香族環の置換度は、あり得る置換基による一回の置換から最大回数の置換まで様々であってよい。
芳香族環及びヘテロ芳香族環のさらなる置換基の場合に好ましい置換基として考慮されるのは、上記の1つ、2つ、又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基について挙げた置換基である。
本発明により使用される化合物は通常の、当業者に公知の有機合成法に従って製造できる。関連する(特許)文献箇所を見れば、とりわけ以下でさらに説明する合成例が見られる。
DSC構築のためにはnー半導体の金属酸化物として単独の金属酸化物、又は様々な酸化物の混合物が使用できる。混合酸化物の使用も可能である。n−半導体の金属酸化物はとりわけ、ナノ粒子状の酸化物として使用でき、ここでナノ粒子とはこの関連において、平均粒径が0.1マイクロメーター未満の粒子と理解されるべきである。
ナノ粒子状酸化物は通常、焼結法によって表面積が大きい薄い多孔質の膜として半導体基材上に(すなわち、導電層を有する担体を第一電極として)施与される。
基材(以下、担体とも呼ぶ)として適しているのは、金属シートの他にとりわけ、プラスチック板若しくはプラスチックシート、とりわけガラス板である。電極材料、とりわけ上記好ましい構造に従った第一電極のための電極材料として適しているのは、とりわけ導電性材料、例えば透明導電性酸化物(Transparent Conducting Oxide、TCO)、例えばフッ素及び/又はインジウムでドープされた酸化スズ(FTO若しくはITO)、及び/又はアルミニウムでドープされた酸化亜鉛(AZO)、カーボンナノチューブ、又は金属膜である。しかしながら代替的に、又は付加的に、なお充分な透明性を有する薄い金属膜も使用できる。基材はこの導電性材料によってカバー若しくは被覆されていてよい。
この構成の場合には通常、基材は1つだけしか必要とならないので、可撓性電池の構成も可能である。これにより硬性基材によっては実現できなかった、又は実現が難しかった多数の使用目的、例えば銀行のカード、衣服類などでの使用が可能になる。
第一電極、とりわけTCO層はさらに固体のバッファ層(厚さは例えば10〜200nm)によって、とりわけ金属酸化物のバッファ層によってカバー又は被覆して、p−半導体とTCO層との直接接触を避けることができる(Peng et al., Coord. Chem. Rev. 248, 1479 (2004)参照)。バッファ層で使用可能なバッファ金属酸化物は例えば、以下の1つ又は複数の材料を含み得る:酸化バナジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン。
金属酸化物の薄層又は膜は通常、コスト的に有利な固体の半導体材料(n−半導体)であるが、バンドギャップが大きいため、その吸収性はたいてい太陽光スペクトルの可視範囲ではなく、主に紫外線スペクトル範囲にある。よって太陽電池で適用するため、金属酸化物は通常(DSCの場合もそうである)、光増感剤としての色素と組み合わせる必要があり、この光増感剤は太陽光の波長範囲、つまり300〜2000nmで吸収し、電子的な励起状態で電子は半導体の伝導帯に注入される。電池内で使用される固体のp−半導体(このp−半導体は対極で再度還元される)によって、電子を増感剤に戻すことができ、これにより増感剤が再生される。
半導体が酸化亜鉛、二酸化スズ、二酸化チタン、又はこれらの金属酸化物の混合物である場合、太陽電池での適用において特に興味深い。金属酸化物は、ナノ結晶性多孔質層の形で使用できる。増感剤で被覆されたこれらの層は大きな表面積を有し、これにより太陽光の高い吸収性が達成される。三次元構造化された金属酸化物層、例えばナノロッド(Nanorods)は、より高い電子移動性、又は色素及びp−半導体により改善された細孔充填性といった利点をもたらす。
これらの金属酸化物半導体は、単独で、又は混合物の形で使用できる。また、金属酸化物を、1つ又は複数の他の金属酸化物で被覆することもできる。金属酸化物はさらに、他の半導体、例えばGaP、ZnP、又はZnSへの被覆として施与されていてよい。
特に好ましい半導体は、酸化亜鉛、及びアナターゼ型二酸化チタンであり、好適にはナノ結晶形態のものを使用する。
その上、増感剤は有利には、太陽電池で通常使用されるあらゆるn−半導体と組み合わせることができる。好ましい例としてはセラミックで使用される金属酸化物、例えば二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ(IV)、酸化タングステン(VI)、酸化タンタル(V)、酸化ニオブ(V)、酸化セシウム、チタン酸ストロンチウム、スズ酸亜鉛、ペロウスキット型(Perowskit-Typ)の錯体酸化物、例えばチタン酸バリウム、及び二価及び三価の酸化鉄が挙げられ、これらはまたナノ結晶性、又は非晶質で存在し得る。
通常の有機色素、並びにフタロシアニン及びポルフィリンが有する吸収力は非常に高いので、色素増感型n−半導体金属酸化物の薄層又は膜は、充分な光吸収性を達成するために充分である。薄い金属酸化物膜にはまた、不所望の再結合工程が起こる可能性が低下し、色素部分の電池の内部抵抗が減少するという利点がある。n−半導体金属酸化物には、好ましくは100nm〜20μmの層厚を用い、特に好ましくは500nm〜約5μmの範囲の層厚を用いる。
本発明の範囲で使用可能な多数の色素は、従来技術から公知であり、これによりあり得る材料例についても、色素増感型太陽電池についての上記従来技術の記載が参照できる。ここに記載し、特許請求したすべての色素は、基本的に顔料でもあり得る。半導体材料として二酸化チタンをベースとする色素増感型太陽電池は例えば、US-A-4 927 721、Nature 353, p. 737-740 (1991)、及びUS-A-5 350 644並びにNature 395, p. 583-585 (1998)、及びEP-A-1 176 646に記載されている。これらの文献に記載された色素は、基本的に本発明の範囲でも有利に使用できる。これらの色素増感型太陽電池は、遷移金属錯体、とりわけ酸基によって二酸化チタン層に結合されているルテニウム錯体から成る単結晶膜を、増感剤として含む。
増感剤としてはまた、コスト的な理由から、金属不含の有機色素が提案されており、これらも本発明の範囲で使用可能である。4%超という高い効率は、とりわけ固体色素太陽電池では、例えばインドリン色素によって達成される(例えばSchmidt-Mende et al., Adv. Mater. 2005, 17, 813参照)。US-A-6 359 211はまた、本発明の範囲で使用可能なシアニン色素、オキサジン色素、チアジン色素、及びアクリジン色素(これらの色素は、二酸化チタン半導体に固定するため1つのアルキル基によって結合されたカルボキシ基を有する)の使用を記載している。
JP-A-10-189065、2000-243463、2001-093589、2000-100484、及び10-334954は、半導体太陽電池で適用するための、ペリレン骨格で非置換の様々なペリレン3,4,9,10−テトラカルボン酸誘導体を記載している。詳細には:ペリレンテトラカルボン酸ジイミド、イミド窒素原子にカルボキシアルキル基、カルボキシアリール基、カルボキシアリールアルキル基、又はカルボキシアルキルアリール基を有するもの、及び/又はp−ジアミノベンゾール誘導体でイミド化されているもの、ここでアミノ基の窒素原子は、p位で2つのさらなるフェニル基によって置換されているか、又はヘテロ芳香族三環式系の一部である;ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸モノ無水物モノイミド、イミド窒素原子に上述の基、又はさらに官能化されていないアルキル基又はアリール基を有するもの、又はペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水物と1,2−ジアミノベンゼン又は1,8−ジエミノナフタリンとの半縮合物、第一級アミンとのさらなる反応により相応するジイミド若しくは二重縮合物に移行可能なもの;ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水物と、1,2−ジアミノベンゼン、カルボキシ基又はアミノ基によって官能化されているもの;ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジイミド、脂肪族又は芳香族ジアミンによってイミド化されたもの。
New J. Chem. 26, S. 1 155-1160 (2002)には、ペリレン誘導体による二酸化チタンの増感が試験されており、この誘導体はペリレン骨格(ベイ位)で置換されていない。具体的に挙げられているのは、9−ジアルキルアミノペリレン−3,4−ジカルボン酸無水物、ペリレン−3,4−ジカルボン酸イミド、9位でジアルキルアミノ又はカルボキシメチルアミノによって置換されているもの、及びイミド窒素原子のところにカルボキシメチル基若しくは2,5−ジ(t−ブチル)フェニル基を有するもの、及びN−ドデシルアミノペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸モノ無水物モノイミドである。しかしながらこれらのペリレン誘導体をベースとする液状電解質太陽電池は、基本的に効率がルテニウム錯体で増感された太陽電池に比べて低い。
提案された色素増感型太陽電池で増感剤色素として特に好ましいのは、DE 10 2005 053 995 A1 又はWO 2007/054470 A1に記載されているペリレン誘導体、テリレン誘導体、及びクワテリレン誘導体である。これらの色素の使用により、効率が高く、同時に安定性も高い光起電性要素につながる。
リレンは、太陽光の波長範囲で著しい吸収性を示し、ここで共役システムの長さに依存して約400nm(DE 10 2005 053 995 A1に記載のペリレン誘導体)〜最大約900nm(DE 10 2005 053 995 A1に記載のクワテリレン誘導体)の範囲をカバーする。テリレンベースのリレン誘導体Iは、その組成に従って二酸化チタンにより吸着された固体の状態で約400〜800nmの範囲で吸収する。照射される太陽光を可視光から近赤外線範囲まで可能な限り広い有用性を達成するために、様々なリレン誘導体Iの混合物を使用することが有利である。場合により様々なリレン類似体を使用することも推奨され得る。
リレン誘導体Iは容易に、かつ持続的に金属酸化物膜に固定することができる。ここで結合は、無水物官能基(x1)を介して、若しくはその場で形成されるカルボキシ基−COOH、若しくは−COO−、又はイミド基又は縮合基((x2)若しくは(x3))中に含まれる酸基Aによって行われる。DE 10 2005 053 995 A1に記載されたリレン誘導体Iは、本発明の範囲における色素増感型太陽電池での使用に良好に適している。
特に好ましくは前記色素は、分子末端にアンカー基を有し、このアンカー基は、n−半導体膜での固定を保証するものである。前記色素は好適には他の分子末端のところに、電子放出後の色素の再生をn−半導体によって容易にし、さらにすでに半導体で放出された電子との再結合を防止する、電子供与体を有する。
適切な色素のあり得る選択のためのさらなる詳細は、例えば再度DE 10 2005 053 995 A1を参照されたい。本発明に記載された固体の色素増感太陽電池のために、とりわけルテニウム錯体、ポルフィリン、他の有機増感剤、及び好ましくはリレンが使用できる。
金属酸化物膜への色素の固定は、単純な方法で行うことができる。例えば、n−半導体の金属酸化物膜は、新たに焼結された(まだ温かい)状態で充分な時間にわたり(例えば約0.5〜24時間)、適切な有機溶剤中の色素の溶液又は懸濁液と接触させることができる。これは例えば、金属酸化物で被覆された基材を色素溶液に浸漬することによって行うことができる。
様々な色素の組み合わせを用いる場合、これらは例えば1つ又は複数の色素を含有する1つ又は複数の溶液又は懸濁液から連続して施与することができる。また、一層、例えばCuSCNによって隔てられた2つの色素も使用できる(Tennakone, K. J., Phys. Chem B. 2003, 107, 13758参照)。適切な方法はそれぞれの場合、比較的容易に突き止めることができる。
色素は基本的に、別個の要素として存在することができ、又は別個の段階で施与することができ、また残りの層上に別個に施与することができる。しかしながら色素は代替的に、又は付加的に、1つ又は複数の他の要素とまとめられて、若しくは一緒に、例えば固体のp−半導体と一緒に施与することができる。そこで例えば色素とp−半導体との組み合わせが使用でき、この組み合わせは、p半導体特性を有する吸収された色素を含むか、又は例えば吸収特性及びp−半導体特性を有する顔料を含む。
n−半導体金属酸化物中で、固体のp−半導体と電子が再結合するのを防止するため、不活性材料を有する不活性層の類が使用できる。これらの層は可能な限り薄いのが望ましく、これまで覆われていなかったn−半導体金属酸化物の箇所のみをできるだけ覆うことが望ましい。不活性材料はまた、場合によっては時間的に色素の前に金属酸化物に施与することもできる。不活性材料としてはとりわけ、以下の物質が好ましい:Al23;アルミニウム塩;シラン、例えばCH3SiCl3;有機金属錯体、Al3+、とりわけAl3+錯体;4−t−ブチルピリジン(TBP);MgO;4−グアニジノブタン酸(GBA);アルカン酸;ヘキサデシルマロン酸(HDMA)。
先に述べたように、固体の色素増感型太陽電池太陽電池では、固体のp−半導体が使用される。固体のp−半導体は本発明による色素増感型太陽電池においても、電池抵抗を大きく高めることなく使用することができ、とりわけ色素が著しい吸収性を有し、そのため薄いn−半導体層が必要となる場合にはそうである。とりわけ、p−半導体は基本的に閉鎖された緻密な層を有するのが望ましく、これによりn−半導体の金属酸化物(特にナノ多孔質形態のもの)間で、第二電極又は第二半電池との接触により生じうる不所望の再結合が低減できる。
p−半導体の選択に影響をもたらす本質的な尺度は、正孔移動性である。と言うのもこれは正孔拡散長が決まるからである(Kumara, G., Langmuir, 2002, 18, 10493-10495参照)。様々なスピロ化合物における電荷担体移動性の比較は、例えばSaragi, T., Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 966-974に見られる。
さらに、p−半導体材料についての説明は、明細書の従来技術の箇所を参照されたい。
通常あり得る構成要素、及び色素増感型太陽電池のあり得る構造については、同様に上述の箇所を参照されたい。
実施例:
本発明により使用すべき式Iの化合物の合成
A)合成:
合成経路I:
合成工程I−R1:
Figure 2012518896
合成工程I−R1における合成は、以下に記載する文献箇所によって行った:
a) Liu, Yunqi; Ma, Hong; Jen, Alex K-Y.; CHCOFS; Chem. Commun.; 24; 1998; 2747-2748,
b) Goodson, Felix E.; Hauck, Sheila; Hartwig, John F.; J. Am. Chem. Soc; 121 ; 33; 1999; 7527-7539,
c) Shen, Jiun Yi; Lee, Chung Ying; Huang, Tai-Hsiang; Lin, Jiann T.; Tao, Yu-Tai; Chien, Chin-Hsiung; Tsai, Chiitang; J. Mater. Chem.; 15; 25; 2005; 2455-2463,
d) Huang, Ping-Hsin; Shen, Jiun-Yi; Pu, Shin-Chien; Wen, Yuh-Sheng; Lin, Jiann T.; Chou, Pi-Tai; Yeh, Ming-Chang P.; J. Mater. Chem.; 16; 9; 2006; 850-857,
e) Hirata, Narukuni; Kroeze, Jessica E.; Park, Taiho; Jones, David; Haque, Saif A.; Holmes, Andrew B.; Durrant, James R.; Chem. Commun.; 5; 2006; 535-537。
合成工程I−R2:
Figure 2012518896
合成工程I−R2における合成は、以下に記載する文献箇所によって行った:
a) Huang, Qinglan; Evmenenko, Guennadi; Dutta, Pulak; Marks, Tobin J.; J. Am. Chem. Soα; 125; 48; 2003; 14704-14705,
b) Bacher, Erwin; Bayerl, Michael; Rudati, Paula; Reckefuss, Nina; Mueller, C. David; Meerholz, Klaus; Nuyken, Oskar; Macromolecules; EN; 38; 5; 2005; 1640-1647,
c) Li, Zhong Hui; Wong, Man Shing; Tao, Ye; D'lorio, Marie; J. Org. Chem.; EN; 69; 3; 2004; 921-927。
合成工程I−R3:
Figure 2012518896
合成工程I−R3における合成は、以下に記載する文献箇所によって行った:
J. Grazulevicius; J. of Photochem. and Photobio., A: Chemistry 2004 162(2-3), 249-252。
式Iの化合物は、合成経路Iの上記合成工程の順序によって製造することができる。反応体のカップリングは例えば、Ullmann反応によって触媒として銅を用いて、又はパラジウム触媒のもとで行うことができる。
合成ルートII:
合成工程II−R1:
Figure 2012518896
合成工程II−R1における合成は、I−R2に記載した文献箇所によって行った:
合成工程II−R2:
Figure 2012518896
合成工程II−R2における合成は、以下に記載する文献箇所によって行った:
a) Bacher, Erwin; Bayerl, Michael; Rudati, Paula; Reckefuss, Nina; Mueller, C. David; Meerholz, Klaus; Nuyken, Oskar; Macromolecules; 38; 5; 2005; 1640-1647,
b) Goodson, Felix E.; Hauck, Sheila; Hartwig, John F.; J. Am. Chem. Soc; 121 ; 33; 1999; 7527-7539, Hauck, Sheila I.; Lakshmi, K. V.; Hartwig, John F.; Org. Lett.; 1 ; 13; 1999; 2057-2060。
合成工程II−R3:
Figure 2012518896
式Iの化合物は、合成経路IIの上記合成工程の順序によって製造することができる。反応体のカップリングは合成経路Iでも、また例えばUllmann反応によって触媒として銅を用いて、又はパラジウム触媒のもとで行うことができる。
出発アミンの製造:
合成工程I−R2及びII−R1におけるジアリールアミンが、合成経路I及びIIに市販で利用できない場合には、例えばUllmann反応によって触媒として銅を用いて、又はパラジウム触媒のもとで以下の反応に従って行うことができる:
Figure 2012518896
ここでこの合成は、以下に記載する文献によって行った:
パラジウム触媒によるC−Nカップリング反応:
a) Yang, Buchwald; J. Organomet. Chem. 1999, 576 (1-2), 125-146、
b) Wolfe, Marcoux, Buchwald; Acc. Chem. Res. 1998, 31 , 805-818、
c) Hartwig; Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1998, 37, 2046-2067。
銅触媒によるC−Nカップリング反応:
a) Goodbrand, Hu; Org. Chem. 1999, 64, 670-674、
b) Lindley; Tetrahedron 1984, 40, 1433-1456。
実施例1:化合物ID367の合成(合成経路I)
合成工程I−R1:
Figure 2012518896
トルエン(1500ml)中の、4,4’−ジブロモビフェニル(93.6g;300mmol)、4−メトキシアニリン(133g;1.08mol)、Pd(dppf)Cl2(Pd(1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)Cl2);21.93g;30mmol)、及びt−BuONa(ナトリウム第三級ブタノレート;109.06g;1.136mol)の混合物を、窒素雰囲気下110℃で、24時間撹拌した。冷却後にこの混合物をジエチルエーテルで希釈し、Celite(登録商標)クッション(Carl Roth社)で濾過した。この濾床を、それぞれ1500mlの酢酸エチルエステル、メタノール、及びメチレンクロリドで洗浄した。生成物は、明るい茶色の固体として得られた(36g;収率30%)
Figure 2012518896
合成工程I−R2:
Figure 2012518896
窒素を10分間にわたってdppf(1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン;0.19g;0.34mmol)、及びPd2(dba)3(トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0):0.15g;0.17mmol)をトルエン(220ml)に溶かした溶液に通した。引き続き、t−BuONa(2.8g;29mmol)を添加し、反応混合物をさらに15分、撹拌した。それから連続して、4,4’−ジブロモビフェニル(25g;80mmol)、及び4,4’−ジメトキシジフェニルアミン(5.52g;20mmol)を添加した。反応混合物を7時間、100℃の温度で窒素雰囲気下、加熱した。室温に冷却後、反応混合物を氷水で冷やし、沈殿する沈殿物を濾別し、酢酸エチルエステルに溶かした。有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、そしてカラムクロマトグラフィー(溶出液:5%の酢酸エチルエステル/ヘキサン)で精製した。やや黄色い色の固体が得られた(7.58g、収率:82%)。
Figure 2012518896
合成工程I−R3:
Figure 2012518896
4,N4’−ビス(4−メトキシフェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミン(合成工程I−R1からの生成物;0.4g;1.0mmol)、及び合成工程I−R2からの生成物(1.0g;2.2mmol)を窒素雰囲気下、o−キシレン25mlに溶かしたt−BuONa(0.32g;3.3mmol)の溶液に添加した。引き続き、酢酸パラジウム(0.03g、0.14mmol)、及びヘキサン(0.3ml;0.1mmol)中に溶かしたP(t−Bu)3(トリス−t−ブチルホスフィン)の10質量%溶液を反応混合物に添加し、これを7時間、125℃で撹拌した。その後、この反応混合物をトルエン150mlで希釈し、Celiete(登録商標)で濾過し、有機層をNa2SO4で乾燥させた。溶剤を除去し、粗生成物を三回、テトラヒドロフラン(THF)/メタノール混合物から沈殿させた。固体はカラムクロマトグラフィー(溶出液:20%の酢酸エチルエステル/ヘキサン)により精製し、それからTHF/メタノールによる沈殿、活性炭精製を行った。溶剤の除去後、生成物は明るい黄色の固体として得られた(1.0g、収率:86%)。
Figure 2012518896
実施例2:化合物ID447の合成(合成経路II)
合成工程I−R1:
Figure 2012518896
p−アニシジン(5.7g、46.1mmol)、t−BuONa(5.5g、57.7mmol)、及びP(t−Bu)3(0.62ml、0.31mmol)を、トルエン150ml中の、合成工程I−R2からの生成物の溶液(17.7g、38.4mmol)に添加した。窒素を20分間、反応混合物に通した後、Pd2(dba)3(0.35g、0.38mmol)をさらに添加した。得られた反応混合物を室温で16時間、窒素雰囲気下で撹拌した。引き続き酢酸エチルエステルで希釈し、Celite(登録商標)で濾過した。濾液を二度、それぞれ150mlの水と、飽和食塩水で洗浄した。Na2SO4による有機相の乾燥後、及び溶剤の除去後に、黒い固体が得られた。この固体をカラムクロマトグラフィーで精製した(溶出剤:0〜25%の酢酸エチルエステル/ヘキサン)。オレンジ色の固体が得られた(14g、収率75%)。
Figure 2012518896
合成工程I−R3:
Figure 2012518896
t−BuONa(686mg;7.14mmol)を100℃で真空下で加熱し、引き続き反応フラスコを窒素洗浄し、室温に冷却した。2,7−ジブロモ−9.9’−ジメチルフルオレン(420mg;1.19mmol)、トルエン(40ml)、及びPd[P(tBu)32(20mg:0.0714mmol)を添加し、反応混合物を室温で15分撹拌した。引き続き、N,N,N’−p−トリメトキシトリフェニルベンジジン(1.5g、1.27mmol)を反応混合物に添加し、5時間120℃で撹拌した。この混合物をCelite(登録商標)/MgSO4混合物で濾過し、トルエンで洗浄した。この粗生成物を二度、カラムクロマトグラフィーで精製し(溶出液:30%の酢酸エチルエステル/ヘキサン)、THF/メタノールから二度の沈殿後に、明るい黄色の固体が得られた(200mg、収率:13%)。
Figure 2012518896
実施例3:化合物ID453の合成(合成経路I)
a)出発アミンの製造:
工程1:
Figure 2012518896
NaOH(78g;4当量)を、DMSO(ジメチルスルホキシド)580ml中の、2−ブロモ−9Hフルオレン(120g;1当量)及びBnEt3NCl(ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド;5.9g;0.06当量)の混合物に添加した。この混合物を氷水で冷却し、メチルヨージド(MeI)(160g;2.3当量)をゆっくりと滴加した。反応混合物を一晩撹拌し、その後この混合物を水に注ぎ、引き続き酢酸エチルエステルで三回抽出した。ひとまとめにした有機相を飽和食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥させ、溶剤を除去した。粗生成物は、カラムクロマトグラフィーでケイ酸ゲルによって精製した(溶出液:石油エーテル)。メタノールで洗浄後、生成物(2−ブロモ−9,9’−ジメチル−9H−フルオレン)が、白色の固体として得られた(102g)。
Figure 2012518896
工程2:
Figure 2012518896
p−アニシジン(1.23g;10.0mmol、及び2−ブロモ−9,9’−ジメチル−9H−フルオレン(3.0g;11.0mmol)を窒素雰囲気下、トルエン15ml中のt−BuONa(1.44g;15.0mmol)溶液に入れた。Pd2(dba)3(92mg:0.1mmol)、及びヘキサン(0.24ml;0.08mmol)中のP(t−Bu)3の10%溶液をさらに加え、反応混合物を室温で5時間撹拌した。引き続きバッチを氷水で冷却し、生じた沈殿を濾別し、酢酸エチルエステル中に溶かした。有機相を水で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製後(溶出液:10%の酢酸エチルエステル/ヘキサン)、やや黄色い色の固体が得られた(1.5g、収率48%)。
Figure 2012518896
b)本発明により使用すべき化合物の製造
合成工程I−R2:
Figure 2012518896
a)からの生成物(4.70g;10.0mmol)、及び4,4’−ジブロモビフェニル(7.8g;25mmol)を、トルエン50ml中のt−BuONa(1.15g;12mmol)溶液に、窒素下で入れた。Pd2(dba)3(0.64g;0.7mmol)、及びDPPF(0.78g;1.4mmol)をさらに加え、反応混合物を100℃で7時間撹拌した。氷水で反応混合物を冷却後、沈殿した固体を濾別し、これを酢酸エチルエステル中に溶かした。有機相を水で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製後(溶出液:1%の酢酸エチルエステル/ヘキサン)、やや黄色い色の固体が得られた(4.5g、収率82%)。
Figure 2012518896
合成工程I−R3:
Figure 2012518896
4,N4’−ビス(4−メトキシフェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミン(0.60g;1.5mmol)、及び前の合成工程I−R2(1.89g;3.5mmol)からの生成物を窒素下で、o−キシレン30ml中のt−BuONa(0.48g;5.0mmol)溶液に加えた。酢酸パラジウム(0.04g;0.18mmol)、及びヘキサン(0.62ml:0.21mmol)中で10%のP(t−Bu)3溶液をさらに加え、反応混合物を6時間、125℃で撹拌した。引き続き100mlのトルエンで希釈し、Celite(登録商標)で濾過した。Na2SO4で有機相を乾燥させ、得られた固体をカラムクロマトグラフィーで精製した(溶出液:10%の酢酸エチルエステル/ヘキサン)。THF/メタノールから沈殿を行い、やや黄色い色の固体が得られた(1.6g、収率80%)。
Figure 2012518896
本発明により使用されるべき、さらなる式Iの化合物
以下に記載する化合物は、前記合成法に似た合成で得られる。
実施例4:化合物 ID320
Figure 2012518896
実施例5:化合物 ID321
Figure 2012518896
実施例6:化合物 ID366
Figure 2012518896
実施例7:化合物 ID368
Figure 2012518896
実施例8:化合物 ID369
Figure 2012518896
実施例9:化合物 ID446
Figure 2012518896
実施例10:化合物 ID450
Figure 2012518896
実施例11:化合物 ID452
Figure 2012518896
実施例12:化合物 ID480
Figure 2012518896
実施例13:化合物 ID518
Figure 2012518896
実施例14:化合物 ID519
Figure 2012518896
実施例15:化合物 ID521
Figure 2012518896
実施例16:化合物 ID522
Figure 2012518896
実施例17:化合物 ID523
Figure 2012518896
実施例18:化合物 ID565
Figure 2012518896
実施例19:化合物 ID568
Figure 2012518896
実施例20:化合物 ID569
Figure 2012518896
実施例21:化合物 ID572
Figure 2012518896
実施例22:化合物 ID573
Figure 2012518896
実施例23:化合物 ID575
Figure 2012518896
実施例24:化合物 ID629
Figure 2012518896
実施例25:化合物 ID631
Figure 2012518896
スピロ−MeOTAD、及び実施例1〜23の化合物のために、それぞれガラス転移温度Tg(℃)、及びDSCによる形態M、TGAによる分解温度Td(℃)、及びクロロベンゼンへの溶解度L(mg/ml)(この溶剤が最もよく知られているスピロ−MeOTAD用溶剤の1つであるため)を室温で測定し、そのデータを下記の表1にまとめた。コラム中、「M」が意味するのは:
a:非晶質、ここではDSC測定の間に初回の加熱で、Tgにおけるガラス転移点のみを特定できた;
*:非晶質状態はさらに、X線回折により確認した;
sk:半結晶質;初回の加熱時にDSC測定の間に、Tgでのガラス転移後に結晶化が起こった。
Figure 2012518896
表1から、本発明により使用すべき化合物がすべて非晶質形態で存在することがわかる。よって、これらの化合物は、比較化合物のスピロMeOTADベースのDSCよりも明らかに結晶化傾向が低く、こうして製造されるDSCの寿命もより長いという有利な特性をもたらすことが期待できる。
さらに本発明により使用されるべき化合物は、比較化合物のスピロ−MeOTADよりも明らかにより良好な溶解性を有し、このことは正孔充填度に対して、DSC製造の際に肯定的な作用を有する。
他の溶剤への溶解性:
クロロベンゼンは僅か〜平均的な毒性を有する(2.9g/kgのLD50、Manfred Rossberg et al. "Chlorinated Hydrocarbons" Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry Wiley-VCH, Weinheim, 2006による)ので、これらの化合物を実験により、他の溶剤への溶解性についても調査した。表2から読み取れるようにこれらの化合物は、多くの場合、スピロMeOTADに比べて溶解性がより高い(すべての記載はmg/ml)。すなわち、本発明により使用されるべき正孔輸送材料を高濃度で適用することが、他の溶剤からも可能である。
Figure 2012518896
「n.b.」は「測定不能」を意味する。
数字を伴う「>」は、化合物の溶解性が記載した数の値よりも大きいことを意味する。
B)本発明により使用される化合物の、DSCでの試験
DSCの構造は通常、以下の層を有する:
138:トップコンタクト(カソード)
124:正孔輸送材料
123:正孔輸送材料(層の細孔中に120/122)
122:増感色素
120:n−半導体金属酸化物
119:任意のバッファ層
116:フロントコンタクト(アノード)
114:担体。
担体114には、透明な導電性酸化物(TCO、transparent conducting oxide)の層116があり、これは例えばFTO(フッ素ドープ酸化スズ)、又はITO(インジウム−スズ酸化物)である。これらのTCO層は、フロントコンタクト(アノード)である。
フロントコンタクトには、任意のバッファ層119を施与することができ、この層はフロント電極116への正孔の移動を阻止する、又は少なくとも困難にするものである。バッファ層119としては通常、(好適にはナノ多孔質ではない)二酸化チタンの各層を使用し、通常その厚さは10nm〜500nmの間である。このような層は例えば、スパッタリング及び/又はスプレー熱分解によって生成できる。
任意のバッファ層119の上には、厚さが約1μm〜20μmの多孔質n−半導体金属酸化物層120が続き、この層は色素の非常に薄い層、通常は色素の単分子層122によって増感されている。たいていはn−半導体の金属酸化物として二酸化チタンが使用されるが、他の酸化物も考えられる。
色素(層122)で増感された、n−半導体の金属酸化物の層120の上には、正孔輸送材料の層123が続く。この材料は層120/122(金属酸化物/色素)の細孔を、通常は多かれ少なかれ完全に充填し、ここで可能な限り完全な充填度が望ましい。こうして正孔輸送材料と、n−半導体の金属酸化物/色素とからの相互貫入層/内部貫入が得られる。さらに正孔輸送材料は、金属酸化物/固体層の上に突出した層124を形成し、この層は通常厚さが10nm〜500nmであり、とりわけ金属酸化物からの電子がカソード138に到達するのを防止する。
層124上には、対極138をトップコンタクトとして施与する(カソード)。
DSCを利用するため、つまり光起電力を調べるため、光子流を測ることができ、フロントコンタクト(アノード)116、及びトップコンタクト(カソード)138は相応する輸送接続を備えるが、この接続はここでは明らかなため特には記載しない。
使用される色素:
D102:三菱社から市販で得られる。
Figure 2012518896
D205:Seigo Ito et al., "High-conversion-efficiency organic dyesensitized solar cells with a novel indoline dye", Chem.Commun. 41 , 5194〜5196 (2008)によって合成できる。
Figure 2012518896
ペリレン1:この合成は、WO 2007/054470 A1のp80の実施例7から得られる化合物17の合成と同様に行った。
Figure 2012518896
ペリレン2:1当量のペリレン1と、8当量のグリシン及び1当量の酢酸亜鉛(無水)とを、N−メチルピロリドン中で130℃で一晩反応させた。生成物は、ケイ酸ゲルで精製した。
Figure 2012518896
ペリレン3:WO 2007/054470 A1のp109の実施例24から得られる1当量の化合物I24と、8当量のグリシン、及び1当量の酢酸亜鉛(無水)とをN−メチルピロリドン中で130℃で一晩反応させた。生成物は、ケイ酸ゲルで精製した。
Figure 2012518896
DSC試験は、以下に記載するように準備した:
DSC1:
ベース材料として、フッ素ドープした酸化スズ(FTO)で被覆したガラス板(寸法は25mm×15mm×3mm(日本板ガラス))を使用し、これを連続してガラス洗浄剤(RBS35)、脱塩水、及びアセトンでそれぞれ超音波浴中で5分間処理し、それから10分間、イソプロパノール中で煮沸し、窒素流中で乾燥させた。
固体のTiO2バッファ層119を製造するため、L. Kavan and M. Graetzel, Electrochim. Acta 40, 643 (1995)に記載されているようなスプレー火炎分解法を使用した。しかしながら代替的に、又は付加的に、他の方法、例えばスパッタ法が使用できる(P. Frach et al., Thin Solid Films 445 (2003) 251-258; D. Gloess et al., Suf. coat. Technol. 200 (2005) 967-971参照)。
バッファ層119には、n−半導体の金属酸化物層120を施与した。このためにTiO2ペースト(Dyesol, DSL 18NR-T)をスピンコータで1分当たり4500回転にかけ、30分間、90℃で乾燥させた。450℃へ45分加熱し、450℃で30分焼結した後に生じるTiO2は層厚がほぼ1.8μmであった。
このように製造した中間生成物は、この後、例えばGraetzel法により(Graetzel M. et al., Adv. Mater. 2006, 18, 1202に記載のように)TiCl4で処理した。
焼結炉から取り出した後、試料を80℃に冷却し、そして12時間、色素D102を0.5mM、アセトニトリル/t−BuOH(1:1)に溶かした溶液に浸した。溶液から取り出した後、試料に引き続き同じ溶剤でを吹き付け、窒素流で乾燥させた。
次に、p−半導体ID367を施与した。このために、130mMのID367、12mMのLiN(SO2CFs)2(Aldrich)、47mMの4−t−ブチルピリジン(Aldrich)をクロロベンゼン溶液で適用した。この溶液75μlを試料に施与し、60秒間作用させた。この後、上澄み溶液を30秒間、1分当たり2000回転にかけ、3時間周辺空気で乾燥させた。
トップコンタクト(カソード)は熱による金属蒸発によって真空中で施与した。このために試料はマスクを備え、それぞれ4つの相互に分離した正方形のトップコンタクト(寸法はそれぞれ約5mm、×4mm)を活性領域に蒸着させ、この領域はそれぞれ大きさが約3mm×2mmの接触面積で結合されていた。
金属としては、0.1nm/秒の速度で厚さ5×10-5mbarで蒸着させたAgを使用し、これにより層の厚さは約200nmとなった。
効率ηを測定するため、それぞれの電流/電圧特性曲線を、Source Meter Model 2400 (Keithley Instruments Inc.)で太陽シミュレーターとしてキセノンランプ(LOT-Oriel)を照射して測定した。
電流/電圧特性曲線は、照射強度が10mW/cm2(0.1sun)、及び100mW/cm2(1sun)で測定した。1sunでの測定値と直接比較するため、0.1sunでの電流密度は10倍する。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Isc(ここでSCは「短絡(short circuit)」を意味する)は1.01mA/cm2若しくは9.76mA/cm2、端子電圧Voc(ここでocは「開放回路(open circuit)」を意味する)は、開放電圧回路で0.78V若しくは0.86V、充填係数(FF)は68%若しくは53%、効率は5.3%若しくは4.4%であった。
DSC1に対する比較例:
例DSC1に記載したように、正孔輸送材料としてスピロ−MeOTADを有する固体のDSCを製造した。このために、163mMのスピロ−MeOTAD、15mMのLiN(SO2CF32(Aldrich)、60mMの4−t−ブチルピリジン(Aldrich)をクロロベンゼン溶液で適用した。0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Isc(ここでSCは「短絡(short circuit)」を意味する)は1.10mA/cm2若しくは10.60mA/cm2、端子電圧Voc(ここでocは「開放回路(open circuit)」を意味する)は、開放電圧回路で0.74V若しくは0.80V、充填係数(FF)は69%若しくは47%、効率は5.6%若しくは4.0%であった。
DSC2:
例DSC1で記載したように、正孔輸送材料ID447及び色素D102を有する固体のDSCを製造した(正孔輸送材料溶液:クロロベンゼン中の、ID447 167mM、LiN(SO2CF32 15mM、4−t−ブチルピリジン61mM)。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Iscは0.91mA/cm2若しくは6.95mA/cm2、端子電圧Vocは、開放電圧回路で0.72V若しくは0.78V、充填係数(FF)は56%若しくは33%、効率は3.8%若しくは1.8%であった。
DSC3:
例DSC1で記載したように、正孔輸送材料ID453及び色素D102を有する固体のDSCを製造した(正孔輸送材料溶液:クロロベンゼン中の、ID453 151mM、LiN(SO2CF32 14mM、4−t−ブチルピリジン55mM)。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Iscは0.87mA/cm2若しくは7.75mA/cm2、端子電圧Vocは、開放電圧回路で0.84V若しくは0.90V、充填係数(FF)は61%若しくは34%、効率は4.5%若しくは2.3%であった。
DSC4:
例DSC1で記載したように、正孔輸送材料ID522及び色素D102を有する固体のDSCを製造した(正孔輸送材料溶液:クロロベンゼン中の、ID522 161mM、LiN(SO2CF32 15mM、4−t−ブチルピリジン58mM)。ナノ多孔質のTiO2層の厚さはこの場合、約1.8μmではなく約2.2μmであった。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Iscは0.83mA/cm2若しくは8.77mA/cm2、端子電圧Vocは、開放電圧回路で0.76V若しくは0.84V、充填係数(FF)は69%若しくは45%、効率は4.4%若しくは3.3%であった。
DSC4に対する比較例:
例DSC4で記載したように、正孔輸送材料スピロ−MeOTAD及び色素D102を有する固体のDSCを製造した(正孔輸送材料溶液:クロロベンゼン中の、スピロ−MeOTAD 163mM、LiN(SO2CF32 15mM、4−t−ブチルピリジン60mM)。ナノ多孔質のTiO2層の厚さは、例DSC4のように約2.2μmであった。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Iscは0.92mA/cm2若しくは9.10mA/cm2、端子電圧Vocは、開放電圧回路で0.74V若しくは0.82V、充填係数(FF)は69%若しくは50%、効率は4.7%若しくは3.7%であった。
DSC5:
例DSC1で記載したように、正孔輸送材料ID572及び色素D102を有する固体のDSCを製造した(正孔輸送材料溶液:クロロベンゼン中の、ID572 178mM、LiN(SO2CF32 16mM、4−t−ブチルピリジン65mM)。ナノ多孔質のTiO2層の厚さは、例DSC1のように約1.8μmであった。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Iscは0.91mA/cm2若しくは8.52mA/cm2、端子電圧Vocは、開放電圧回路で0.84V若しくは0.93V、充填係数(FF)は58%若しくは40%、効率は4.5%若しくは3.1%であった。
DSC6:
例DSC1で記載したように、正孔輸送材料ID367及び色素D205を有する固体のDSCを製造した(正孔輸送材料溶液:クロロベンゼン中の、ID367 130mM、LiN(SO2CF32 12mM、4−t−ブチルピリジン47mM)。色素浴:色素D205 0.5mMを、アセトニトリル/t−BuOH(1:1)中に溶かした溶液(例えばSchmidt-Mende et al., Adv. Mater. 2005, 17, 813 beschriebenに記載のもの)。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Iscは0.97mA/cm2若しくは8.92mA/cm2、端子電圧Vocは、開放電圧回路で0.80V若しくは0.88V、充填係数(FF)は70%若しくは46%、効率は5.4%若しくは3.7%であった。
DSC6に対する比較例
例DSC6で記載したように、正孔輸送材料としてスピロ−MeOTAD及び色素D205を有する固体のDSCを製造した(正孔輸送材料溶液:クロロベンゼン中の、スピロ−MeOTAD 123mM、LiN(SO2CF32 11mM、4−t−ブチルピリジン45mM)。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Iscは0.96mA/cm2若しくは9.32mA/cm2、端子電圧Vocは、開放電圧回路で0.76V若しくは0.86V、充填係数(FF)は68%若しくは49%、効率は4.9%若しくは3.9%であった。
DSC7:
例DSC6で記載したように、正孔輸送材料ID518及び色素D205を有する固体のDSCを製造した(正孔輸送材料溶液:クロロベンゼン中の、ID518 202mM、LiN(SO2CF32 18mM、4−t−ブチルピリジン74mM)。ナノ多孔質のTiO2層の厚さはこの場合、約1.8μmではなく約3.2μmであった。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Iscは0.81mA/cm2若しくは8.57mA/cm2、端子電圧Vocは、開放電圧回路で0.74V若しくは0.82V、充填係数(FF)は63%若しくは33%、効率は3.8%若しくは2.3%であった。
DSC7に対する比較例
例DSC7で記載したように、正孔輸送材料スピロ−MeOTAD及び色素D205を有する固体のDSCを製造した(正孔輸送材料溶液:クロロベンゼン中の、スピロ−MeOTAD 204mM、LiN(SO2CF32 19mM、4−t−ブチルピリジン74mM)。ナノ多孔質のTiO2層の厚さは約1.8μmではなく、DSC7のように約3.2μmであった。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Iscは0.95mA/cm2若しくは10.0mA/cm2、端子電圧Vocは、開放電圧回路で0.72V若しくは0.78V、充填係数(FF)は68%若しくは37%、効率は4.7%若しくは2.9%であった。
DSC8:
例DSC7で記載したように、正孔輸送材料ID522及び色素D205を有する固体のDSCを製造した(正孔輸送材料溶液:クロロベンゼン中の、ID522 201mM、LiN(SO2CF32 18mM、4−t−ブチルピリジン73mM)。ナノ多孔質のTiO2層の厚さは約1.8μmではなく、DSC7のように約3.2μmであった。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Iscは0.56mA/cm2若しくは6.57mA/cm2、端子電圧Vocは、開放電圧回路で0.74V若しくは0.84V、充填係数(FF)は64%若しくは51%、効率は2.7%若しくは2.8%であった。
DSC9:
例DSC7で記載したように、正孔輸送材料ID523及び色素D205を有する固体のDSCを製造した(正孔輸送材料溶液:クロロベンゼン中の、ID523 214mM、LiN(SO2CF32 19mM、4−t−ブチルピリジン78mM)。ナノ多孔質のTiO2層の厚さは約1.8μmではなく、DSC7のように約3.2μmであった。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Iscは0.95mA/cm2若しくは6.76mA/cm2、端子電圧Vocは、開放電圧回路で0.74V若しくは0.80V、充填係数(FF)は58%若しくは34%、効率は4.1%若しくは1.8%であった。
DSC10:
例DSC1で記載したように、正孔輸送材料ID367及び色素ペリレン1を有する固体のDSCを製造した(色素浴:0.5mMのペリレン1をジクロロメタンに溶かした色素溶液)。このために、130mMのID367、12mMのLiN(SO2CFs)2(Aldrich)、47mMの4−t−ブチルピリジン(Aldrich)をクロロベンゼン溶液で適用した。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Isc(ここでSCは「短絡(short circuit)」を意味する)は0.38mA/cm2若しくは2.78mA/cm2、端子電圧Voc(ここでocは「開放回路(open circuit)」を意味する)は、開放電圧回路で0.66V若しくは0.74V、充填係数(FF)は53%若しくは51%、効率は1.3%若しくは1.1%であった。
比較例DSC10:
例DSC10で記載したように、正孔輸送材料スピロ−MeOTAD及び色素ペリレン1を有する固体のDSCを製造した(色素浴:0.5mMのペリレン1をジクロロメタンに溶かした色素溶液)。このために、123mMのスピロ−MeOTAD、11mMのLiN(SO2CF32(Aldrich)、45mMの4−t−ブチルピリジン(Aldrich)をクロロベンゼン溶液で適用した。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Isc(ここでSCは「短絡(short circuit)」を意味する)は0.37mA/cm2若しくは2.58mA/cm2、端子電圧Voc(ここでocは「開放回路(open circuit)」を意味する)は、開放電圧回路で0.60V若しくは0.68V、充填係数(FF)は55%若しくは54%、効率は1.2%若しくは0.9%であった。
DSC11:
例DSC1で記載したように、正孔輸送材料ID367及び色素ペリレン2を有する固体のDSCを製造した(色素浴:0.5mMのペリレン2をジクロロメタンに溶かした色素溶液)。このために、130mMのID367、12mMのLiN(SO2CF32(Aldrich)、47mMの4−t−ブチルピリジン(Aldrich)をクロロベンゼン溶液で適用した。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Isc(ここでSCは「短絡(short circuit)」を意味する)は0.42mA/cm2若しくは4.39mA/cm2、端子電圧Voc(ここでocは「開放回路(open circuit)」を意味する)は、開放電圧回路で0.78V若しくは0.84V、充填係数(FF)は68%若しくは54%、効率は2.3%若しくは2.0%であった。
比較例DSC11:
例DSC10で記載したように、正孔輸送材料としてスピロ−MeOTAD及び色素ペリレン2を有する固体のDSCを製造した(色素浴:0.5mMのペリレン2をジクロロメタンに溶かした色素溶液)。このために、123mMのスピロ−MeOTAD、11mMのLiN(SO2CFs)2(Aldrich)、45mMの4−t−ブチルピリジン(Aldrich)をクロロベンゼン溶液で適用した。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Isc(ここでSCは「短絡(short circuit)」を意味する)は0.52mA/cm2若しくは6.87mA/cm2、端子電圧Voc(ここでocは「開放回路(open circuit)」を意味する)は、開放電圧回路で0.74V若しくは0.76V、充填係数(FF)は70%若しくは56%、効率は2.7%若しくは2.9%であった。
DSC12:
例DSC1で記載したように、正孔輸送材料ID523及び色素ペリレン3を有する固体のDSCを製造した(色素浴:0.5mMのペリレン3をジクロロメタンに溶かした色素溶液)。このために、214mMのID523、19mMのLiN(SO2CF32(Aldrich)、78mMの4−t−ブチルピリジン(Aldrich)をクロロベンゼン溶液で適用した。ナノ多孔質のTiO2層の厚さは、約1.8μmではなく約3.1μmであった。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Isc(ここでSCは「短絡(short circuit)」を意味する)は0.21mA/cm2若しくは3.40mA/cm2、端子電圧Voc(ここでocは「開放回路(open circuit)」を意味する)は、開放電圧回路で0.64V若しくは0.66V、充填係数(FF)は64%若しくは59%、効率は0.9%若しくは1.3%であった。
比較例DSC12:
例DSC12で記載したように、正孔輸送材料スピロ−MeOTAD及び色素ペリレン3を有する固体のDSCを製造した(色素浴:0.5mMのペリレン3をジクロロメタンに溶かした色素溶液)。このために、204mMのスピロ−MeOTAD溶液、19mMのLiN(SO2CFs)2(Aldrich)、74mMの4−t−ブチルピリジン(Aldrich)をクロロベンゼン溶液で適用した。ナノ多孔質のTiO2層の厚さは、約1.8μmではなく約3.1μmであった。
0.1sun若しくは1sunでは、短絡電流密度Isc(ここでSCは「短絡(short circuit)」を意味する)は0.25mA/cm2若しくは3.97mA/cm2、端子電圧Voc(ここでocは「開放回路(open circuit)」を意味する)は、開放電圧回路で0.62V若しくは0.66V、充填係数(FF)は66%若しくは57%、効率は1.0%若しくは1.5%であった。

Claims (7)

  1. 一般式(I)
    Figure 2012518896
    の化合物を、有機太陽電池中で正孔輸送材料として用いる使用であって、
    前記式中、
    1、A2、A3はそれぞれ相互に独立して二価の有機単位であり、この有機単位は1つ、2つ、又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基を有していてよく、ここで芳香族基又はヘテロ芳香族基が2つ又は3つである場合には、これらの基のうち2つがそれぞれ化学結合によって、及び/又は二価のアルキル基によって相互に結合されており、
    1、R2、R3はそれぞれ相互に独立して、置換基R、OR、NR2、A3−OR、又はA3−NR2であり、
    Rはアルキル、アリール、又は一価の有機基であり、この有機基は1つ、2つ、又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基を有していてよく、ここで芳香族基又はヘテロ芳香族基が2つ又は3つである場合には、これらの基のうち2つがそれぞれ化学結合によって、及び/又は二価のアルキル基若しくはNR’基によって相互に結合されており、
    R’はアルキル、アリール、又は一価の有機基であり、この有機基は1つ、2つ又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基を有していてよく、ここで芳香族基又はヘテロ芳香族基が2つ又は3つである場合には、これらの基のうち2つがそれぞれ化学結合によって、及び/又は二価のアルキル基によって相互に結合されており、かつ
    nは式Iで現れるすべてについて、独立して0、1、2、又は3であるが、ただし、nの各値の合計は少なくとも2であり、基R1、R2、R3のうち少なくとも2つは置換基OR及び/又はNR2である、前記使用。
  2. 基R1、R2、及びR3のうち少なくとも2つが、パラ位のOR置換基及び/又はNR2置換基であることを特徴とする、請求項1に記載の使用。
  3. 基R1、R2、及びR3のうち少なくとも4つが、パラ位のOR置換基及び/又はNR2置換基であることを特徴とする、請求項1に記載の使用。
  4. 基R1、R2、及びR3のすべてが、パラ位のOR置換基及び/又はNR2置換基であることを特徴とする、請求項1に記載の使用。
  5. 有機単位A1、A2、及びA3が、(CH2m、C(R7)(R8)、N(R9)、
    Figure 2012518896
    [式中、
    mは1〜18の整数であり、
    4、R9はアルキル、アリール、又は一価の有機基であり、この有機基は1つ、2つ、又は3つの置換又は非置換の芳香族基又はヘテロ芳香族基を有していてよく、芳香族基又はヘテロ芳香族基が2つ又は3つである場合には、これらの基のうち2つがそれぞれ化学結合によって、及び/又は二価のアルキル基によって相互に結合されており、
    5、R6、R7、R8は、それぞれ相互に独立して、水素原子、又はR4及びR9で定義した基であり、
    上記単位の芳香族環及びヘテロ芳香族環はさらに置換されていてもよい]
    から成る群から選択されていることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項に記載の使用。
  6. Rが基R1、R2、及びR3中でそれぞれ相互に独立して、C1〜C8アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、又はアリールであることを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項に記載の使用。
  7. 請求項1から6までのいずれか1項に記載の化合物を含む、太陽電池。
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