JP2012517085A - プラズマを圧縮するためのシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1A
Description
本出願は、ここで本明細書にその全内容が引用により組み込まれる2009年2月4日出願の「プラズマを加速及び圧縮するためのシステム及び方法」という名称の米国特許仮出願第61/149,886号明細書の恩典を「35 U.S.C.§119(e)」の下で請求するものである。
以下に説明する内容は、ある一定のプラズマ圧縮値をもたらすのに使用することができるシステムの実施形態のある一定のパラメータの例示的かつ非限定的な例を示すことを意図している。様々な仮定をこれらの例に関連して説明し、プラズマを圧縮するためのシステムの例示的な実施形態に関わっているファクタ及び考慮事項の一部を強調するために様々な方程式及び例示的な計算を本明細書に示す。以下に説明する内容は、本明細書に説明するシステム及び方法の範囲及び開示されたシステムの最終用途及び適用を制限することを目的としたものではない。本明細書に説明するシステム及び方法の他の実施では、他の方程式、パラメータ、ファクタ、及び考慮事項を適用可能にすることができる。
nτ>1020m-3s
τ=r2/χ
Eth=3VnkT
ここで、N=nVであり、Vは、プラズマ容積、及びEmag=Eth/βであり、ここで、βは、プラズマ圧力/磁気圧力の比率である。総エネルギは、熱エネルギEth+磁気エネルギEmagである。トーラスに対して、容積は、2π2r2Rであり、ここで、Rは大半径(トーラスの周りの)であり、rは小半径である。小型トーラスに対して、Rは、rに実質的に等しく、従って、容積は、2π2r3として近似することができる。
E=7×1016(1+1/β)χ3/2n-1/2ジュール
ここで、nは、m-3単位であり、χはm2/s単位である。
χBohm=ρivi/16
ここで、ρiはイオンジャイロ半径であり、viはイオン熱速度である。
dV/dt=2πRLcs m3/s
ここで、Rは、液体金属漏斗25の半径である。
P=K(V0/V−1)
ここで、Kは容積圧縮係数であり、V0は、ゼロ圧縮時の初期容積である。
E/V=K[ln(P/K+l)−1/(1+K/P)]J/m3
パワー=2πRLcsK[ln(P/K+l)−1/(1+K/P)]ワット
I=LB/μ0
ここで、Lは、プラズマの長さである、Bは、spheromak(又は他の適切な小型トーラス)内の磁場であり、μ0は真空透磁率である。
t=(ητ/μ0)1/2
ηは、金属の電気抵抗であり、τは、磁場が金属に印加される間の時間であり、ここで、τ=L/vpである。
抵抗=η2πR/Lt
電力=抵抗I2=2πRB2(ηLvp)1/2μ0 -3/2ワット
電力Bohm=Eth/τBohm
電力制動放射=1.67×10-38n2T1/2Zeff W/m3
ここで、TはeV単位であり、nはm-3単位であり、Zeff=ΣZ2nz/nである。Zは不純物の原子番号であり、nzはその密度である。制動放射型放射電力損失は、不純物原子番号Zの二乗の関数であり、従って、低い不純物含有量を有することは、特に原子番号が高い不純物に対しては一部の場合に有利とすることができる。
3MJ=mv2/2
m=2ミリグラム
上述のように、上述のシステム及び方法のある一定の実施形態は、核融合反応及び有用な中性子生成が起こることができるように可融材料を含むプラズマを十分に圧縮するのに使用することができる。例えば、可融材料は、例えば、ジュウテリウム、トリチウム、ヘリウム−3、リチウム−6、リチウム−7のような軽元素の1つ又はそれよりも多くの同位元素を含むことができる。従って、システムのある一定の実施形態は、中性子発生器又は中性子源として作用するように構成し及び作動させることができる。このように生成された中性子は、研究及び工業分野において広範囲にわたる実用性を有する。例えば、中性子源は、様々な物質(例えば、爆薬、薬、核分裂性材料、毒など)中の主成分元素、微量元素、トレース元素、及び希元素の多元素解析を行うことができる中性子放射化解析(NAA)に使用することができ、様々な用途(例えば、爆発物検出及び特定、環境廃棄物及び核廃棄物の生態学的なモニタリングなど)に使用することができる。中性子源として構成されたシステムの実施形態は、材料研究(例えば、材料の構造、動特性、組成、及び化学的均一性を解析する)、工業的物品の非破壊試験(例えば、中性子ラジオグラフィ及び/又は中性子断層撮影を通じて)、及び多くの他の工業的及び技術的用途に使用することができる。例えば、システムの実施形態は、核廃棄物汚染除去及び医学的ヌクレオチドの生成に使用することができる。
110 プラズマ加速器
115 加速器の縦軸
120 液体金属漏斗システム
1000 プラズマを加速及び圧縮するのに使用することができるシステム
Claims (52)
- プラズマを圧縮するための装置であって、
プラズマのコンパクトトロイドを発生させるように構成されたプラズマガンと、
第1の端部、第2の端部、及び該第1の端部と該第2の端部間の縦軸を有し、かつ該第1の端部で前記コンパクトトロイドを受け取って該第2の端部に向けて該縦軸に沿って該コンパクトトロイドを加速するように構成されたプラズマ加速器と、
前記プラズマ加速器の前記縦軸と実質的に整列した実質的に円筒形の通路を有する液体漏斗を含み、該通路が、該通路の上端で第1の内径及び該通路の下端で第2の内径を有し、該第2の内径が該第1の内径未満である液体漏斗システムであって、該プラズマ加速器の前記第2の端部から前記コンパクトトロイドを受け取り、かつ該コンパクトトロイドが該上端から該下端に向けて該通路に沿って移動する時に該コンパクトトロイドを圧縮するように構成された液体漏斗システムと、
を含み、
前記システムは、前記上端より下方にある時の前記コンパクトトロイドの圧力が、該上端より上方にある時の該コンパクトトロイドの圧力よりも大きいように構成される、
ことを特徴とする装置。 - 前記プラズマガンは、前記プラズマ加速器の前記縦軸と実質的に整列したガン軸を有することを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記コンパクトトロイドは、spheromakを含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記プラズマガンに電気エネルギを供給するように構成されたコンデンサバンクを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記プラズマガンに前記コンデンサバンクを電気的に結合するように構成された実質的にディスク形状の伝送線を更に含むことを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 前記プラズマガンは、少なくとも1つの磁気コイルを含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの磁気コイルを冷却するように構成された冷却システムを更に含むことを特徴とする請求項6に記載の装置。
- 前記プラズマ加速器は、電磁レールガンを含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記プラズマ加速器は、該プラズマ加速器の前記第1の端部の近くに位置するプラズマリストリクターを含み、該プラズマリストリクターは、該加速器の磁界強度が閾値を超えるまで該リストリクターの位置の上方から該リストリクターの該位置の下方までの前記コンパクトトロイドの移動を抑制するように構成されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記プラズマ加速器は、プラズマ伝播チャンネルを含み、前記プラズマリストリクターは、該プラズマ伝播チャンネル内に狭窄部を含むことを特徴とする請求項9に記載の装置。
- 前記プラズマリストリクターは、前記プラズマ加速器の前記第1の端部の近くに配置された少なくとも1つの磁気コイルを含むことを特徴とする請求項9に記載の装置。
- 前記プラズマ加速器は、内側電極及び外側電極を含み、該内側電極及び該外側電極のうちの少なくとも一方は、前記トロイドが前記第1の端部から前記第2の端部に移動する時に該コンパクトトロイドに圧縮をもたらすテーパを付して構成されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記内側電極及び前記外側電極のうちの少なくとも一方は、前記コンパクトトロイドが前記プラズマ加速器にある時に該コンパクトトロイドの温度よりも高い融点を有する材料で被覆されることを特徴とする請求項12に記載の装置。
- 前記プラズ加速器に電気エネルギを供給するように構成されたコンデンサバンクを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記コンデンサバンクから前記プラズマ加速器への前記電気エネルギの前記供給を遅らせるように構成された可飽和インダクタを更に含むことを特徴とする請求項14に記載の装置。
- 前記可飽和インダクタは、前記コンデンサバンクから前記プラズマ加速器に前記電気エネルギを伝達するように構成されたディスク形状の伝送線に配置されることを特徴とする請求項15に記載の装置。
- 前記可飽和インダクタは、非晶質金属を含むことを特徴とする請求項15に記載の装置。
- 前記プラズマ加速器の前記第2の端部での前記コンパクトトロイドの圧力が、該プラズマ加速器の該第2の端部での該プラズマ加速器の材料強度よりも小さいように構成されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記液体漏斗内にある時の前記コンパクトトロイドの圧力が前記材料強度よりも大きいように構成されることを特徴とする請求項18に記載の装置。
- 前記液体漏斗は、液体金属を含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記液体金属は、鉛リチウムを含むことを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記液体漏斗システムの前記液体漏斗を形成するために前記液体金属を供給するように構成されたポンプシステムを更に含むことを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記液体漏斗は、少なくとも部分的に重力を受けて前記上端から前記下端まで流動する液体材料を含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記液体漏斗システムは、前記プラズマ加速器の前記縦軸及び前記液体漏斗の前記通路の軸と実質的に整列した導電性液体ガイドを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記液体ガイドは、前記コンパクトトロイドが前記通路の前記上端よりも下方にある時に該コンパクトトロイド上に磁力を供給するように構成されることを特徴とする請求項24に記載の装置。
- 前記コンパクトトロイドが前記液体漏斗の前記上端に到達する前に前記液体漏斗システム内に前記液体ガイドを注入するように構成された注入システムを更に含むことを特徴とする請求項24に記載の装置。
- 前記注入システムは、少なくとも部分的に重力を受けて流動する液体材料として前記液体ガイドを前記液体漏斗システム内に供給するように構成され、該液体ガイドは、前記コンパクトトロイドが前記液体漏斗の前記上端よりも下方にある時に該漏斗と電気的に接触しないことを特徴とする請求項26に記載の装置。
- 前記液体漏斗システムから前記液体ガイドのための液体材料を貯蔵するように構成されたリザーバまで液体材料の一部分を再循環させるように構成された再循環システムを更に含むことを特徴とする請求項27に記載の装置。
- 前記再循環システムは、前記液体漏斗システム内へのプラズマの連続的な注入と注入の間に前記液体材料の前記一部分を再循環させるように構成された断続的ポンプを含むことを特徴とする請求項28に記載の装置。
- 前記再循環システムは、前記液体漏斗システムと前記リザーバ間で流体連通する戻りパイプを更に含み、該戻りパイプは、前記プラズマ加速器から絶縁されるように構成された絶縁区画を含むことを特徴とする請求項29に記載の装置。
- 前記絶縁区画は、前記リザーバ内への液体材料の排水を行うために実質的に垂直な向きに配置されることを特徴とする請求項30に記載の装置。
- プラズマを圧縮するように構成された液体金属漏斗システムであって、
通路の第1の端部で第1の内径及び通路の第2の端部で第2の内径を有する実質的に円筒形の通路を有し、該第2の内径が該第1の内径よりも小さい液体金属漏斗であって、該通路の該第1の端部が該通路の該第2の端部よりも高いような向きに配置された液体金属漏斗、
を含み、
前記液体金属漏斗は、プラズマ注入器からプラズマを受け取り、かつ該プラズマが前記第1の端部から前記第2の端部に向けて前記通路に沿って移動する時に該プラズマを圧縮するように構成される、
ことを特徴とするシステム。 - 前記第1の端部は、前記第2の端部の実質的に上方にあることを特徴とする請求項32に記載の液体金属漏斗システム。
- 前記プラズマ注射器から受け取られた前記プラズマの圧力が、該プラズマが前記通路の前記第1の端部の下方にある時の該プラズマの圧力よりも小さいことを特徴とする請求項32に記載の液体金属漏斗システム。
- 前記プラズマは、コンパクトトロイドを含むことを特徴とする請求項32に記載の液体金属漏斗システム。
- 前記液体金属漏斗が、前記第1の端部から前記第2の端部に向けて少なくとも部分的に重力を受けて流動する液体金属を含むように構成されることを特徴とする請求項32に記載の液体金属漏斗システム。
- 前記液体金属が前記第1の端部から前記第2の端部まで流動することができるように該液体金属を循環させるように構成された液体金属循環システムを更に含むことを特徴とする請求項36に記載の液体金属漏斗システム。
- 前記液体金属循環システムは、閉じ込めシステム及びポンプシステムを含み、前記液体金属漏斗は、該閉じ込めシステムに配置され、該ポンプシステムは、該閉じ込めシステムの下側端部から該閉じ込めシステムの上側端部まで前記液体金属をポンピングするように構成されることを特徴とする請求項37に記載の液体金属漏斗システム。
- 前記通路は、前記第1の端部と前記第2の端部の間に軸線を有し、システムが、前記液体金属漏斗の該通路の該軸線に実質的に沿って液体金属ガイドを注入するように構成された液体ガイド注入システムを更に含むことを特徴とする請求項32に記載の液体金属漏斗システム。
- 前記液体金属漏斗の内面と前記液体ガイドの外面の間に前記プラズマを受け取るように構成されることを特徴とする請求項39に記載の液体金属漏斗システム。
- 前記液体金属ガイドは、前記液体金属漏斗から絶縁されるように構成されることを特徴とする請求項39に記載の液体金属漏斗システム。
- プラズマを圧縮する方法であって、
トロイダルプラズマを発生させる段階と、
縦方向に沿って前記トロイダルプラズマを加速する段階と、
通路の第1の端部で第1のサイズ及び通路の第2の端部で第2のサイズを有し、該第2のサイズが該1のサイズよりも小さい液体漏斗の通路内に前記加速トロイダルプラズマを導入する段階と、
前記トロイダルプラズマが前記通路の前記第1の端部から該通路の前記第2の端部に向けて移動する時に該トロイダルプラズマを圧縮する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記トロイダルプラズマを発生させる段階は、spheromakを発生させる段階を含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。
- 前記コンパクトトロイドを加速する段階は、電磁レールガンで該コンパクトトロイドを加速する段階を含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。
- 前記電磁レールガンで前記コンパクトトロイドを加速する段階は、該レールガンによって該コンパクトトロイドを圧縮する段階を含むことを特徴とする請求項44に記載の方法。
- 前記液体漏斗を形成するために液体を再循環させる段階を更に含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。
- 前記液体漏斗は、液体金属を含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。
- 実質的に前記通路の軸線に沿って液体ガイドを導入する段階を更に含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。
- 前記コンパクトトロイドを圧縮する段階は、前記通路の内面と前記液体ガイドの外面の間で該コンパクトトロイドを圧縮する段階を含むことを特徴とする請求項48に記載の方法。
- 前記コンパクトトロイドが前記通路の前記第1の端部と前記第2の端部の間にある時に前記液体ガイドを前記液体漏斗から絶縁する段階を更に含むことを特徴とする請求項48に記載の方法。
- 前記トロイダルプラズマを加速するための電気エネルギを供給するためにコンデンサバンクを放電させる段階を更に含むことを特徴とする請求項42に記載の方法。
- 前記コンデンサバンクを放電させる段階は、可飽和インダクタを使用して該コンデンサバンクを放電させるのを遅らせる段階を含むことを特徴とする請求項51に記載の方法。
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