UA127712C2 - Системи і способи поліпшеної підтримки високоефективної конфігурації з оберненим полем з вакуумуванням із захопленням багатомасштабного типу - Google Patents
Системи і способи поліпшеної підтримки високоефективної конфігурації з оберненим полем з вакуумуванням із захопленням багатомасштабного типу Download PDFInfo
- Publication number
- UA127712C2 UA127712C2 UAA201906091A UAA201906091A UA127712C2 UA 127712 C2 UA127712 C2 UA 127712C2 UA A201906091 A UAA201906091 A UA A201906091A UA A201906091 A UAA201906091 A UA A201906091A UA 127712 C2 UA127712 C2 UA 127712C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- eks
- tki
- plasma
- still
- vacuum pumps
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 238000005086 pumping Methods 0.000 title abstract description 29
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 98
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 77
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims description 45
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 34
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 34
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 26
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 24
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 23
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 22
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 claims description 19
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 12
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 4
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 3
- OWNRRUFOJXFKCU-UHFFFAOYSA-N Bromadiolone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC(Br)=CC=2)C=CC=1C(O)CC(C=1C(OC2=CC=CC=C2C=1O)=O)C1=CC=CC=C1 OWNRRUFOJXFKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims 4
- 244000068988 Glycine max Species 0.000 claims 3
- 235000010469 Glycine max Nutrition 0.000 claims 3
- 101150000446 Tsku gene Proteins 0.000 claims 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 claims 2
- YDHOAQXHVQTASS-UHFFFAOYSA-N 3-amino-n-hydroxypropanamide Chemical compound NCCC(=O)NO YDHOAQXHVQTASS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical group CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 208000002874 Acne Vulgaris Diseases 0.000 claims 1
- 241000224489 Amoeba Species 0.000 claims 1
- 241000786798 Atya Species 0.000 claims 1
- 101100006960 Caenorhabditis elegans let-2 gene Proteins 0.000 claims 1
- 241000254173 Coleoptera Species 0.000 claims 1
- 241001327708 Coriaria sarmentosa Species 0.000 claims 1
- MFYSYFVPBJMHGN-UHFFFAOYSA-N Cortisone Natural products O=C1CCC2(C)C3C(=O)CC(C)(C(CC4)(O)C(=O)CO)C4C3CCC2=C1 MFYSYFVPBJMHGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 244000241257 Cucumis melo Species 0.000 claims 1
- 235000015510 Cucumis melo subsp melo Nutrition 0.000 claims 1
- 235000005459 Digitaria exilis Nutrition 0.000 claims 1
- 101100202589 Drosophila melanogaster scrib gene Proteins 0.000 claims 1
- 241000282326 Felis catus Species 0.000 claims 1
- 241001318330 Nenia Species 0.000 claims 1
- 241000468053 Obodhiang virus Species 0.000 claims 1
- 240000007673 Origanum vulgare Species 0.000 claims 1
- 108010067035 Pancrelipase Proteins 0.000 claims 1
- 101000579646 Penaeus vannamei Penaeidin-1 Proteins 0.000 claims 1
- 244000046146 Pueraria lobata Species 0.000 claims 1
- 235000010575 Pueraria lobata Nutrition 0.000 claims 1
- 241001620634 Roger Species 0.000 claims 1
- 241000159610 Roya <green alga> Species 0.000 claims 1
- 244000299461 Theobroma cacao Species 0.000 claims 1
- 235000009470 Theobroma cacao Nutrition 0.000 claims 1
- GFBKORZTTCHDGY-UWVJOHFNSA-N Thiothixene Chemical compound C12=CC(S(=O)(=O)N(C)C)=CC=C2SC2=CC=CC=C2\C1=C\CCN1CCN(C)CC1 GFBKORZTTCHDGY-UWVJOHFNSA-N 0.000 claims 1
- CCAZWUJBLXKBAY-ULZPOIKGSA-N Tutin Chemical compound C([C@]12[C@@H]3O[C@@H]3[C@@]3(O)[C@H]4C(=O)O[C@@H]([C@H]([C@]32C)O)[C@H]4C(=C)C)O1 CCAZWUJBLXKBAY-ULZPOIKGSA-N 0.000 claims 1
- FJJCIZWZNKZHII-UHFFFAOYSA-N [4,6-bis(cyanoamino)-1,3,5-triazin-2-yl]cyanamide Chemical compound N#CNC1=NC(NC#N)=NC(NC#N)=N1 FJJCIZWZNKZHII-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 206010000496 acne Diseases 0.000 claims 1
- 235000015241 bacon Nutrition 0.000 claims 1
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 claims 1
- 235000020289 caffè mocha Nutrition 0.000 claims 1
- 229940092125 creon Drugs 0.000 claims 1
- 230000035622 drinking Effects 0.000 claims 1
- 210000004013 groin Anatomy 0.000 claims 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000000474 nursing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 claims 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 claims 1
- 238000004353 relayed correlation spectroscopy Methods 0.000 claims 1
- BHTRKEVKTKCXOH-LBSADWJPSA-N tauroursodeoxycholic acid Chemical compound C([C@H]1C[C@@H]2O)[C@H](O)CC[C@]1(C)[C@@H]1[C@@H]2[C@@H]2CC[C@H]([C@@H](CCC(=O)NCCS(O)(=O)=O)C)[C@@]2(C)CC1 BHTRKEVKTKCXOH-LBSADWJPSA-N 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 93
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 28
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 169
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 58
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 27
- 230000006870 function Effects 0.000 description 20
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 10
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 10
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 7
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 5
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 230000005292 diamagnetic effect Effects 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003325 tomography Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000543381 Cliftonia monophylla Species 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 230000004323 axial length Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 2
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000010885 neutral beam injection Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical compound [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 1
- 238000012824 chemical production Methods 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 230000005495 cold plasma Effects 0.000 description 1
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000011549 displacement method Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000001537 electron coincidence spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000011173 large scale experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035764 nutrition Effects 0.000 description 1
- 235000016709 nutrition Nutrition 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 1
- 230000008855 peristalsis Effects 0.000 description 1
- 230000002572 peristaltic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000002085 persistent effect Effects 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21B—FUSION REACTORS
- G21B1/00—Thermonuclear fusion reactors
- G21B1/05—Thermonuclear fusion reactors with magnetic or electric plasma confinement
- G21B1/052—Thermonuclear fusion reactors with magnetic or electric plasma confinement reversed field configuration
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21B—FUSION REACTORS
- G21B1/00—Thermonuclear fusion reactors
- G21B1/11—Details
- G21B1/17—Vacuum chambers; Vacuum systems
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21B—FUSION REACTORS
- G21B1/00—Thermonuclear fusion reactors
- G21B1/05—Thermonuclear fusion reactors with magnetic or electric plasma confinement
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/06—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
- F04B37/08—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/10—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use
- F04B37/14—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use to obtain high vacuum
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21B—FUSION REACTORS
- G21B1/00—Thermonuclear fusion reactors
- G21B1/11—Details
- G21B1/15—Particle injectors for producing thermonuclear fusion reactions, e.g. pellet injectors
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21B—FUSION REACTORS
- G21B1/00—Thermonuclear fusion reactors
- G21B1/11—Details
- G21B1/19—Targets for producing thermonuclear fusion reactions, e.g. pellets for irradiation by laser or charged particle beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J7/00—Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J7/24—Cooling arrangements; Heating arrangements; Means for circulating gas or vapour within the discharge space
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/02—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma
- H05H1/04—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma using magnetic fields substantially generated by the discharge in the plasma
- H05H1/08—Theta pinch devices, e.g. SCYLLA
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/02—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma
- H05H1/10—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma using externally-applied magnetic fields only, e.g. Q-machines, Yin-Yang, base-ball
- H05H1/14—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma using externally-applied magnetic fields only, e.g. Q-machines, Yin-Yang, base-ball wherein the containment vessel is straight and has magnetic mirrors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/02—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma
- H05H1/16—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma using externally-applied electric and magnetic fields
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B41/00—Pumping installations or systems specially adapted for elastic fluids
- F04B41/06—Combinations of two or more pumps
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Producing Shaped Articles From Materials (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
Description
ща д- ВАЗ «ур ве іще о ше ЗВ де ВИ й ши В а се З 7 : ї Кк я а шин У й т ї й дент ВВ оди 55 їн, и ще шия сині В мана МО шо: пі ї се дню х т Ж денти УК їжа М с п : Пре і дя є, нев МОБ и вої Шен. Й
І ОН МИ а ен ВВ й і І БЕК нн НЯ ВІ ПЕОМ: НУ нн» і І ЕКО ЕНН ВН То сон і а: МІТКУ І ЕМО КОЖ : СИМ рот і : МАКИ ЗНО ІН и В НВК: МИ щі по фею ! ВЕК З ПМ нада ОО ЖБЕИЯ ООЯ аа: З ЩІ Щі ї а у і : ПКЕЕ КОМІ М: УК КАМ ЛЬ І ПОМ МІТМ І: З щі не:
З: ІК З ТТН І ПВА ІМК В ЗІ О.А : з 3 і НН в ОВ ЗМІНІ В ЕТ КМ М по В. ПЕ т іктий Зо хі КОМ а ВОК Я КК ХУ ДИТ а ВНТ о бек УТ вухо пт ОНИ В ОО Ж Є ЩО семи Ми МИ тент КТ МУ: що шк СЕТИ
Шо КО ТК сен «м ох ОО за КВ і нн що ОЗ
А жил ау їн ТК ІК "до що: І.К Ж
ТЕ х " мевннно нини яовиннодя, яні нннріянввннян нання Брня нвноняої зд Ї х ЗА ях К те ром нненннннннннк ван ме М Оовав х ! х
У зв за 3 і к
А ЗВЕ у -
ЗІ хв.
ГАЛУЗЬ ВИНАХОДУ
0001) Об'єкт винаходу, описаний тут, належить в цілому до систем магнітного утримання плазми, що має конфігурацію зі оберненим полем (ЕКС), більш конкретно - до систем і способів, які полегшують формування і підтримка ЕКС з підвищеними енергіями системи і поліпшена підтримка з використанням вакууммирования із захопленням багатомасштабного типу.
ПЕРЕДУМОВИ ВИНАХОДУ
І0002| Конфігурація з оберненим полем (ЕКС) належить до класу топологій магнітного утримання плазми, відомих як компактні тороїди (КТ). Вона демонструє переважно полоїдальні магнітні поля і володіє нульовими або малими тороїдальними полями, що самогенеруються (див. М. Ти52ему5Кі, Мисі. Ризіоп 28, 2033 (1988)). Перевагами такої конфігурації є її проста геометрія для зручності побудови і обслуговування, природний необмежений дивертор для полегшення виводу енергії і золовидалення і дуже високе ВД (р - це відношення середнього тиску плазми до середнього тиску магнітного поля усередині ЕС), тобто, висока щільність енергії.
Природа високого ВД є переважною для економічної роботи і для використання передових, анейтронних видів палива, таких як О-Нез і р-В".
ІО0ОЗІ| Традиційний спосіб формування ЕКС передбачає застосування технології 8-пінча з оберненим полем, що дає гарячі високощільні плазми (див. А. І. Нойтап апа у. Т. Біоцуп, Мисі.
Еивіоп 33, 27 (1993)). Різновидом цього є спосіб переносу і захоплення, при здійсненні якого плазму, створену в "джерелі" тета-пінча, у більшому або меншому ступені негайно інжектують з одного торця в камеру утримання. Потім здійснюють захоплення плазмоїда, що переноситься, між двома міцними дзеркалами на торцях камери (див., наприклад, Н. Нітига, 5. ОКада, 5. зЗиМдітоїо, апа 5. сою, Рпуз. Ріаз таз 2, 191 (1995)). Як тільки цей плазмоїд опиняється в камері утримання, можна застосовувати різні способи нагрівання і збудження струму, такі, як інжекція пучка (нейтрального або нейтралізованого), обертові магнітні поля, нагрівання струмами високої частоти або омічне нагрівання, і т.д. Цей поділ функцій джерела і утримання дає ключові інженерні переваги для потенційних майбутніх реакторів термоядерного синтезу. ЕКС довели свою виняткову стійкість до зовнішніх впливів, пристосовність до динамічного формування, переносу і інтенсивним подіям захоплення. Більше того цього, вони демонструють тенденцію допускати переважний стан плазми (див., наприклад, Н. У. Сицо, А. Г. Нойтап, К. Е.
МіПег, апа Г. С. Зіеіппацег, Рпуз. Кем. І ей. 92, 245001 (2004)). За останнє десятиліття досягнуть значний прогрес у розвитку інших способів формування ЕЕС: за допомогою злиття сферомаків із протилежно спрямованими спіральностями (див., наприклад, У. Опо, М. Іпотоїо, У. Оеєда, Т.
Маїзциуата, апа Т. ОКалакі, Мисі. Ривіоп 39, 2001 (1999)) і за допомогою збудження струму обертовими магнітними полями (ВМП) (див., наприклад, І. К. допе5, Рпуз. Ріазтав 6, 1950 (1999)), що також забезпечує додаткову стійкість. 0004) Недавно був істотно дороблений метод зіткнення і злиття, запропонований уже давно (див., наприклад, ОО. К. Умеї5, Руб. Ріціда5 9, 1010 (1966)). два окремих тета-пінча на протилежних торцях камери утримання одночасно генерують і прискорюють два плазмоїда по напрямку один до одного на високій швидкості, які потім зіштовхуються в центрі камери утримання і зливаються, формуючи складену ЕКС. При розробці і успішному проведенні одного з найбільш великомасштабних до теперішнього часу експериментів 3 ЕКС звичайний спосіб зіткнення і злиття показав, що дає стійкі високотемпературні ЕКС з великим часом життя і великою щільністю потоку частинок (див., наприклад, М. Віпаеграцчег, Н.У. Зцо, М. Ти52ему5Кі еї а!., Рпувз. Нем. І еїї. 105, 045003 (2010)). 0005) РКС складаються з тора замкнутих силових ліній усередині сепаратриси і кільцевого граничного шару на незамкнутих силових лініях тільки зовні від сепаратриси. Граничний шар сходиться в струмені за межами довжини ЕКС, забезпечуючи природний дивертор. Топологія
ЕКС збігається з топологією плазми дзеркал з оберненим полем. Однак істотне розходження полягає в тому, що плазма ЕКС має В близько 10. Власне слабке внутрішнє магнітне поле забезпечує певну місцеву популяцію частинок, що володіють певною кінетичною енергією, тобто частинок з великими ларморовськими радіусами в порівнянні з малим радіусом ЕКС.
Очевидно, що саме ці сильні кінетичні ефекти вносять щонайменше частковий внесок у загальну стійкість розроблених у минулому і сучасних ЕКС, таких, як одержувані в експерименті із зіткнення і об'єднання. 0006) В експериментах з типовими ЕКС, розробленими в минулому, домінували конвективні втрати, при цьому утримання енергії визначалося в значній мірі переносом частинок. Частинки дифундують із обмеженого сепаратрисою об'єму головним чином радіально, а потім відбуваються їх аксіальні втрати в граничному шарі... Відповідно, утримання ЕКС залежить від властивостей ділянок як замкнутих, так і незамкнутих силових ліній поля. Час дифузії частинок 60 назовні з об'єму, окресленого сепаратрисою, становить тізаг/Ої (ачтс/4, де ге -центральний радіус сепаратриси), а О-характеристичний коефіцієнт дифузії, такої, як О1--12,5ріе, Причому ріе являє собою гірорадиус іонів, оцінюваний у магнітному полі, що прикладається ззовні. В експериментах з ЕКС, розроблених у минулому, час ті утримання частинок граничного шару, по суті, являє собою час осьового пробігу. У сталому стані баланс між радіальними і осьовими втратами частинок дає довжину градієнта щільності в сепаратриси, що становить 6-(О1т)772.
Часові масштаби утримання частинок в РВС становлять ((тіті)"? для ЕКС, розроблених у минулому, які мають суттєву щільність у сепаратриси (див., наприклад, М. ТО5Б2ЕМУЗКІ, Рієїай
Кемегзей Сопіїдигайоп5, Мисі. Ривіоп 28, 2033 (1988)).
І0007| Тому, у світлі вищевикладеного бажано поліпшити підтримку ЕКС, щоб використати
ЕКС, які працюють у сталому стані, за допомогою систем підвищеної енергії як шлях до активної зони реактора для синтезу легких ядер з метою вироблення енергії в майбутньому.
СУТЬ ВИНАХОДУ
І0008) Варіанти здійснення даного винаходу, запропоновані тут, спрямовані на розробку систем і способів, які полегшують формування і підтримку РКС з підвищеними енергіями системи і поліпшеною підтримкою при використанні захоплення багатомасштабного типу.
Відповідно до варіанта здійснення даного винаходу спосіб генерування і підтримки магнітного поля з конфігурацією з оберненим полем (ЕКС) містить формування ЕКС навколо плазми в камері утримання, інжекцію множини нейтральних пучків у плазму ЕКС під деяким кутом до середньої площини камери утримання, відкачку молекули нейтралізованого газу, аккумулируемих у перші і других діаметрально протилежних диверторах, зв'язаних з камерою утримання, за допомогою перших і других захоплювальних вакуумних насосів, розташованих у перших і других диверторах і які містять дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться одна на одну, і відкриту сторону, при цьому перші і другі захоплювальні вакуумні насоси мають коефіцієнт прилипання, який більш ніж у чотири (4) рази перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні перших і других захоплювальних насосів.
І0009| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу щонайменше одна із двох або більше сторін перших і других захоплювальних вакуумних насосів містить матрицю окремих захоплювальних вакуумних насосів.
І0010)| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів містить дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться одна на одну, і відкриту сторону, при цьому кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів має коефіцієнт прилипання, що перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні кожного з окремих захоплювальних вакуумних насосів.
ІЇ0011| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу перші і другі захоплювальні вакуумні насоси мають коефіцієнт прилипання, який в М разів перевищуєй коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні перших і других захоплювальних насосів, причому М задовольняє нерівності 4-М-16.
І0012| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу поверхні плоскої плити і перших і других вакуумних насосів включають у себе осаджену на них плівку титану. 00131) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково включає у себе інжекцію плазм компактних тороїдів (КТ) з першого і другого інжекторів КТ у плазму ЕКС під кутом до середньої площини камери утримання, при цьому перший і другий інжектори КТ діаметрально протилежні, перебуваючи із протилежних сторін від середньої площини камери утримання.
І0014| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу захоплювальний вакуумний насос містить дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться одна на одну, і відкриту сторону, при цьому перші і другі захоплювальні вакуумні насоси мають коефіцієнт прилипання, який більш ніж у чотири (4) рази перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні захоплювального насоса.
І0015) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу щонайменше одна зі згаданих двох або більше сторін перших і других захоплювальних вакуумних насосів містить матрицю окремих захоплювальних вакуумних насосів.
І0016)| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів містить дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться одна на одну, і відкриту сторону, при цьому кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів має коефіцієнт прилипання, що перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні кожного з окремих захоплювальних вакуумних бо захоплення.
І0017| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу перші і другі захоплювальні вакуумні насоси мають коефіцієнт прилипання, який в М разів перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні перших і других захоплювальних насосів, причому М задовольняє нерівності 4-М-16.
І0018)| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу поверхні плоскої плити і перших і других вакуумних насосів включають у себе осаджену на них плівку титану.
І0019| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу запропонована система для генерування і підтримки магнітного поля з конфігурацією з оберненим полем (ЕКС), що містить камеру утримання, першу і другу діаметрально протилежні формуючі ЕКС секції, зв'язані з камерою утримання і які включають в себе перші і другі захоплювальні вакуумні насоси, розташовані в перших і других диверторах і які містять дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться одна на одну, і відкриту сторону, при цьому перші і другі захоплювальні вакуумні насоси мають коефіцієнт прилипання, який більш ніж у чотири (4) рази перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні перших і других захоплювальних насосів, одну або більше з множини плазмових гармат, один або більше зміщувальних електродів і першу і другу дзеркальні пробки, причому згадана множина плазмових гармат включає у себе першу і другу осьові плазмові гармати, функціонально зв'язані з першими і другими диверторами, першою і другою формуючими секціями і камерою утримання, при цьому згаданий один або більше зміщувальних електродів розташовані в межах однієї або більше з камери утримання, першої і другої формувальних секцій і першого і другого зовнішніх диверторів, і при цьому згадані перші і друга дзеркальні пробки розташовані між першою і другою формувальними секціями і першими і другими диверторами, систему гетерування, зв'язану з камерою утримання і першими і другими диверторами, множину інжекторів нейтральних пучків, зв'язаних з камерою утримання і нахилених до середньої площини камери утримання.
І00201| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу система додатково містить перший і другий інжектори компактних тороїдів (КТ), зв'язані з камерою утримання, що розташовуються під кутом до середньої площини камери утримання, при цьому перший і другий інжектори КТ діаметрально протилежні, перебуваючи із протилежних сторін від середньої
Зо площини камери утримання.
І0021| Системи, способи, ознаки і переваги можливих варіантів здійснення будуть або стануть очевидними фахівцеві в даній галузі техніки після вивчення наступних креслень і докладного опису. Передбачається, що всі такі додаткові способи, ознаки і переваги повинні бути укладені в межах цього опису і захищені прикладеною формулою винаходу. Також передбачається, що формула винаходу не обмежується вимогою деталей можливих варіантів здійснення.
КОРОТКИЙ ОПИС КРЕСЛЕНЬ
І0022| Супровідні креслення, які включені в даний опис як його частина, ілюструють переважні в цей час можливі варіанти здійснення і разом із загальним описом, наведеним вище, і докладним описом зразкових варіантів здійснення, наведеним нижче, служать для пояснення принципів даного винаходу і навчання їм. 0023) Фіг. 1 ілюструє утримання частинок у даній системі ЕКС у високоефективному режимі
ЕКС (НЕКС) у порівнянні зі звичайним режимом ЕКС (СЕК) і в порівнянні з іншими звичайними експериментами ЕКС. (0024) Фіг. 2 ілюструє компоненти даної системи ЕКС і магнітну топологію РКС, одержувану в даній системі ЕКС. 0025) Фіг. ЗА ілюструє базову схему розташування даної системи ЕКС на вигляді зверху, включаючи переважне розташування центральної ємності для утримання, що формує секції, диверторів, нейтральних пучків, електродів, плазмових гармат, дзеркальних пробок і інжектора таблеток. (0026) Фіг. ЗВ ілюструє центральну ємність для утримання на вигляді зверху і показує нейтральні пучки, розташовані під прямим кутом до головної осі симетрії центральної ємності для утримання.
І0027| Фіг.ЗзС ілюструє центральну ємність для утримання на вигляді зверху і показує нейтральні пучки, розташовані під меншим кутом, ніж прямий, до головної осі симетрії центральної ємності для утримання і спрямовані з можливістю інжекції частинок до середньої площини центральної ємності для утримання.
І0028| Фіг. 30 і ЗЕ ілюструють вигляд зверху і перспективне зображення, відповідно, базового компонування відповідно до альтернативного варіанта здійснення пропонованої бо системи ЕКС, включаючи переважне розташування центральної ємності для утримання,
формувальної секції, внутрішніх і зовнішніх диверторів, нейтральних пучків, розташованих під меншим кутом, ніж прямий, до головної осі симетрії центральної ємності для утримання, електродів, плазмових гармат, дзеркальних пробок. 0029) Фіг. 4 ілюструє схему компонентів системи імпульсного живлення для формувальних секцій.
І0ОЗОІ Фіг. 5 ілюструє ізометричний вигляд окремого формувального модуля імпульсного живлення.
І0ОЗ1| Фіг. 6 ілюструє ізометричний вигляд вузла формувальних труб.
І0032| Фіг. 7 ілюструє ізометричний вигляд із частковим розрізом системи нейтральних пучків і ключових компонентів.
І0033| Фіг. 8 ілюструє ізометричний вигляд засобів генерування нейтральних пучків на камері утримання. 0034) Фіг. 9 ілюструє ізометричний вигляд із частковим розрізом переважного розташування систем гетерування Ті і Гі. 0035) Фіг. 10 ілюструє ізометричний вигляд із частковим розрізом плазмової гармати, установленої в диверторной камері. Також показані відповідна магнітна дзеркальна пробка і вузол диверторного електрода.
І0ОЗ6) Фіг. 11 ілюструє переважну схему розташування кільцевого зміщувального електрода на осьовому торці камери утримання.
І0037| Фіг. 12 ілюструє еволюцію радіуса потоку, що виключається, у системі ЕКС, отриману виходячи із серії зовнішніх діамагнітних контурів на двох формувальних секціях тета-пінчів з оберненим полем і магнітними зондами, закладених усередині центральної металевої камери утримання. Час виміряється з моменту обертання поля, що синхронізується, у формувальних джерелах, а відстань 7 задається щодо осьової середньої площини машини. 0038) Фіг. 1ЗА, 138, 13С і 130 ілюструють дані від непідтримуваного розряду в типовому не високоефективному режимі в даній системі ЕКС. Показані як функції часу: (фіг. 13А) радіус потоку, що виключається, на середній площині, (фіг. 13В) 6 хорд лінійно-інтегрованої щільності з інтерферометра, що перебуває в середній площині, для визначення вмісту СО», (фіг. 13С) радіальні профілі щільності, інвертовані за Абелем, за даними інтерферометра для визначення
Зо вмісту СО? і (фіг. 130) загальна температура плазми виходячи з балансу тиску. 0039) Фіг. 14 ілюструє осьові профілі потоку, що виключається, у вибрані моменти часу для того самого розряду з даної системи ЕКС, показаної на фіг. 13А, 138, 13С і 130. 0040) Фіг. 15 ілюструє ізометричний вигляд відхильних котушок, установлених зовні камери утримання. 0041) Фіг. 16А, 168, 16сС і 160 ілюструють кореляції часу життя ЕКС і тривалості імпульсів нейтральних пучків, що інжектуються. Як показано, більш тривалі імпульси пучків створюють більше довгоживучі ЕКС. (00421 Фіг. 17А, 178, 17С і 170 ілюструють окремі і сукупні ефекти різних компонентів системи ЕКС на робочі характеристики ЕКС і досягнення високоефективного режиму. 0043) Фіг. 18А, 188, 18С і 180 ілюструють дані з типового високоефективного режиму непідтримуваного розряду в даній системі ЕКС. Показані як функції часу: (фіг. 18А) радіус потоку, що виключається, на середній площині, (фіг.188) 6 хорд лінійно-інтегрованої щільності з інтерферометра, що перебуває в середній площині, для визначення вмісту СО», (фіг. 18С) радіальні профілі щільності, інвертовані за Абелем, за даними інтерферометра для визначення вмісту СО? і (фіг. 180) загальна температура плазми з балансу тиску. (0044) Фіг. 19 ілюструє утримання потоку як функцію температури (Ті) електронів. Це дає графічне подання про знову встановлюваний режим масштабування, що перевершує відомі, для розрядів у високоефективному режимі. 0045) Фіг. 20 ілюструє час життя ЕКС, що відповідає тривалості імпульсу непохилих і похилих нейтральних пучків, що інжектуєтсься. 0046) Фіг. 21А, 218, 21С, 210 і 21Е ілюструють тривалість імпульсу похилого нейтрального пучка і час життя параметрів плазми ЕКС від радіуса плазми, щільності плазми, температури плазми і магнітного потоку, що відповідає тривалості імпульсу похилих нейтральних пучків, що інжектується.
І0047| Фіг. 22А і 228 ілюструють базову схему розташування інжектора компактних тороїдів (КТ).
І0048| Фіг. 23А і 23В ілюструють центральну ємність для утримання, демонструючи встановлений на неї інжектор КТ. 0049) Фіг. 24А і 24В ілюструють базову схему розташування відповідно до альтернативного бо варіанта здійснення інжектора КТ, що має зв'язану з ним дрейфову трубку.
0050) Фіг. 25 ілюструє ізометричний вигляд у перерізі активної зони плазми ЕКС і котушок постійного струму камери утримання, а також шлях заряджених частинок, що течуть із активної зони плазми ЕКС.
І0ОО511| Фіг. 26 ілюструє ізометричний вигляд дивертора.
ЇОО51| На Фіг. 27 представлений графік, що ілюструє щільність нейтрального газу, що накопичується у внутрішніх і зовнішніх диверторах, залежно від часу в процесі експлуатації пропонованої системи ЕКС. 0053) Фіг. 28 ілюструє ізометричний вигляд об'єкта - окремого насоса у вигляді куба з відкритою гранню і плоскою плитою, еквівалентною за розмірами відкритої грані куба. 0054) На фіг. 29 представлений графік, що ілюструє ефективний коефіцієнт прилипання відповідно до квадратного прорізу об'єкта - коробчатого насоса залежно від відношення глибини до ширини коробки при заданому коефіцієнті прилипання для плоских поверхонь, які утворюют коробку. 0055) Фіг. 30 ілюструє ізометричний вигляд захоплювального насоса із самоподібними покритими поверхнями, що містить куб з відкритою стороною, утворений зі сторін, що містять матрицю окремих насосів, що містять куб з відкритою гранню.
І0О56) На Фіг. 31 представлений графік, що ілюструє збільшення ефективного коефіцієнта прилипання для захоплювального насоса із самоподібними покритими поверхнями залежно від дискретних рівнів масштабу самоподоби.
І0О57| Фіг. 32 ілюструє докладний ізометричний вигляд, що демонструє рівні масштабу самоподоби для захоплювального насоса із із покритими поверхнями. 0058) Слід зазначити, що креслення не обов'язково виконані в масштабі і що елементи зі структур або функцій звичайно представлені однаковими посилальними позиціями на всіх кресленнях з метою ілюстрації. Слід також зазначити, що креслення призначені тільки для полегшення опису різних варіантів здійснення, описаних тут. На кресленнях не обов'язково описується кожен аспект пропонованих тут ідей, і креслення не обмежують обсяг домагань відповідно до формули винаходу.
ДОКЛАДНИЙ ОПИС
0059) Варіанти здійснення даного винаходу, запропоновані тут, спрямовані на розробку
Зо систем і способів, які полегшують формування і підтримку ЕКС, надаючи їм чудову стійкість, а також чудове утримання частинок, енергії і потоку. Деякі з варіантів здійснення даного винаходу спрямовані на розробку систем і способів, які полегшують формування і підтримку ЕКС з підвищеними енергіями системи і поліпшену підтримку з використанням вакуумування із захопленням багатомасштабного типу.
ІЇ0О60О| Характерні приклади варіантів здійснення, описуваних тут, приклади яких використовують багато хто із цих додаткових ознак і принципів, як окремо, так і у комбінації, будуть тепер описані докладно з посиланням на прикладені креслення. Цей докладний опис призначений лише для того, щоб пояснити фахівцеві в галузі техніки додаткові деталі для здійснення на практиці кращих аспектів принципів даного винаходу і не призначено для обмеження обсягу домагань винаходу. Тому комбінації ознак і етапів, що розкривають у нижченаведеному докладному описі, можуть і не знадобитися для практичного здійснення винаходу в самому широкому змісті, а замість цього пояснюються, щоб детально описати типові приклади даних принципів.
І00О61) Більше того, різні ознаки типових прикладів і залежних пунктів формули винаходу можуть бути об'єднані способами, які не перераховуються конкретно і у явному вигляді, з метою забезпечення додаткових корисних варіантів здійснення принципів даного винаходу. Крім того, чітко зазначено, що всі ознаки, розкриті в описі і/або формулі винаходу призначені для розкриття окремо і незалежно один від одного з метою первинного розкриття, а також з метою обмеження об'єкта винаходу, що заявляється, незалежно від складів ознак у варіантах здійснення і/або формулі винаходу. Також явно видно, що всі діапазони значень або вказівки груп об'єктів розкривають кожне можливе проміжне значення або кожен проміжний об'єкт із метою первинного розкриття, а також з метою обмеження об'єкта винаходу, що заявляється. (00621) Перш, ніж звернутися до систем і способів, які полегшують підтримку плазми ЕКС з використанням вакуумування із захопленням багатомасштабного типу, обговоримо системи і способи формування і підтримки високоефективних ЕКС, надаючи їм чудову стійкість, а також чудове утримання частинок, енергії і потоку в порівнянні зі звичайними ЕКС. Такі високоефективні РКС забезпечують шлях до цілої множини застосувань, включаючи компактні джерела нейтронів (для виробництва ізотопів медичного призначення, ліквідації ядерних відходів, досліджень матеріалів, нейтронній радіографії і томографії), компактні джерела 60 фотонів (для хімічного виробництва і обробки), системи поділу і збагачення ізотопів, а також активні зони реакторів для синтезу легких ядер з метою вироблення енергії в майбутньому. 0063) Щоб оцінити, чи існує режим утримання в ЕКС, що перевершує відомі, досліджені різні допоміжні системи і робочі режими. Ці зусилля привели до важливих наукових відкриттів і розробки парадигми високоефективної ЕКС, описуваної тут. Відповідно до цієї нової парадигми, дані системи і способи поєднують множину нових ідей і засобів для суттєвого поліпшення утримання за допомогою ЕКС, як ілюструється на фіг. 1, а також забезпечують керування стійкістю без негативних побічних ефектів. Як докладно розглядається нижче, фіг. 1 ілюструє утримання частинок у системі 10 ЕКС, описуваної нижче (див. фіг. 2 і 3), що працює відповідно до високоефективного режиму ЕКС (НРЕ) для формування і з РКС у порівнянні з роботою відповідно до звичайного режиму КС (СК) для формування і підтримки ЕКС і у порівнянні з утриманням частинок відповідно до звичайних режимів формування і підтримки ЕКС, використовуваними в інших експериментах. У даному розкритті будуть наведені загальні і докладно описані нові окремі компоненти системи 10 ЕКС і способи, а також їх сукупні ефекти
Система ЕКС
Вакуумна система
І0064| На фіг. 2 і З ілюструється схематичне зображення даної системи 10 ЕКС. Система 10
ЕКС включає у себе центральну ємність 100 для утримання, оточену двома діаметрально протилежними формувальними секціями 200 тета-пінчів з оберненим полем, і дві камери 300 диверторів, що перебувають поза формувальними секціями 200 і призначені для контролю щільності нейтральних частинок і забруднення домішками. Дана система 10 РКС була побудована для забезпечення надвисокого вакууму і працює при типових початкових тисках 1,333х105 Па (109 тор). Такі вакуумметричні тиски вимагають використовувати стикувальні фланці з подвійною відкачкою між компонентами, що стикуються, металеві ущільнювальні кільця, високочисті внутрішні стінки, а також ретельне початкове кондиціонування поверхонь всіх деталей перед збиранням, таке, як фізичне і хімічне очищення з 24-годинним наступним вакуумним сушінням при 250 С і очищенням тліючим розрядом у водні 0065) Формувальні секції 200 тета-пінчів з оберненим полем являють собою стандартні тета-пінчі з оберненим полем (ЕКТР), хоча і з удосконаленою формувальною системою імпульсного живлення, докладно обговорюваною нижче (див. фіг. 4-6). Кожна формувальна
Зо секція 200 виконана зі стандартних непрозорих кварцових труб промислового класу, які відрізняються двоміліметровою внутрішньою футеровкою з надчистого кварцу. Камера 100 утримання виконана з нержавіючої сталі для забезпечення множини радіальних і тангенціальних отворів; вона також служить як консерватор потоку в часовому масштабі експериментів, описаних нижче, і обмежує швидкі магнітні перехідні процеси. Вакууми створюються і підтримуються в межах системи 10 РКС за допомогою набору безмасляних спіральних форвакуумних насосів, турбомолекулярних насосів і кріонасосів
Магнітна система
І0О66)| На фіг. 2 і З проілюстрована магнітна система 400. На фіг. 2 серед інших ознак ілюструються профілі магнітного потоку і щільності ЕКС (як функції радіальних і осьових координат), властиві ЕКС 450, що виробляється за допомогою системи 10 ЕКС. Ці профілі отримані за допомогою двовимірного чисельного холловского МГД-моделювання з використанням коду, розробленого для моделювання систем і способів, що відповідають системі 10 ЕРРЕС, і добре узгоджуються з вимірюваними експериментальними даними. Як видно на фіг. 2, РКС 450 складається з тора замкнутих силових ліній у внутрішній частині 453 ЕКС 450 усередині сепаратриси 451 і кільцевого граничного шару 456 на незамкнутих силових лініях 452 відразу ж за межами сепаратриси 451. Граничний шар 456 зливається в струмені 454 за межами довжини ЕКС, забезпечуючи природний дивертор
ІЇ0067| Головна магнітна система 410 включає у себе ряд котушок 412, 414 і 416 квазіпостійного струму, які розташовані в конкретних осьових положеннях уздовж компонентів, тобто уздовж камери 100 утримання, формувальних секцій 200 і диверторів 300 системи 10
ЕКС. Котушки 412, 414 і 416 квазіпостійного струму живляться від імпульсних джерел живлення квазіпостійного струму і створюють базові підмагнічувальні поля величиною приблизно 0,1 Тл у камері 100 утримання, формувальних секціях 200 і диверторах 300. На додаток до котушок 412, 414 і 416 квазіпостійного струму головна магнітна система 410 включає у себе дзеркальні котушки 420 квазіпостійного струму (заживлені від імпульсних джерел) між кожним торцем камери 100 утримання і сусідніх формувальних секцій 200. Дзеркальні котушки 420 квазіпостійного струму забезпечують коефіцієнти відбиття магнітного дзеркала аж до 5 і можуть бути незалежно збуджені для контролю форми рівноваги. Крім того, дзеркальні пробки 440 розташовані між кожною з формувальних секцій 200 і диверторами 300. Дзеркальні пробки 440 бо містять компактні дзеркальні котушки 430 квазіпостійного струму і котушки 444 дзеркальної пробки. Дзеркальні котушки 430 квазіпостійного струму включають у себе три котушки 432, 434 і 436 (заживлені від імпульсних джерел), які створюють додаткові спрямовувальні поля для фокусування поверхонь 455 магнітного потоку до каналу 442 малого діаметра, що проходить через котушки 444 дзеркальної пробки. Котушки 444 дзеркальної пробки, які намотані навколо каналу 442 малого діаметра і живляться від І С-схеми імпульсного живлення, створюють сильні поля магнітного дзеркала аж до 4 Тл. Ціль всієї цієї схеми розташування котушок полягає в тому, щоб щільно зв'язувати і направляти поверхні 455 магнітного потоку і струмені 454 плазми, що течуть до торця, у віддалені камери 310 диверторів 300. Нарешті, набір "антен" 460 відхильних котушок (див. Фігуру 15) розташований зовні камери 100 утримання, по два з кожної сторони середньої площини, і заживлений від джерел живлення постійного струму. Антени 460 відхильних котушок можуть бути виконані так, щоб забезпечити квазістатичне магнітне дипольне або квадрупольне поле величиною приблизно 0,01 Тл для керування обертальними нестійкостями і/або керуванням струмом електронів. Антени 460 відхильних котушок можуть гнучко забезпечувати магнітні поля, які або симетричні, або антисиметричні щодо середньої площини машини залежно від напрямку подаваних струмів
Формувальні системи імпульсного живлення
ІЇ0068| Формувальні системи 210 імпульсного живлення працюють за принципом модифікованого тета-пінча. Є дві системи, кожна з яких живить одну з формувальних секцій 200. На фіг. 4-6 ілюструються головні складові блоки і розташування формувальних систем 210.
Формувальна система 210 складається з модульної конструкції імпульсного живлення, що складається з окремих блоків (модулів) 220, кожний з яких збуджує піднабір котушок 232 (підвісок) вузла 230 підвіски, які обмотані навколо формувальних кварцових труб 240. Кожен модуль 220 складається з конденсаторів 221, індукторів 223, швидкодіючих потужнострумових перемикачів 225 і зв'язаних з ними панелей 222 запуску і 224 скидання заряду. Кожна формувальна система 210 запасає ємнісну енергію в діапазоні 350-400 кДж, що забезпечує до
ГВт потужності для формування і прискорення ЕКС. Координована робота цих компонентів досягається за допомогою відомої системи 222 і 224 запуску і керування, що забезпечує синхронізацію між формувальними системами 210 на кожній формувальній секції 200 і мінімізує нестійку синхронізацію перемикання, обмежуючи її десятками наносекунд. Перевагою цієї
Зо модульної конструкції є гнучка робота: ЕКС можуть бути формовані на місці, а потім прискорені і інжектовані (їх статичне формування), або сформовані і прискорені одночасно (- динамічне формування).
Інжектори нейтральних пучків
І0069| Нейтральні пучки 600 атомів розгортають у системі 10 РКС для забезпечення 35 нагрівання і збудження струму, а також для розвитку тиску швидких частинок. Як показано на фіг. ЗА, ЗБ і 8, окремі лінії пучків, що містять системи 610 і 640 інжекторів нейтральних пучків атомів, розташовані навколо центральної камери 100 утримання і інжектують швидкі частинки тангенціально в плазму ЕКС (і перпендикулярно або під кутом, перпендикулярним до головної осі симетрії в центральній ємності 100 для утримання) із прицільним параметром, щоб цільова зона захоплення лежала добре в межах сепаратриси 451 (див. фіг. 2). Кожна система 610 і 640 інжекторів здатна інжектувати нейтральні пучки потужністю аж до 1 МВт у плазму ЕКС з енергіями частинок від 20 до 40 кКЕв. Системи 610 і 640 основані на багатоапертурних джерелах виділення позитивних іонів і використовують геометричне фокусування, інерційне охолодження сіток виділення іонів і диференціальне накачування. Крім використання різних джерел плазми системи 610 і 640 у першу чергу розрізняються за своєю фізичною конструкцією, щоб відповідати своїм відповідним місцям установки, забезпечуючи можливості бічної і верхньої інжекції. Типові компоненти цих інжекторів нейтральних пучків показані, зокрема, на Фігурі 7 для систем 610 бічних інжекторів. Як показано на Фігурі 7, кожна окрема система 610 нейтральних пучків включає у себе джерело 612 ВЧ-плазми на вхідному торці (він заміняється дуговим джерелом у системах 640) з магнітним екраном 614, що закриває цей торець. Оптичне джерело іонів і прискорювальних сіток 616 зв'язані із джерелом 612 плазми, а запірний клапан 620 розташований між оптичним джерелом іонів і прискорювальних сіток 616 і нейтралізатором 622. магніт, Що Відхиляє, 624 і засіб скидання 628 іонів розташовані між нейтралізатором 622 і пристроєм, що націлює, 630 на вихідному торці. Система охолодження містить дві криогенні холодильні машини 634, два криопанели 636 і кожухи 638 І М2. Ця гнучка конструкція дозволяє працювати в широкому діапазоні параметрів ЕКС.
І0070| Альтернативна конфігурація для інжекторів 600 нейтральних пучків атомів полягає в інжекції швидких частинок тангенціально в плазму ЕКС, але з кутом А, меншим 9027, щодо головної осі симетрії в центральній ємності 100 для утримання. Ці типи орієнтації інжекторів 615 бо пучків показані на фіг. ЗС. Крім того, інжектори 615 пучків можуть бути орієнтовані так, щоб інжектори 615 пучків на будь-якій стороні середньої площини центральної ємності 100 для утримання інжектували свої частинки до середньої площини. Нарешті, осьове положення цих систем 600 пучків може бути вибране ближче до середньої площини. Ці альтернативні варіанти здійснення інжекції полегшують більш центрований варіант поповнення, що забезпечує кращий зв'язок пучків і більш високу ефективність захоплення швидких частинок, що інжектуються. Крім того, залежно від кута і осьового положення це розташування інжекторів 615 пучків дозволяє здійснювати більш пряме і незалежне керування осьовим подовженням і іншими характеристиками ЕКС 450. Наприклад, інжекція пучків під невеликим кутом А щодо головної осі симетрії ємності створить плазму ЕКС з більш довгою осьовою довжиною і більш низькою температурою, у той час як вибір більш перпендикулярного кута А приведе до аксіально більш короткої, але більш гарячої плазми. Таким чином кут А інжекції і місце розташування інжекторів 615 пучків можуть бути оптимізовані для різних цілей. Крім того, таке регулювання кута і розташування інжекторів 615 пучків може дозволити пучкам підвищеної енергії (що в цілому більш вигідно для виведення більшої потужності з меншою розбіжністю пучка) бути інжектованими в більш слабкі магнітні поля, ніж у протилежному випадку було б необхідно для захоплення таких пучків. Це зв'язане з тим фактом, що саме азимутальна складова енергії визначає масштаб орбіт швидких іонів (який поступово зменшується, оскільки кут інжекції щодо головної осі симетрії ємності зменшується при постійній енергії пучка). Крім того, похила інжекція до середньої площини з осьовими положеннями пучків поблизу середньої площини поліпшує зв'язок пучок-плазма, навіть коли плазма ЕКС стискується або іншим способом звужується в осьовому напрямку під час періоду інжекції.
І0071| Як показано на фіг. ЗО і ЗЕ, інша альтернативна конфігурація системи 10 ЕКС включає у себе внутрішні дивертори 302 на додаток до інжекторів 615 похилих пучків. Внутрішні дивертори 302 розташовані між формувальними секціями 200 і камерою 100 утримання і виконані і працюють практично аналогічно зовнішнім диверторам 300. Внутрішні дивертори 302, які включають у себе швидкі перемикальні магнітні котушки, по суті, неактивні під час процесу формування, щоб дозволити формувальним РКС проходити через внутрішні дивертори 302, коли формувальні ЕКС поступально переміщаються до середньої площини камери 100 утримання. Після проходження формувальних ЕКС через внутрішні дивертори 302 у камеру 100
Зо утримання внутрішні дивертори активуються для роботи, по суті, аналогічно зовнішнім диверторам і ізолюють камеру 100 утримання від формувальних секцій 200.
Інжектор таблеток
І0072| Щоб забезпечити засіб для інжекції нових частинок і кращого контролю запасу частинок ЕКС, в системі 10 ЕКС використовується 12-тиствольний інжектор 700 таблеток (см., наприклад, І. Міпуаг еї аїЇ, "Реїеї Іпіесіот5 ЮОемеІорей аг РЕСІМ тої ОЕТ, ТАЕ, апа НіІ-2А, "
Ргосеєдіпд5 ої Те 261п Ризіоп Зсіепсе апа Тесппоїоду Зутровзішт, 09/27 10 10/01 (2010)). Фіг. З ілюструє схему розташування інжектора 700 таблеток в системі 10 РКС. Циліндричні таблетки (0-1 мм, І -1-2 мм) інжектуються в ЕКС зі швидкістю в діапазоні 150-250 км/с. Кожна окрема таблетка містить приблизно 5х10"? атомів водню, що зіставно із запасом частинок ЕКС.
Системи гетерування 0073) Добре відомо, що нейтральний галоїдний газ є серйозною проблемою у всіх системах утримання. Процеси обміну зарядами і рециркуляції (вивільнення холодного домішкового матеріалу зі стінки) можуть чинити пагубний вплив на утримання енергії і частинок. Крім того, будь-яка значна щільність нейтрального газу на границі або поблизу неї не приведе до швидких втрат або щонайменше значного скорочення часу життя частинок, що інжектуються, великої орбіти (високої енергії) (термін "велика орбіта" належить до частинок, що мають орбіти в масштабі топології РЕКС або щонайменше радіуси орбіти, що набагато перевищують масштаб характерної довжини градієнта магнітного поля) - факт, що завдає шкоди всім енергетичним застосуванням плазми, включаючи синтез через додаткове нагрівання пучка.
І0074| Кондиціонування поверхонь є засобом, за допомогою якого негативний вплив нейтрального газу і домішок можна контролювати або зменшити в системі для утримання. Із цією метою система 10 ЕКС, представлена тут, використовує системи 810 і 820 осадження титану і літію, які покривають повернені до плазми поверхні камери (або ємності) для утримання і диверторів 300 і 302 плівками (товщиною в десятки мікрометрів) з Ті і/або Її. Ці покриття одержують методами осадження з парової фази. Тверді їі або Ті випаровують і/або сублімують і напиляються на прилеглі поверхні для формування покриттів. Джерелами є атомні печі зі спрямовувальними соплами 822 (у випадку ії) або нагріті сфери із твердої речовини зі спрямовувальним бандажем 812 (у випадку Ті). Системи для випаровування ії, як правило, працюють у безперервному режимі, у той час як субліматори Ті в більшості випадків працюють бо періодично між роботою із плазмою. Робочі температури цих систем перевищують 600 "С для одержання великих швидкостей осадження. Для забезпечення гарного покриття стінок необхідна множина стратегічно розташованих систем випаровування/сублімації. На фіг. 9 докладно ілюструється переважне розташування систем 810 і 820 гетерування і осадження в системі 10 ЕКС. Покриття діють як гетерувальні поверхні і ефективно відкачують атомні і молекулярні гідрогенні види (Н і 0). Ці покриття також зменшують інші типові домішки, такі, як вуглець і кисень, до незначних рівнів.
Дзеркальні пробки 0075) Як зазначено вище, у системі 10 РКС застосовуються набори дзеркальних котушок 420, 430 і 444, показаних на фіг. 2 і 3. Перший набір дзеркальних котушок 420 перебуває на двох осьових торцях камери 100 утримання і незалежно збуджується від утримувальної, формувальної і диверторної котушок 412, 414 і 416 головної магнітної системи 410. Перший набір дзеркальних котушок 420 сприяє головним чином керуванню і осьовому розташуванню
ЕКС 450 під час злиття і забезпечує керування формою рівноваги під час підтримки. Перший набір 420 дзеркальних котушок створює номінально більш сильні магнітні поля (приблизно 0,4- 0,5 Тл), ніж центральне поле утримання, створюване центральними утримувальними котушками 412. Другий набір дзеркальних котушок 430, що включає у себе три компактні дзеркальні котушки 432, 434 і 436 квазіпостійного струму, перебуває між формувальними секціями 200 і диверторами 300 і збуджується за допомогою загального імпульсного джерела живлення.
Дзеркальні котушки 432, 434 і 436 разом з більш компактними імпульсними дзеркальними пробочними котушками 444 (що живляться за допомогою ємнісного джерела живлення) і фізичним звуженням 442 утворюють дзеркальні пробки 440, які забезпечують вузький канал з низькою газопровідністю з дуже сильними магнітними полями (від 2 до 4 Тл при часах наростання приблизно 10-20 мс). Найбільш компактні імпульсні дзеркальні котушки 444 мають компактні радіальні розміри, внутрішній діаметр 20 см і аналогічну довжину в порівнянні із внутрішнім діаметром порядку метра і плоскою конструкцією утримувальних котушок 412, 414 і 416. Призначення дзеркальних пробок 440 багатозначне: (1) котушки 432, 434, 436 і 444 щільно ув'язують і спрямовують поверхні 452 магнітного потоку і струмені 454 плазми, що течуть до кінця, у віддалені диверторні камери 300. Це гарантує, що вихідні частинки досягають диверторів 300 належним чином, і що існують поверхні 455 безперервного потоку, які
Зо простежуються від ділянки 452 незамкнутих силових ліній центральної ЕКС 450 на всьому шляху до диверторів 300. (2) Фізичні звуження 442 у системі 10 ЕКС, через які котушки 432, 434, 436 і 444 забезпечують проходження поверхонь 452 магнітного потоку і струменів 454 плазми, створюють перешкоду для потоку нейтрального газу із плазмових гармат 350, які перебувають у диверторах 300. Аналогічним чином звуження 442 запобігають зворотній течії газу від формувальних секцій 200 до диверторів 300, тим самим зменшуючи кількість нейтральних частинок, які необхідно вводити у всю систему 10 ЕКС, коли починається запуск ЕКС. (3) Строго осьові дзеркала, створювані котушками 432, 434, 436 і 444, зменшують осьові втрати частинок і, тим самим, зменшують паралельну дифузію частинок на незамкнутих силових лініях.
І0076| В альтернативній конфігурації, показаній на фіг. ЗО і ЗЕ, набір низкопрофільних обтискних котушок 421 являє собою положення між внутрішніми диверторами 302 і формувальними секціями 200.
Осьові плазмові гармати
І0077| Потоки плазми з гармат 350, установлених у камерах 310 диверторів 300, призначені для поліпшення робочих характеристик стійкості і нейтральних пучків. Гармати 350 установлені по осі усередині камер 310 диверторів 300, як проілюстровано на фіг. З їі 10, і створюють плазму, що тече уздовж незамкнутих ліній 452 потоку в диверторі 300 ії у напрямку до центра камери 100 утримання. Гармати 350 працюють при високощільному газовому розряді в каналі з пакета шайб і призначені для генерації декількох кіллампер повністю іонізованої плазми протягом 5-10 мс. Гармати 350 включать у себе імпульсну магнітну котушку, яка узгоджує вихідний потік плазми з необхідним розміром плазми в камері 100 утримання. Технічні параметри гармат 350 характеризуються каналом, що має зовнішній діаметр від 5 до 13 см і внутрішній діаметр аж до приблизно 10 см, і забезпечують струм розряду 10-15 кА при 400-600
В з внутрішнім магнітним полем гармати від 0,5 до 2,3 Тл. 0078) Потоки плазми гармат можуть проникати в магнітні поля дзеркальних пробок 440 і втікати у формувальну секцію 200 і камеру 100 утримання. Ефективність переносу плазми через дзеркальну пробку 440 збільшується зі зменшенням відстані між гарматою 350 і пробкою 440 і за рахунок розширення і укорочення пробки 440. У прийнятних умовах кожна гармата 350 може доставляти приблизно 1022 протонів за секунду через дзеркальні пробки 440 від 2 до 4 Тл із високими температурами іонів і електронів приблизно від 150 до 300 еВ і приблизно від 40 до бо 50 еВ відповідно. Гармати 350 забезпечують значне поповнення граничного шару 456 ЕРЕС і поліпшене загальне утримання частинок ЕКС.
Ї0079| Щоб додатково збільшити щільність плазми, можна було б використати газосепаратор, щоб вдути додатковий газ у потік плазми з гармат 350. Цей метод дозволяє в кілька разів збільшити щільність плазми, що інжектується. У системі 10 РКС газосепаратор, встановлений у системі 10 КІП на поверненій до диверторів 300 стороні дзеркальних пробок 440, поліпшує поповнення граничного шару 456 ЕКС, формування ЕКС 450 і лінійне зв'язування плазми.
І0080| Задаючись всіма регульованими параметрами, розглянутими вище, а також з огляду на можливість роботи лише з однією або двома гарматами, легко зрозуміти, що доступний широкий спектр робочих режимів.
Зміщувальні електроди
І0081| Електричне зміщення незамкнутих поверхонь потоку може забезпечити радіальні потенціали, які приводять до азимутального руху ЕхВ, що забезпечує механізм керування, аналогічний повороту ручки, для керування обертанням плазми з незамкнутими силовими лініями, а також фактичної активної зони 450 РКС через зсув швидкості. Для виконання цього керування система 10 ЕКС використовує різні електроди, стратегічно розміщені в різних частинах машини. Фіг.3 зображує зміщувальні електроди, розташовані в переважних місцях у межах системи 10 ЕВС.
І0082| У принципі, існує 4 класи електродів: (1) точкові електроди 905 у камері 100 утримання, які контактують із окремими незамкнутими силовими лініями 452 на границі ЕКС 450 для забезпечення локальної зарядки, (2) кільцеві електроди 900 між камерою 100 утримання і формувальними секціями 200 для зарядки далеких граничних шарів 456 за азимутально- симетричною схемою, (3) пакети концентричних електродів 910 у диверторах 300 для зарядки численних концентричних шарів 455 потоку (внаслідок чого вибір шарів керований за допомогою регулювання котушок 416 для регулювання магнітного поля диверторів, щоб завершувати необхідні шари 456 потоку на відповідних електродах 910) і, нарешті, (4) аноди 920 (див. фіг.10) самих плазмових гармат 350 (які перехоплюють внутрішні незамкнуті поверхні 455 потоку поблизу сепаратриси ЕКС 450). Фіг. 10 ї 11 показують деякі типові конструкції для деяких з них.
Зо 0083) У всіх випадках ці електроди збуджуються імпульсними джерелами живлення або джерелами живлення постійного струму при напругах аж до приблизно 800 В. Залежно від розміру електрода і того, які поверхні потоку перетинаються, струми можуть споживатися в кілоамперному діапазоні.
Непідтримувана робота системи ЕКС - звичайний режим
І0084| Стандартне формування плазми в системі 10 РЕКС відповідає добре розробленому методу тета-пінча з оберненим полем. Типовий процес запуску ЕКС починається збудженням котушок 412, 414, 416, 420, 432, 434 і 436 квазіпостійного струму для роботи в сталому стані.
Потім КЕТР-ланцюги імпульсного живлення формувальних систем 210 імпульсного живлення збуджують котушки 232 імпульсного живлення магнітного поля, що швидко обертається, для створення тимчасового оберненого зміщення величиною приблизно -0,05 Тл у формувальних секціях 200. У цей момент задана кількість нейтрального газу при 9-20 рзі (фунт/кв. дюйм) інжектується у два формувальні об'єми, обумовлених камерами 240 кварцових труб (північної і південної) формувальних секцій 200 через набір азимутально орієнтованих продувних клапанів на фланцях, розташованих на зовнішніх торцях формувальних секцій 200. Потім невелика кількість («сотні кілогерців) ВЧ-поля генерується від набору антен на поверхні кварцових труб 240 для створення попередньої іонізації у формі локальних ділянок іонізації запалів у межах стовпів нейтрального газу. За цим йде застосування тета-кільцевої модуляції на струмі, що збуджує котушки 232 імпульсного живлення магнітного поля, що швидко обертається, що приводить до більш глобальної попередньої іонізації стовпів газу. Нарешті, основні банки імпульсного живлення формувальних систем 210 імпульсного живлення запалюються для збудження котушок 232 імпульсного магнітного поля, що швидко обертається, для створення прямозміщеного поля величиною аж до 0,4 Тл. Цей етап може бути секвенований за часом так, щоб прямозміщене поле генерувалося рівномірно по всій довжині формувальних труб 240 (статичне формування), або так, щоб послідовна перистальтична модуляція поля досягалася уздовж осі формувальних труб 240 (динамічне формування). 0085) У всьому цьому процесі формування фактичне обертання поля в плазмі відбувається швидко, у межах приблизно 5 мкс. Мультигігаватна імпульсна потужність, що подається в плазму, що формується, легко створює гарячі ЕКС, які потім видаляються з формувальних секцій 200 за допомогою застосування або послідовної в часі модуляції магнітного поля в бо передньому півпросторі (магнітна перистальтика), або тимчасово збільшених струмів в останніх котушках наборів 232 котушок поблизу осьових зовнішніх торців формувальних труб 210 (формування осьового градієнта магнітного поля, що спрямований аксіально до камери 100 утримання). Дві (північна і південна) формувальні ЕКС, сформовані в такий спосіб і прискорені, потім розширюються в камеру 100 утримання більшого діаметра, де котушки 412 квазіпостійного струму створюють прямозміщене поле для керування радіальним розширенням і забезпечення рівноважного зовнішнього магнітного потоку. (0086) Як тільки північна і південна формувальні ЕКС прибувають в околицю середньої площини камери 100 утримання, ці ЕКС зіштовхуються. Під час зіткнення осьові кінетичні енергії північної і південної формувальних ЕКС здебільшого термалізуються, оскільки ЕКС в остаточному підсумку зливаються в одну ЕКС 450. Великий набір засобів діагностики плазми доступний у камері 100 утримання для вивчення рівноваг ЕКС 450. Типові робочі умови в системі 10 Р2С створюють складені РКС з радіусами сепаратриси приблизно 0,4 м і осьовою довжиною приблизно З м. Додатковими характеристиками є зовнішні магнітні поля величиною приблизно 0,1 Тл, щільності плазми приблизно 5х10"? м і загальна температура плазми аж до 1 кКЕв. Без якої-небудь підтримки, тобто без нагрівання і/або збудження струму за допомогою інжекції нейтральних пучків або інших допоміжних засобів, час життя цих РКС обмежується приблизно 1 мс, власним характерним часом спаду конфігурації.
Експериментальні дані непідтримуваної роботи - звичайний режим
І0087| Фіг. 12 показує типову часову еволюцію радіуса потока, що виключається, ГдФ, ЯКИЙ апроксимує радіус сепаратриси г, чтоби проілюструвати динаміку процесу злиття тета-пінчів
ЕКС 450. Два (піднічний і південний) окремих плазмоїда створюються одночасно і потім прискорюються з відповідних формувальних секцій 200 із надзвуковою швидкістю, м2-250 км/с і зіштовхуються поблизу середньої площини при 7-0. Під час зіткнення плазмоїди стискуються аксіально з наступним швидким радіальним і осьовим розширенням перед остаточним злиттям з утворенням РКС 450. Як радіальна, так і осьова динаміка злиття ЕКС 450 підтверджується докладними вимірюваннями профілю щільності і томографією на основі болометра.
І0О88)| Дані з характерного непідтримуваного розряду системи 10 ЕКС показані як функції часу на фіг. 13А, 138, 13С і 130. ЕКС ініціюється в момент 1-0. Радіус потоку, що виключається, у середній уздовж осі площини машини показаний на фіг. 13А. Ці дані отримані з масиву
Зо магнітних зондів, розташованих безпосередньо усередині стінки камери утримання з нержавіючої сталі, які вимірюють осьове магнітне поле. Сталева стінка є гарним консерватором потоку на часових масштабах цього розряду.
І0089| На фіг. 13В показані лінійно інтегровані щільності, отримані від б-ти хордового інтерферометра для визначення вмісту СОг/Не-Ме, розташованого при 7-0. З урахуванням вертикального (у) зміщення РКС, вимірюваного за допомогою болометричної томографії, інверсія за Абелем дає профілі щільності згідно з фіг. 13С. Після деякого осьового і радіального коливання протягом перших 0,1 мс ЕКС установлюється з порожнистим профілем щільності.
Цей профіль досить плоский, з істотною щільністю на осі, як того вимагають рівноваги типових двовимірних ЕКС.
І0090| На фіг. 13(О0) показана загальна температура плазми, що виведена виходячи з балансу тиску і повністю узгоджується з томсоновським розсіюванням і спектроскопічними вимірюваннями. 0091) Аналіз усього масиву потоку, що виключається, указує на те, що форма сепаратриси
ЕКС (наближена осьовими профілями потоку, що виключається) поступово еволюціонує від кругової до еліптичної. Ця еволюція, показана на фіг. 14, узгоджується з поступовим магнітним перезамиканням з переходом від двох до однієї ЕКС. Дійсно, грубі оцінки дозволяють припускати, що в цей конкретний момент приблизно 1095 магнітних потоків двох первинних ЕКС перезамикаються під час зіткнення.
І0092| Довжина ЕРЕС безперервно скорочується від З до приблизно 1 м протягом часу життя
ЕКС. Це скорочення, видне на фіг. 14, дозволяє припускати, що при утриманні ЕКС домінують головним чином конвективні втрати енергії. Оскільки тиск плазми усередині сепаратриси зменшується швидше, ніж зовнішній магнітний тиск, натяг силових ліній магнітного поля в торцевих ділянках стискає ЕКС аксіально, відновлюючи осьову і радіальну рівновагу. Для розряду, розглянутого 13 і 14, магнітний потік, запас частинок і теплова енергія (приблизно 10
МВт, 7х1019 частинок і 7 кДж відповідно) ЕЕС зменшуються приблизно на порядок за величиною в першу мілісекунду, коли виявляється зникнення рівноваги ЕКС.
Підтримувана робота - високоефективний режим 00931 На фіг. 12-14 наведені приклади, що характеризують руйнування ЕКС без якої-небудь підтримки. Разом з тим, у системі 10 РКС застосовуються кілька методів для подальшого бо поліпшення утримання ЕКС (внутрішньої активної зони і граничного шару) для досягнення високоефективного режиму і підтримки конфігурації.
Нейтральні пучки
Ї0094| Спочатку швидкі (Н) нейтрали інжектуються перпендикулярно В: у пучках з восьми інжекторів 600 нейтральних пучків. Пучки швидких нейтралів інжектуються з моменту, коли північна і південна формувальні ЕКС зливаються в камері 100 утримання в одну ЕКС 450.
Швидкі іони, створювані в основному перезарядженням, мають бетатронні орбіти (з первинними радіусами на масштабі з ЕКС або щонайменше набагато більшими, ніж масштаб характерної довжини градієнта магнітного поля), які збільшують азимутальний струм РКС 450. Після деякої частинки розряду (після 0,5 до 0,8 мс на знімку) досить велика популяція швидких іонів значно поліпшує властивості стабільності і утримання внутрішніх РКС (див., наприклад, М. МУ.
Віпаегфбацег апа М. КовіокКег, Ріазта Рух. 56, раї 3, 451 (1996)). Крім того, з погляду підтримки пучки від інжекторів 600 нейтральних пучків також є основним засобом для збудження струму і нагрівання плазми ЕКС.
І0095| У режимі плазми системи 10 ЕКС швидкі іони сповільнюються в основному на електронах плазми. Протягом ранньої частини розряду типові усереднені по орбіті часи вповільнення швидких іонів становлять 0,3-0,5 мс, що приводить до значного нагрівання ЕКС, насамперед електронами. Швидкі іони роблять більші радіальні екскурси назовні від сепаратриси, оскільки внутрішнє магнітне поле ЕКС за своєю природою є слабким (приблизно 0,03 Тл у середньому для зовнішнього осьового поля в 0,1 Тл). Швидкі іони були б уразливі до втрат перезаряджання, якби щільність нейтрального газу була занадто високою зовні від сепаратриси. Таким чином, гетерування стінок і інші методи (такі як плазмова гармата 350 і дзеркальні пробки 440, які вносять вклад, крім іншого, у керування газом), розгорнуті в системі 10 РКС, як правило, мінімізують граничні нейтрали і забезпечують необхідне наростання струму швидких іонів.
Інжекція таблеток 0096) Коли значна популяція швидких іонів виростає усередині ЕКС 450 з більш високими температурами електронів і більше тривалими часами життя ЕКС, заморожені таблетки Н або Ю інжектуються в РКС 450 з інжектора 700 таблеток для підтримки запасу частинок ЕКС в ЕКС 450. Очікувані часові рамки абляції є досить короткими, щоб забезпечити значне джерело
Зо частинок ЕКС. Ця швидкість також може бути збільшена за рахунок збільшення площі поверхні частини, що інжектується, шляхом розбивки окремої таблетки на більш дрібні фрагменти під час знаходження в циліндрах або інжекційних трубах інжектора 700 таблеток і перед входом у камеру 100 утримання, етап, що може бути здійснений шляхом збільшення тертя між таблеткою і стінками інжекційної труби за допомогою затягування радіуса вигину останнього сегмента інжекційної труби прямо перед входом у камеру 100 утримання. За рахунок зміни послідовності і швидкості запалювання 12 циліндрів (інжекційних труб), а також фрагментації, можна настроїти систему 700 інжекції таблеток для забезпечення саме необхідного рівня підтримки запасу частинок. У свою чергу, це допомагає підтримувати внутрішній кінетичний тиск в РКС 450 і режим, що самопідтримується, і час життя ЕКСКоли значна популяція швидких іонів виростає усередині ЕКС 450 з більш високими температурами електронів і більше тривалими часами життя ЕКС, заморожені таблетки Н або 0 інжектуються в ЕКС 450 з інжектора 700 таблеток для підтримки запасу частинок ЕКС в РКС 450. Очікувані часові рамки абляції є досить короткими, щоб забезпечити значне джерело частинок ЕКС. Ця швидкість також може бути збільшена за рахунок збільшення площі поверхні частини, що інжектується, шляхом розбивки окремої таблетки на більш дрібні фрагменти під час знаходження в циліндрах або інжекційних трубах інжектора 700 таблеток і перед входом у камеру 100 утримання, етап, що може бути здійснений шляхом збільшення тертя між таблеткою і стінками інжекційної труби за допомогою затягування радіуса вигину останнього сегмента інжекційної труби прямо перед входом у камеру 100 утримання. За рахунок зміни послідовності і швидкості запалювання 12 циліндрів (інжекційних труб), а також фрагментації, можна настроїти систему 700 інжекції таблеток для забезпечення саме необхідного рівня підтримки запасу частинок. У свою чергу, це допомагає підтримувати внутрішній кінетичний тиск в ЕКС 450 і режим, що самопідтримується, і час життя ЕКС 450.
І0097| Як тільки піддані абляції атоми зіштовхуються зі значною плазмою в ЕКС 450, вони стають повністю іонізованими. Компонент холодної плазми, що одержується у результаті, потім шляхом зіткнень нагрівається власною плазмою ЕКС. Енергія, необхідна для підтримки необхідної температури ЕКС, в остаточному підсумку поставляється інжекторами 600 пучків. У цьому змісті інжектори 700 таблеток разом з інжекторами 600 нейтральних пучків утворюють систему, що підтримує сталий стан і підтримує ЕКС 450.
Інжектор КТ бо (0098) Як альтернатива інжектору таблеток пропонується інжектор компактного тороїду (КТ),
в основному, для поповнення плазми конфігурацій з оберненим полем (ЕКС). Інжектор 720 СТ містить намагнічену коаксіальну плазмову гармату (НКПГ), що, як показано на фіг. 22А і 228, включає у себе коаксіальні циліндричні внутрішній і зовнішній електроди 722 і 724, котушку 726 зміщення, розташовану усередині внутрішнього електрода, і електричний розрив 728 на кінці, протилежному випуску інжектора 720 КТ. Газ інжектується через отвір 730 для інжекції газу в простір між внутрішнім і зовнішнім електродами 722 і 724, і плазма типу сферомака генерується з нього шляхом розряду і виштовхується з гармати силою Лоренца. Як показано на фіг. 23А і 238, пара інжекторів 720 КТ зв'язані з ємністю 100 для утримання поблизу і по протилежних сторонах середньої площини ємності 100 для інжекції СТ у центральну плазму ЕКС у межах посудини 100 для утримання. Випускний кінець інжекторів 720 КТ спрямований до середньої площини ємності 100 для утримання під кутом до поздовжньої осі ємності 100 для утримання, аналогічно інжекторам 615 нейтральних пучків.
І0099)| В альтернативному варіанті здійснення інжектор 720 КТ, як показано на фіг. 24А і 248, включає у себе дрейфову трубу 740, що містить витягнуту циліндричну трубу, зв'язану з випускним кінцем інжектора 720 КТ. Як показано, дрейфова труба 740 включає у себе котушки 1742 дрейфової труби, розташовані навколо і аксіально рознесені уздовж труби. Уздовж довжини труби зображена множина діагностичних отворів 744.
І00100)| Переваги інжектора 720 КТ: (1) контроль і регульованість запасу частинок на КТ, що інжектується; (2) осаджується тепла плазма (замість кріогенних таблеток); (3) система може працювати у режимі частоти повторення, щоб забезпечити безперервне поповнення; (4) система також може відновлювати деякий магнітний потік, оскільки КТ, що інжектуються, несуть убудоване магнітне поле. У варіанті здійснення для експериментального використання внутрішній діаметр зовнішнього електрода становить 83,1 мм, а зовнішній діаметр внутрішнього електрода становить 54,0 мм. Поверхня внутрішнього електрода 722 переважно покрита вольфрамом, щоб зменшити домішки, що виходять із електрода 722. Як показано, котушка 726 зміщення встановлена усередині внутрішнього електрода722.
І00101| У недавніх експериментах була досягнута надзвукова швидкість поступального переміщення КТ аж до -100 км/с. Іншими типовими параметрами плазми є наступні: щільність електронів їох102! м, температура електронів -30-50 еВ і запас частинок -0,5-1,0х1079,
Високий кінетичний тиск КТ дозволяє плазмі, що інжектується, проникати глибоко в ЕКС і осаджувати частинки усередині сепаратриси. У недавніх експериментах поповнення частинок
ЕКС дало такий результат, що -10-20 95 запасу частинок ЕКС, забезпечуваного інжекторами КТ, що успішно демонструють поповнення, можуть бути легко проведені без збудження плазми
ЕВС.
Відхильні котушки 00102) Для досягнення збудження струму в сталому стані і підтримки необхідного струму іонів бажано запобігати або значно зменшувати спрямовані вгору спіни електронів, обумовлені силою тертя між електронами і іонами (що є результатом переносу імпульсу іонно-електронного зіткнення). Система 10 РКС використовує інноваційну методику для забезпечення електронного розриву через прикладані ззовні статичне магнітне дипольне або квадрупольне поле. Це досягається за допомогою зовнішніх відхильних котушок 460, зображених на фіг. 15. Поперечно прикладене радіальне магнітне поле від відхильних котушок 460 індукує осьове електричне поле в обертовій плазмі ЕКС. Результуючий осьовий струм електронів взаємодіє з радіальним магнітним полем, створюючи азимутальний розривний вплив на електрони Ре--ОМев«|Ве». Для типових умов у системі 10 РКС необхідне прикладане магнітне дипольне (або квадрупольне) поле усередині плазми повинне бути лише порядку 0,001 Тл для забезпечення адекватного електронного розриву. Відповідне зовнішнє поле величиною приблизно 0,015 Тл є досить слабким, щоб викликати помітні втрати швидких частинок або іншим способом негативно впливати на утримання. Фактично, прикладане магнітне дипольне (або квадрупольне) поле сприяє придушенню нестійкостей. У комбінації з тангенціальною інжекцією нейтральних пучків і осьовою інжекцією плазми відхильної котушки 460 забезпечують додатковий рівень контролю відносно підтримки струму і стійкості.
Дзеркальні пробки 00103) Конструкція імпульсних котушок 444 у межах дзеркальних пробок 440 допускає локальну генерацію сильних магнітних полів (від 2 до 4 Тл) за допомогою невеликої (приблизно 100 кДж) ємнісної енергії. Для формування магнітних полів, типових для пропонованої експлуатації системи 10 ЕКС, всі силові лінії в межах формувального об'єму проходять через звуження 442 біля дзеркальних пробок 440, як це передбачається силовими лініями магнітного поля на фіг. 2, і контакт плазми зі стінкою не відбувається. Крім того, дзеркальні пробки 440 бо разом з диверторними магнітами 416 квазіпостійного струму можуть бути відрегульовані так,
щоб направляти силові лінії на диверторні електроди 910 або виставляти силові лінії в конфігурації торцевих виступів (не показано). Остання підвищує стійкість і придушує паралельну теплопровідність електронів. 00104) Дзеркальні пробки 440 самі по собі також сприяють контролю нейтрального газу.
Дзеркальні пробки 440 дозволяють краще використати дейтерієвий газ, що вдувається у кварцові труби під час формування ЕКС, оскільки потік газу, що тече назад у дивертори 300, значно зменшується завдяки малій здатності пробок пропускати газ (такій малій, як 500 л/с).
Більша частина залишкового газу, що продувається усередині формувальних труб 210, швидко іонізується. Крім того, високощільна плазма, що протікає через дзеркальні пробки 440, забезпечує ефективну іонізацію нейтралів, а отже - і ефективний газовий бар'єр. У результаті більшість нейтралів, рециркульованих у диверторах 300 із граничного шару 456 ЕКС, не повертається в камеру 100 утримання. Крім того, нейтрали, зв'язані з роботою плазмових гармат 350 (як обговорюється нижче), будуть в основному втримуватися в диверторах 300.
І00105)| Нарешті, дзеркальні пробки 440 мають тенденцію поліпшувати утримання граничного шару ЕКС. З коефіцієнтами відбиття дзеркала (пробка/магнітні поля утримання) у діапазоні від 20 до 40 і при довжині 15 м між північними і південної дзеркальними пробками 440, час ті утримання частинок граничного шару збільшується на порядок величини. Покращення ті легко збільшує утримання частинок ЕКС.
ІЇ00106| Припускаючи, що обумовлювані радіальною дифузією (0) втрати частинок із обмежуваного сепаратрисою об'єму 453 зрівноважені осьовими втратами (ті) із граничного шару 456, одержуємо (2тптеїЇс)(Юпс/0) - (21псісб)(Пс/ті), звідки виходить, що довжину градієнта щільності в сепаратриси можна переписати у вигляді б-(Оти)2. Тут ге, Їс і Пс - це радіус сепаратриси, довжина сепаратриси и щільність в сепаратриси, відповідно. Час утримання частинок в ЕВС становить тм - Ге сп» (пої с (Опс/6)1 - («п»/пе)(тіті) 1/2, где тІ-аг/О і при цьому а-їс/4. Фізично, збільшення ту веде до збільшеного б (зменшеного градієнта щільності і параметру дрейфа в сепаратриси), а значить - і до зменшених втрат частинок в ЕКС. Загальне збільшення параметра утримання частинок РКС звичайно трохи менше, ніж квадратичне, оскільки пс збільшується разом з ті.
І00107| Значне покращення ту також вимагає того, щоб граничний шар 456 залишався за
Зо великим рахунком стійким (тобто щоб при п-1 не було жолобкової, рукавної або іншої МГД- нестійкості, характерної для відкритих систем). Використання плазмових гармат 350 забезпечує цю кращу переважну нестійкість. У цьому змісті дзеркальні пробки 440 і плазмова гармата 350 утворюють ефективну систему контролю границі.
Плазмові гармати
ІЇ00108| Плазмові гармати 350 поліпшують стійкість вихідних струменів 454 ЕКС за допомогою лінійного зв'язування. Плазми гармат, що випускаються із плазмових гармат 350, генеруються без азимутального моменту імпульсу, що виявляється корисним для боротьби з обертальними нестійкостями ЕКС. Таким чином, гармати 350 є ефективним засобом для керування стійкістю РКС без необхідності використання більш старого методу квадрупольної стабілізації. У результаті, плазмові гармати 350 дозволяють використати переваги сприятливих ефектів швидких частинок або одержати доступ до режиму вдосконаленої гібридної кінетичної
ЕКС, як викладено в цьому винаході. Отже, плазмові гармати 350 дозволяють системі 10 ЕКС працювати зі струмами відхильних котушок, придатними саме для електронного розриву, але нижче порога, що викликав би нестійкість ЕС і/або привів би до інтенсивної дифузії швидких частинок. 00109) Як згадувалося в розглянутому вище розділі "Дзеркальні пробки", якщо би можна було значно збільшити т/у, то подавана із гармат плазма була би зіставною із швидкістю (--1022/с) втрат частинок в граничному шарі. Час життя плазми, що одержується з гармат, в системі 10
ЕКС перебуває в мілісекундному діапазоні. Справді, розглянемо плазму з гармат, що має щільність Пе-10!3 см і температуру іонів приблизно 200 еВ, що утримується між торцевими дзеркальними пробками 440. Довжина ГІ. захоплення і коефіцієнт К відбиття дзеркала становить приблизно 15 м їі 20, відповідно. Середня довжина вільного пробігу іонів через кулонівське зіткнення становить Аїибх103 см, а оскільки АпА/А-Ї, іони утримуються в газодинамічному режимі. Час утримання плазми в цьому режимі становить тТсет - НІ /2Ме-2 мс, де Ме - швидкість іонного звуку. Для порівняння, класичний час утримання іонів для цих параметрів плазми становив би тех0,5ті(ІпА-(Іп8)05)-0,7 мс. Аномальна поперечна дифузія може, в принципі, скоротити час утримання плазми. Однак якщо припустити, що в системі 10 ЕКС має місто швидкість дифузії Бома, то оціночний час поперечного утримання для плазми з гармат становить ті»Тсет-2 мс. Отже, гармати забезпечили б значне поповнення граничного шару 456 бо ЕКС С і покращене загальне утримання частинок ЕКС.
00110) Крім того, потоки плазми гармат можуть бути включені приблизно на 150-200 мікросекунд, що дозволяє використати їх при запуску, поступальному переміщенні і злитті ЕКС у камеру 100 утримання. Якщо включити приблизно в 1-0 (ініціювання основного банку ЕКС), плазма гармат допоможе підтримувати пропоновану динамічно сформовану і таку, що злилася,
ЕКС 450. Об'єднані запаси частинок з формувальних ЕКС і з гармат задовільні для захоплення нейтральних пучків, нагрівання плазми і тривалої підтримки. Якщо включити при ї у діапазоні від -1 до 0 мс, плазма гармат може заповнити кварцові труби 210 плазмою або іонізувати газ, вдутий у кварцові труби, що дозволяє сформувати РКС зі зменшеним або навіть, можливо, нульовим вдутим газом. Останнє може зажадати досить холодної формувальної плазми, щоб забезпечити швидку дифузію магнітного поля зі зворотним зміщенням. Якщо включити при ї--2 мс, потоки плазми можуть заповнити об'єм силових ліній від 1 до З м? ділянок формування і утримання формувальних секцій 200 і камери 100 утримання із цільовою щільністю плазми в кілька одиниць на 1073 см, достатньої для забезпечення наростання нейтральних пучків до прибуття ЕКС. Потім формувальні ЕКС можуть бути сформовані і поступально переміщені в результуючу плазму ємності для утримання. Таким чином, плазмові гармати 350 забезпечують широкий спектр робочих умов і режимів параметрів.
Електричне зміщення (00104) Керування профілем радіального електричного поля в граничному шарі 456 вигідно різними способами для забезпечення стійкості і утримання ЕКС. Завдяки інноваційним зміщувальним компонентам, розгорнутим у системі 10 ЕКС, можна прикладати множину завчасно підготовлених розподілів електричних потенціалів до групи незамкнутих поверхонь потоку по всій машині з ділянок далеко зовні центральної ділянки утримання в камері 100 утримання. Таким чином, радіальні електричні поля можуть бути згенеровані через граничний шар 456, розташований відразу ж за ЕКС 450. Ці радіальні електричні поля потім модифікують азимутальне обертання граничного шару 456 і здійснюють його утримання через зсув швидкості
ЕХВ. Будь-яке диференціальне обертання між граничним шаром 456 і активною зоною 453 ЕКС може потім передаватися усередину плазми ЕКС за допомогою зсуву. У результаті керування граничним шаром 456 безпосередньо впливає на активну зону 453 ЕКС. Крім того, оскільки вільна енергія при обертанні плазми також може бути причиною нестійкостей, цей метод
Зо забезпечує прямий засіб для керування виникненням і ростом нестійкостей. У системі 10 ЕКС належне граничне зміщення забезпечує ефективне керування транспортуванням і обертанням незамкнутих силових ліній, а також обертанням активної зони ЕКС. Розташування і форма різних передбачених електродів 900, 905, 910 і 920 дозволяє керувати різними групами поверхонь 455 потоку і при різних і незалежних потенціалах. Таким чином, може бути реалізований широкий спектр різних конфігурацій електричних полів і напруженостей, кожна з яких має різний характерний вплив на робочі характеристики плазми.
І00112| Ключовою перевагою всіх цих іноваційних методів зміщення є той факт, що на поводження плазми активної зони і границі можна впливати з місць далеко зовні плазми ЕКС, тобто з необхідності приводити які-небудь фізичні компоненти в контакт із центральною гарячою плазмою (що мало б серйозні наслідки для втрат енергії, потоку і частинок). Це має суттєвий сприятливий вплив на робочі характеристики і всі потенційні застосування концепції високоефективного режиму.
Експериментальні дані - робота у високоефективному режимі 00113) Інжекція швидких частинок за допомогою пучків з гармат 600 нейтральних пучків відіграє важливу роль у забезпеченні високоефективного режиму. Фіг. 16А, 168, 16С і 160 ілюструють цей факт. Зображено набір кривих, що показують, як час життя ЕС корелюється із тривалістю імпульсів пучків. Всі інші робочі умови підтримуються незмінними для всіх розрядів, охоплюваних цим дослідженням. Дані усереднюються по багатьом опострілам і тому відображають типове поводження. Зовсім очевидно, що збільшена тривалість пучків створює більш довгоживучі ЕКС. Розглядаючи ці дані, а також інші діагностичні дані в ході цього дослідження, можна бачити, що пучки підвищують стабільність і зменшують втрати. Кореляція між довжиною імпульсів пучків ії часом життя ЕКС не є зробленою, оскільки захоплення пучків стає неефективним нижче певного розміру плазми, тобто в міру того, як ЕКС 450 стискується у фізичному розмірі, не всі інжектовані пучки перехоплюються і захоплюються. Скорочення ЕКС відбувається головним чином через той факт, що чисті втрати енергії (4 МВт приблизно на півдорозі через разряд) із плазми ЕКС під час розряду трохи перевищують загальну потужність, що подається в ЕКС через нейтральні пучки (72,5 МВт) для конкретного експериментального запуску. Розташування пучків у місці, що перебуває ближче до середньої площини ємності 100, привело б до зменшення цих втрат і продовженню часу життя ЕКС. бо 00114) Фіг. 17А, 178, 17С і 170 ілюструють впливи різних компонентів на досягнення високоефективного режиму. Тут показане сімейство типових кривих, що відображають час життя РКС 450 як функцію часу. У всіх випадках постійна, невелика величина потужності пучків (приблизно 2,5 МВт) інжектується протягом всієї тривалості кожного розряду. Кожна крива представляє різну комбінацію компонентів. Наприклад, робота системи 10 ЕКС без яких-небудь дзеркальних пробок 440, плазмових гармат 350 або гетерування завдяки системам 800 гетерування приводить до швидкої появи обертальної нестабільності і втраті топології ЕКС.
Введення тільки дзеркальних пробок 440 затримує появу нестійкостей і поліпшує утримання.
Використання сукупності дзеркальних пробок 440 і плазмової гармати 350 додатково зменшує нестійкості і збільшує час життя ЕКС. І, нарешті, введення гетерування (Ті в цьому випадку) на додаток до гармати 350 і пробкам 440 дає найкращі результати - в одержуваної ЕКС немає нестійкостей, і вона демонструє найтриваліший час життя. із цієї експериментальної демонстрації ясно, що вся сукупність компонентів дає найкращий ефект і забезпечує пучки з найкращими цільовими умовами. 00115) Як показано на фіг. 1, недавно відкритий високоефективний режим демонструє значно поліпшене поводження при переносі. Фіг.1 ілюструє зміну часу утримання частинок у системі 10 ЕКС між звичайним режимом і високоефективним режимом. Як видно, у високоефективному режимі воно покращилося в більше 5 разів. Крім того, фіг. 1 деталізує час утримання частинок у системі 10 ЕКС щодо часу утримання частинок у звичайних експериментах ЕКС рівня техніки. Що стосується цих інших машин, високоефективний режим системи 10 РКС покращує утримання від 5 до майже 20 разів. Нарешті, і що найбільше важливо, характер масштабування утримання системи 10 ЕКС у високоефективному режимі різко відрізняється від всіх вимірювань рівня техніки. До встановлення високоефективного режиму в системі 10 РКС різні емпіричні закони масштабування одержували із даних для прогнозування часів утримання в експериментах ЕКС рівня техніки. Всі ці правила масштабування залежать в основному від відношення Кг/рі, де ЕК - радіус нуля магнітного поля (нестрога міра фізичного масштаба машини), а рі - ларморовський радіус іона, обчислений у полі, що прикладається ззовні (нестрога міра магнітного поля, що прикладається). З фіг.1 ясно, що тривале утримання у звичайних ЕКС можливе лише при великому розмірі машини і/або сильному магнітному полі. Робота системи 10 ЕКС у звичайному режимі ЕКС має тенденцію
Зо слідувати тим правилам масштабування, як показано на фіг. 1. Однак високоефективний режим є значно переважаючим і показує, що набагато краще утримання може бути досягнуте без великого розміру машини або сильних магнітних полів. Що ще більш важливо, з фіг. 1 також ясно, що високоефективний режим приводить до поліпшення часу утримання зі зменшеним розміром плазми в порівнянні зі звичайним режимом. Аналогічні тенденції також видні для часів утримання потоку і енергії, як описано нижче, які також збільшилися більш ніж в 3-8 разів у системі 10 ЕКС. Таким чином, прорив високоефективного режиму дозволяє використати невелику потужність пучків, більш слабкі магнітні поля і менший розмір для підтримки і утримання рівноваг ЕКС у системі 10 ЕКС і майбутніх машинах більш високих енергій. Ці поліпшення супроводжує менша вартість експлуатації і будівництва, а також зменшена інженерна складність. 00116) Для подальшого порівняння на фіг. 18А, 188, 18С і 180 показані дані з типового розряду високоефективного режиму в системі 10 РЕКС як функції часу. Фіг.18(А) зображує радіус потоку, що виключається, на середній площині. Для цих більш тривалих часових масштабів провідна сталева стінка більше не є гарним консерватором потоку, і магнітні зонди, внутрішні стосовно стінки, доповнюються зондами зовні стінки, щоб належним чином ураховувати дифузію магнітного потоку через сталь. У порівнянні з типовими характеристиками у звичайному режимі, як показано на фіг. 13А, 138, 13С і 130, режим роботи, що відповідає високоефективному режиму, демонструє збільшене більш ніж на 400 95 час життя.
І00117| Типовий графік сліду лінійно інтегрованої щільності показаний на фіг. 1888 з його інвертованим за Абелем доповненням, профілі щільності - на фіг. 18С. У порівнянні зі звичайним режимом ЕС, як показано на фіг. 13А, 13В, 13С і 130, плазма є більш статичною протягом усього імпульсу, що свідчить про дуже стійку роботу. Пікова щільність також трохи нижча при пострілах високоефективного режиму - це наслідок більш високої загальної температури плазми (аж до 2 разів), як показано на фіг. Типовий графік сліду лінійно інтегрованої щільності показаний на фіг. 1888 з його інвертованим за Абелем доповненням, профілі щільності - на фіг. 18С. У порівнянні зі звичайним режимом ЕКС, як показано на фіг. 13А, 138, 13С і 130, плазма є більш статичною протягом усього імпульсу, що свідчить про дуже стійку роботу. Пікова щільність також трохи нижча при пострілах високоефективного режиму - це наслідок більш високої загальної температури плазми (аж до 2 разів), як показано на фіг. 60 180.
00118) Для відповідного розряду, проілюстрованого на фіг. 18А, 188, 18С і 180, часи утримання енергії, частинок і потоку становлять 0,5 мс, 1 мс і 1 мс, відповідно. У момент початку відліку 1 мс при входженні в розряд, накопичена енергія плазми становить 2 кДж, у той час як втрати становлять приблизно 4 МВт, що робить цей цільовий набір параметрів досить підходящим для підтримки нейтральних пучків. 00119) Фіг. 19 підсумовує всі переваги високоефективного режиму у вигляді недавно встановленого експериментального масштабування утримання потоку високоефективного режиму. Як можна бачити на фіг. 19, на основі вимірювань, проведених до і після 1--0,5 мс, тобто ї-0,5 мс и 120,5 мс, утримання потока (і аналогічним чином утримання частинок і утримання енергії) масштабується приблизно з квадратом температури електронів (Те) для заданого радіуса сепаратриси (г«). Це сильне масштабування з позитивним ступенем Те (а не з негативним ступенем) повністю протилежне тому, яке проявляється звичайними токамаками, де утримання, як правило, зворотньо пропорційно до деякого ступеня температури електронів.
Прояв цього масштабування є прямим наслідком стану високоефективного режиму і великої орбіти (тобто орбіт на масштабі топології ЕКС і/або щонайменше характерному масштабі довжини градієнта магнітного поля). По суті, це нове масштабування істотно сприяє високим робочим температурам і забезпечує відносно невеликі за розміром реактори. 00120) Завдяки наявності переваг високоефективного режиму досяжна підтримка ЕКС або сталий стан, збуджуваний нейтральними пучками, що означає, що глобальні параметри плазми, такі як теплова енергія плазми, загальні кількості частинок, радіус і довжина плазми, а також магнітний потік є підтримуваними на прийнятних рівнях без суттєвого спаду. Для порівняння фіг.20 показує дані на графіку А, отримані в результаті розряду в типовому високоефективному режимі в системі 10 ЕКС як функція часу, а на графіку В - для спроектованого розряду типового високоефективного режиму в системі 10 РКС як функція часу, де ЕКС 450 підтримується без спаду протягом тривалості імпульсу нейтральних пучків. Для графіка А нейтральні пучки із загальною потужністю в діапазоні приблизно 2,5-2,9 МВт були інжектовані в ЕКС 450 для тривалості імпульсів активних пучків у приблизно б мс. Діамагнітний час життя плазми, зображений на графіку А, становив приблизно 5,2 мс. Більш пізні дані показують, що діамагнітний час життя плазми приблизно 7,2 мс досяжний із тривалістю імпульсів активних
Зо пучків приблизно 7 мс. (00121) Як відзначалося вище у зв'язку з фіг. 16А, 168, 16 і 160, кореляція між довжиною імпульсів пучків і часом життя ЕКС вне є досконалою, оскільки захоплення пучків стає неефективним нижче певного розміру плазми, тобто в міру того, як ЕКС 450 стискується у фізичному розмірі, не всі інжектовані пучки перехоплюються і захоплюються. Скорочення або спад ЕКС відбувається головним чином через той факт, що чисті втрати енергії (-4 МВт приблизно на півшляху через розряд) із плазми ЕКС під час розряду дещо перевищують загальну потужність, що подається в ЕКС через нейтральні пучки (-2,5 МВт) для конкретного експериментального запуску. Як відзначено відносно фіг. ЗВ, похила інжекція пучків з гармат 600 нейтральних пучків до середньої площини поліпшує зв'язок пучків із плазмою, навіть коли плазма ЕКС стискується або іншим способом аксіально звужується під час періоду інжекції. Крім того, належне підживлення таблетками буде підтримувати необхідну щільність плазми.
І00122| Графік В є результатом моделювань, виконаних з використанням тривалості імпульсів активних пучків приблизно б мс і загальною потужності пучків з гармат 600 нейтральних пучків ледве більш приблизно 10 МВт, при цьому нейтральні пучки повинні інжектувати нейтрали Н (або 2) з енергією частинок приблизно 15 кКЕв. Еквівалентний струм, що інжектується кожним з пучків, становить приблизно 110 А. Для графіка В кут інжекції пучків до осі пристрою становив приблизно 20", радіус мішені - 0,19 м. Кут інжекції може бути змінений у межах 15-252. Пучки повинні інжектуватися в паралельному напрямку азимутально. Чиста бічна сила, а також чиста осьова сила від інжекції імпульсів нейтральних пучків повинні бути мінімізовані. Як і у випадку графіка А, швидкі (Н) нейтрали інжектуються з інжекторів 600 нейтральних пучків з моменту, коли північна і південна формувальні ЕКС зливаються в камері 100 утримання в одну ЕКС 450. 00123) Моделювання, при яких основа для графіка В використовує багатомірні холловські
МГД-розв'язувачі для фонової плазми і рівноваги, повністю кінетичні розв'язувачі на основі методу Монте-Карло для енергетичних компонентів пучків і всіх процесів розсіювання, а також множину зв'язаних рівнянь переносу для всіх видів плазми для моделювання процесів інтерактивних втрат. Компоненти переносу емпірично відкалібровані і ретельно порівнюються з експериментальною базою даних. 00124) Як показано на графіку В, діамагнітний час життя сталого стану ЕКС 450 буде бо тривалістю імпульсу пучків. Однак важливо відзначити, що ключовий кореляційний графік В показує, що коли пучки виключені, плазма або ЕБС починає спадати в цей час, але не раніше.
Спад буде аналогічним тому, що спостерігається в розрядах, які не асистуються пучками - імовірно, на порядок 1 мс після часу вимикання пучків - і просто є відбиттям характерного часу загасання плазми, викликаного процесами власних втрат. (00125) Звертаючись до фіг. 218, 21С, 210 і 21Е, відзначаємо, що результати експериментів, проілюстровані на цих кресленнях, показують підтримку ЕС або сталий стан, що збуджується від похилих нейтральних пучків, тобто, глобальні параметри плазми, такі, як радіус плазми, щільність плазми, температура плазми, а також магнітний потік, підтримуються на постійних рівнях без спаду в кореляції із тривалістю імпульсів нейтральних пучків(НП). Наприклад, такі параметри плазми підтримуються, по суті, постійними протягом -5- мс. Такі робочі характеристики плазми, включаючи ознаку підтримки, мають сильну кореляцію із тривалістю імпульсів НП, при цьому діамагнетизм зберігається навіть протягом декількох мілісекунд після закінчення НП завдяки швидким іонам, що накопичуються. Як зображено, робочі характеристики плазми, обмежуються лише тими обмеженнями за тривалістю імпульсів, що виникають через кінцеві акумульовані енергії в зв'язаних із цим джерелах живлення багатьох критичних систем, таких, як інжектори НП, а також в інших компонентах систем.
Вакуумні насоси із захопленням багатомасштабного типу 00126) Як відзначалося вище у зв'язку з фіг. ЗА, ЗВ, ЗС, 30, ЗЕ їі 68, у системі 10 ЕКС розгортають нейтральні пучки 600 атомів, щоб забезпечити нагрівання і збудження струму, а також розвинути тиск швидких частинок. Навколо центральної камери 100 утримання розташовані окремі тракти пучків, що містять системи 600 інжекції нейтральних пучків атомів і - як показано на фіг. ЗС, ЗО і ЗЕ - переважно нахилені для інжекції нейтральних частинок до середньої площини камери 100 утримання. Щоб наростити температури плазми і підвищити енергії системи, пропонована система 10 РКС включає у себе систему 600 інжекторів нейтральних пучків (ЗУХ) підвищеної потужності і збільшеної тривалості імпульсів, наприклад (ці дані приводяться лише як можливі) -потужності біля 20-- МВт при тривалості імпульсів аж до мо.
І00127| Щоб додатково поліпшити підтримку ЕКС і продемонструвати розгін РКС до високих температур плазми і підвищених енергій системи, пропонована система ЕКС 10 включає у себе
Зо також вакуумні насоси із захопленням багатомасштабного типу у внутрішніх і зовнішніх диверторах 300 і 302, щоб запобігти накопиченню нейтралізованого газу в диверторах 300 і 302.
Як зображено на фіг. 25, за допомогою різних механізмів відбуваються втрати заряджених частинок плазми (наприклад, таких, як азот і дейтерій), що позначено стрілками А, із внутрішньої частини або активної зони 453 плазми 450 РКС у плазму незамкнутих силових ліній. Звідси, як позначено стрілками В, заряджені частинки витікають уздовж незамкнутих силових ліній 452 магнітного поля із центральної ємності 100 для утримання в кожний з диверторів 300 і 302 на будь-якій стороні ємності 100 для утримання.
І00128| Опинившись у диверторах 300 і 302, заряджені частинки будуть ударятися об поверхні усередині камер 310 диверторів, наприклад, такі, як поверхні зміщувальних електродів 910 у диверторах 300 ії 302 (фіг. ЗА, ЗО, 10 ї 26), стаючи нейтралізованими і сприймаються як нейтралізований газ. Збереження щільності такого нейтралізованого газу досить низькою необхідно для підтримки ЕКС і розгону до високих температур плазми і підвищених енергій систем, тому що електрони в плазмі уздовж незамкнутих силових ліній 452 будуть іонізувати нейтральний газ у диверторах 300 ї 302 і тому втрачати енергію (охолоджуватися) у процесі.
Електрони, що є занадто холодними, викликають надлишкове гальмування і сповільнюють іони високої енергії, що рухаються по орбітах навколо активної зони плазми 450 ЕКС. Коли щільність нейтрального газу виявляється нижче деякої заздалегідь заданої, охолодження електронів через іонізацію має тенденцію бути незначним. 00129) Щоб уникнути нагромадження такого нейтралізованого газу в диверторах 300 і 302, нейтралізований газ треба відкачати, щоб запобігти перевищенню заздалегідь визначеного максимального рівня У рівнем М щільності газу, тобто, ММ м. Наприклад, в деяких варіантах здійснення це накопичення газу не може перевищувати рівень М щільності, що становить 1078 м-
З (еквівалент тиску З3х109 тор при 300 К) у внутрішніх диверторах 302, і 2х10'8 м (еквівалент тиску бх109 тор при 300 К) у зовнішніх диверторах 300. Рівень відкачки, необхідний, щоб запобігти перевищенню цієї мінімальної межі щільності/тиску, визначається швидкістю заряджених частинок, що течуть у кожний із чотирьох диверторів 300 і 302. Необхідний рівень відкачки аналогічний переливанню води в "діряве відро", що має одну або більше дірок. Чим швидше ллють воду в відро, тим вище рівень, до якого піднімається рівень води. А чим більше витік, тобто, чим більший розмір і/або кількість дірок, тим нижчий рівень, до якого падає рівень бо води. При досить великому витоку (тобто, відкачці) рівень води (тобто, щільність частинок або тиск) можна підтримувати нижче межі рівня води (тобто, заздалегідь визначеной межі щільності частинок або тиску, наприклад - біля 108 м), коли воду ллють у відро (тобто, заряджені частинки течуть у дивертори 300 і 302). 00130) При експлуатації даної системи 10 ЕКС, як показано на фіг.27, очікується, що всі заряджені частинки плазми, що течуть до диверторів 300 і 302, спочатку течуть в обидва зовнішніх дивертора 300 з максимальною витратою приблизно 1,25х1022 шт/с, який у більш знайомих одиницях вакууму становить приблизно 400 тор л/с. Варіанти здійснення даної системи 10 ЕКС виконані з можливістю зміни магнітних полів відразу після формування ЕКС, наприклад, у межах приблизно 5 мілісекунд, з перемиканням 75 загального потоку частинок із зовнішніх диверторів 300 на внутрішні дивертори 302. Наприклад, початкова витрата у внутрішні дивертори 302 складе приблизно 300 тор.л/с. У межах деякого короткого часу, наприклад, близько 5-10 мілісекунд після перемикання потоку частинок із зовнішніх диверторів 300 на внутрішні дивертори 302, утримання плазми в РКС 450 покращиться настільки, що очікувані витрати продемонструють тенденцію до 4-5-кратного падіння, наприклад, до біля 60 тор.л/с. Проста імітаційна модель нульового розміру показала, що, для підтримки щільності газоподібного водню нижче переважних максимальних меж, у кожному із чотирьох диверторів 300 і 302 потрібна була комбінація вакуумного насоса з витратою 2 мільйона л/с плюс 15 му об'ємної відкачки (що дозволяє газу розширюватися в порожньому об'ємі). Дейтерій вимагає параметра відкачки, що становить 1,5 мільйона л/с. 00131) Щоб упоратися з навантаженнями від цих частинок, одночасно зберігаючи щільність газу досить низькою, потрібен величезний об'єм відкачки. Звичайні рішення, зв'язані з відкачкою, не в змозі забезпечити необхідний об'єм відкачки в межах обмежень, зв'язаних з диверторами 300 ії 302 пропонованої системи 10 ЕКС, включаючи, наприклад, але не в обмежувальному змісті, вартість, а також обмежений тривимірний простір (наприклад, близько 15 му) і площу поверхні (наприклад, біля 10 ме) всередині кожного дивертора 300 і 302.
І00132| Найдешевший спосіб відкачки частинок, наприклад, таких, як частинки водню і дейтерію, полягає у використанні плівок титану, осаджених на поверхні камер 310 диверторів 300 ії 302, щоб викликати "прилипання" частинок до поверхонь камер 310 у вакуумному насосі захоплювального типу (докладніше обговорюваному нижче). При кімнатній температурі досяжний параметр відкачки приблизно 2,2 л/см"-с, що відповідає 5 95 імовірності "прилипання" і захоплення частинок водню плівкою. Це називають коефіцієнтом прилипання, який може перебувати в діапазоні від 0 до 100 95. Використання обмеженої площі поверхні, величина якої становить приблизно 10 ме всей площади, дасть загальну швидкість відкачки лише 22000 л/с при цьому коефіцієнті прилипання. Ця швидкість відкачки приблизно в 100 разів менше, ніж необхідна для того, щоб упоратися з навантаженням від частинок, характерним для даної системи 10 ЕКС, при збереженні щільності газу нижче заздалегідь визначеного максимуму.
І00133| Щоб задовольнити потреби відкачки для даної системи 10 ЕКС, застосовується комбінація двох рішень, зв'язаних з відкачкою. По-перше, осаджують плівку титану на кріогенно охолоджені поверхні, наприклад поверхні, які кріогенно охолоджені приблизно до 77 К. Таке охолодження демонструє тенденцію до збільшення аж до приблизно 4-хкратного коефіцієнта прилипання, скажемо, від приблизно 595 до приблизно 20 95. По друге, поверхням відкачки надають конфігурацію множини багатомасштабних самоподібних поверхонь для подальшого збільшення коефіцієнта прилипання до приблизно 3-4-хкратного, скажемо, від приблизно 20 95 до приблизно 70 95. При таких збільшеннях коефіцієнта прилипання досягається 100-кратне збільшення швидкості відкачки. Наприклад, для водню досягається швидкість відкачки 2400000 л/с, а для дейтерію - швидкість відкачки 1500000 л/с за допомогою всього 7,3 м? доступної площі поверхні, що перебуває усередині вакуумної посудини обсягом 15 м3 диверторів 300 і 302. Ці насоси в стані (мають продуктивність, що дозволяє) упоратися із загальним об'ємом газу, що генерується в результаті одного пострілу плазмою в пропонованій системі 10 ЕКС.
Насос зберігає 9595 своєї швидкості відкачки із цього об'єму газу, і цю величину можна відновити до 100 95, осаджуючи більше титану.
Вакуумний насос захоплювального типу (00134) Захоплення молекул газу можливе на поверхні плоскої плити 312 (фіг. 28) за рахунок прилипання до поверхні плити 312. Захоплення молекул газу може відбуватися за допомогою різних фізичних процесів, таких, як конденсація, а також фізична або хімічна адсорбція на поверхнях, які можуть складатися з матеріалів багатьох різних типів. Щоразу, коли молекула газу вдаряється об цю поверхню, її захоплення може відбуватися з імовірністю прилипання між 0 ї 10095. Ця ймовірність прилипання на плоскій поверхні через один удар у поверхню називається коефіцієнтом прилипання (КП). Якщо молекула газу не прилипає, вона в типовому бо випадку покине цю поверхню в довільному напрямку, що відповідає закону косинусів.
Коефіцієнт прилипання до плоскої поверхні незалежний від розмірів цієї плоскої поверхні.
Разом з тим, загальна швидкість відкачки насосом залежить від площі поверхні, коефіцієнта прилипання (КП) і середньої швидкості молекул газу і задається формулою (1):
Швидкість-0,25хМКПхПлоща (1) 00135) Ефективний коефіцієнт прилипання, а значить і швидкість відкачки можна збільшити, поєднуючи дві або більше поверхні одну з одною так, що поверхні будуть дивитися одна на одну. Наприклад, як показано на фіг.28, п'ять плоских стінок 322, 324, 326, 328 і 325 квадратної форми можна об'єднати, створюючи п'ять сторін куба 320 з однією відкритою стороною, так що внутрішні поверхні стінок 322, 324, 326, 328 і 325 будуть дивитися одна на одну. Молекула газу, що потрапляє в цей куб 320 на відкритій стороні, удариться об одну зі згаданих п'яти поверхонь і прилипне з імовірністю КП. Якщо молекула газу не прилипає до поверхні, об яку спочатку вдаряється, молекула газу може направитися назовні з відкритої сторони куба 320, куди молекула газу тільки що потрапила, або молекула газу може вдаритися об одну з інших чотирьох поверхонь куба 320, "вигляд на яку має згадана поверхня", одержуючи ще один шанс прилипання до поверхні з імовірністю, що дорівнює КП. Молекула газу може "підстрибувати", ударяючись об поверхні куба 320 багато разів перед тим, як або прилипне до однієї з поверхонь, або вилетить через відкриту сторону куба 320. Це ефективно збільшує ймовірність прилипання молекули газу до поверхні в кубі 320 у порівнянні із плоскою квадратною поверхнею 312 тих же розмірів, що і проріз куба 320. Куб 320, по суті, прирівнюється до плоскої поверхні 312, але має більш високий ефективний КП, ніж плоска поверхня 312, якщо плоска поверхня має таку ж площу як відкрита сторона куба 320. 00136) При об'єднанні двох або більше поверхонь одна з одною таким чином, що поверхні дивляться одна на одну, результуюча форма не обов'язково буде формою куба. Результуюча форма може бути будь-якою формою, що має декілька поверхонь, які утворюють щось більше, ніж просто плоску поверхню, таку, як у камери, порожнини або каналу з відкритою стороною.
Наприклад, як показано на фіг. 29, можна сформувати коробку із квадратним прорізом, подібну до куба 320, показаного на фіг. 28, але зі змінюваною глибиною. На фіг. 29 представлений графік ефективного КП для квадратного прорізу коробки залежно від відношення глибини до ширини коробки при деякому заданому КП для плоских поверхонь, з яких складається коробка.
Зо Коробка з нульовою глибиною (у цьому випадку відношення глибини до ширини теж дорівнює 0) являє собою саме плоску поверхню 312, так що ефективний КП буде таким же, як заданий КП плоских поверхонь коробки. Показано, що вибіркові КП для плоскої поверхні включають у себе значення 0,05, 0,10, 0,20 і 0,50. Для відношення глибини до ширини, що дорівнює 1, коробка 320(1) являє собою куб. Коробки 320(2), 320(3), 320(4) і 320(5) мають відношення глибини до ширини, що становлять 2:1, 3:1, 421 і 5:1, відповідно.
І00137| Крім змінюваного відношення глибини до ширини можна змінювати форму і кількість відкритих сторін. Відкриті сторони не обов'язково повинні бути квадратними, а можуть мати будь-яку форму, включаючи, але не в обмежувальному розумінні, шестикутну, круглу, прямокутну, трикутну, форму зірки, і т.д., за умови, що дві або більше внутрішні поверхні дивляться одна на одну. Форма також не обов'язково повинна складатися з деякого числа дискретних плоских поверхонь. Це може бути безперервно криволінійна поверхня, подібна до півсфери. Щоб обчислити ефективний КП для півсфери, припускають, що криволінійна поверхня складається з нескінченної кількості нескінченно малих плоских поверхонь.
Захоплювальні насоси, що мають самоподібні поверхні
ІЇ00138| Насос може приймати базову форму для побудови самоподібних структур на багатьох рівнях масштабів, що різко збільшить ефективний КП. Наприклад, окремий об'єкт - насос у вигляді п'ятистороннього куба 320, описаного вище (фіг. 28 і 29), може бути зібраний з множиною кубів 320 у матриці 10х10 кубів для утворення панелі або стінки 330. Панель 330, що складається з матриці кубів, можна потім використати для формування п'яти (5) стінок 342, 344, 345, 346 і 348 більшого п'ятистороннього (5-тистороннього) куба 340. (00139) Цей процес можна повторювати знову і знову, збільшуючи КП, а значить і швидкість і продуктивність відкачки. Наприклад, як зображено на фіг. 31 і 32, якщо для формування п'ятистороннього куба 320 використають плоску квадратну плиту 312, що має КП 5 95, то КП куба 320 з відкритою стороною збільшиться до 20 95. Потім можна зібрати куб 320 з множиною кубів 320 у матриці кубів 10х10, щоб сформувати "гладку" квадратну площину або стінку 330 з
КП, що дорівнює 20 95. Якщо для формування п'ятистороннього куба 340 зі сторонами 342, 344, 345, 346 і 348 використовують стінку 330 матриці кубів, що має КП 20 95, КП куба 340 з відкритою стороною збільшиться до 50 95. Потім куб 340 можна зібрати з множиною кубів 340 в матриці кубів 10х10, щоб сформувати "гладку" квадратну площину або стінку 360 з КП, що бо дорівнює 50 95. Якщо для формування п'ятистороннього куба 380 зі сторонами 382, 384, 385,
386 і 388 використовують стінку 360 матриці, що має КП 50 95, КП куба 380 з відкритою стороною збільшиться до 80 95. За бажанням, цей процес можна повторювати до досягнення деякого оптимального рівня КП.
І00140| Як показано на фіг.2б6, по внутрішній частині камери 310 диверторів 300 ії 302 розташована множина коробок 380 більшого розміру.
І00141| КП не залежить від розмірів. Збільшення КП, зв'язане з кубами відповідно до попереднього приклада, може бути досягнуте за допомогою кубів із прорізом таких же розмірів, а не за рахунок збільшення прорізу. Іншими словами, переходячи від конфігурації першого куба 320 до конфігурації третього куба 380 і зберігаючи при цьому прорізи першого і третього кубів 320 і 380, що мають такі ж розміри, досягають чотириразового збільшення КП, а значить і швидкості відкачки, стосовно КП плоскої плити, що відповідає площі прорізу. Це приклад дискретних рівнів масштабів відповідно до самоподоби. Перший куб 320 являє собою лише одномасштабний куб, тобто, внутрішні поверхні стінок куба 320 містять плоскі поверхні. Разом з тим, внутрішні поверхні стінок другого куба 340 є не плоскими, а скоріше включають у себе матрицю перших кубів 320. Аналогічно, внутрішні поверхні третього куба 380 включають у себе матрицю других кубів 340.
І00142| Що стосується збільшення КП, швидкості і продуктивності відкачки, то не висувається вимога, відповідно до якої об'єкти - окремі насоси, використовувані для перетворення плоскої поверхні в тривимірну (3-хвимірну) поверхню, повинні мати такі ж форми або розміри. Об'єкти - окремі насоси саме повинні мати форму, яка посприяє збільшенню КП стосовно плоскої плити, що відповідає прорізу об'єктів - окремих насосів. У прикладах, наведених вище, у розмірах масштабів самоподібних кубів використалося відношення 10:1, але це відношення може бути будь-яким. Кількість рівнів масштабів, форму і розміри можна оптимізувати за ситуацією. 00143) Як згадувалося вище, для досягнення коефіцієнта прилипання 80 95 або вище, у пропонованій системі 10 ЕКС використовується поєднання кріогенно охолоджуваних поверхонь і самоподібних форм. У деяких ситуаціях КП зменшуються аж до 70 95 у результаті наявності декількох екранів, які запобігають осадженню титану через прорізи окремих насосів. (00144) Існують способи природного одержання самоподібних структур цих типів. Плівки
Зо титану, вирощені на кріогенно охолодженій поверхні під різними тисками срібла, дадуть субмікронні структури, які демонструють самоподобу, і збільшать коефіцієнт прилипання поверхні. Разом з тим, самоподібні структури, наприклад, такі як куби 320, 340 і 380, являють собою спеціально спроектовані самоподібні структури, які не вирощені з осаджених плівок, але можуть бути використані в сполученні з осадженими плівками. 00145) Крім застосування титанових покриттів існують багато інших способів, якими можна захоплювати (газ на поверхнях. Два з найпоширеніших передбачають застосування нерозпилюваних газовбирачів (гетерів) (НРГ) і кріогенно охолодженого активованого деревного вугілля. (00146) У всіх прискорювачах частинок звичайно використовують насоси на нерозпилюваних газовбирачах (НРГ). Їх виготовляють із сумішей порошків титану, ванадію, алюмінію, цирконію і заліза.
Ї00147| У типових випадках цей порошок НРГ спікають у диски, які являють собою скомпоновані рознесені стоси, або на металеву нагрівальну стрічку, що потім гнуть у форми.
Тому застосовуються форми стрічок, що збільшують коефіцієнт прилипання, але лише на одному рівні масштабу. Їм не надають форми самоподібних структур на багатомасштабних габаритах. Ці порошки НРГ можна спікати у структури самоподібних форм, щоб збільшити їх малі коефіцієнти прилипання і, тим самим, швидкість відкачки без збільшення розмірів насоса.
Збільшена швидкість відкачки НРГ сприяла б підвищенню робочих характеристик вакууму прискорювачів частинок. 00148) Активоване деревне вугілля, охолоджене до 10 К може захоплювати газоподібний водень, а додатково охолоджений до 4 К може захоплювати газоподібний гелій. Це один з деяких способів відкачки газоподібного гелію. Він використовується як засіб відкачки в термоядерних пристроях, таких, як токамаки і прискорювачі пучків нейтральних частинок.
Прилипання до порошкоподібного активованого деревного вугілля на самоподібну структуру буде збільшувати коефіцієнт прилипання і швидкості відкачки.
І00149| Відповідно до варіанта здійснення даного винаходу запропонований спосіб генерування і підтримки магнітного поля з конфігурацією з оберненим полем (ЕКС), що містить формування ЕКС навколо плазми в камері утримання, інжекцію множини пучків нейтральних частинок у плазму РКС під деяким кутом до середньої площини камери утримання, відкачку бо молекул нейтралізованого газу, що акумулюються у перших і других діаметрально протилежних диверторах, зв'язаних з камерою утримання, за допомогою перших і других захоплювальних вакуумних насосів, які розташовані у перших і других диверторах і містять дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться одна на одну, і відкриту сторону, при цьому перші і другі захоплювальні вакуумні насоси мають коефіцієнт прилипання, що більш ніж у чотири (4) рази перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні перших і других захоплювальних насосів.
І00150)| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу щонайменше одна зі згаданих двох або більше сторін перших і других захоплювальних вакуумних насосів містить матрицю окремих захоплювальних вакуумних насосів.
І00151) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів містить дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться одна на одну, і відкриту сторону, причому кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів має коефіцієнт прилипання, що перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні кожного з окремих захоплювальних вакуумних насосів.
І001521| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу щонайменше одна зі згаданих двох або більше сторін кожного з окремих захоплювальних вакуумних насосів містить другу матрицю окремих захоплювальних вакуумних насосів.
І00153) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів другої матриці містить дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться одна на одну, і відкриту сторону, причому кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів другої матриці має коефіцієнт прилипання, що перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площа, еквівалентну відкритій стороні кожного з окремих захоплювальних вакуумних насосів другої матриці.
І00154| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу перші і другі захоплювальні вакуумні насоси мають коефіцієнт прилипання, що в М разів перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні перших і других захоплювальних насосів, причому М задовольняє нерівності 4-М-16. 00155) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу поверхні плоскої плити і перших і других вакуумних насосів включають у себе осаджену на них плівку титану. 00156) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково включає у себе підтримку ЕКС при постійному значенні або біля нього без спаду шляхом інжекції пучків швидких нейтральних атомів з інжекторів пучків нейтральних частинок у плазму
ЕКС під кутом до середньої січної площини камери утримання.
І00157| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить генерування магнітного поля в межах камери утримання за допомогою котушок квазіпостійного струму, що простираються навколо камери утримання, і дзеркального магнітного поля в межах протилежних торців камери утримання за допомогою дзеркальних котушок квазіпостійного струму, що простираються навколо протилежних торців камери утримання. 00158) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить генерування магнітного поля в межах камери утримання за допомогою котушок квазіпостійного струму, що простираються навколо камери утримання, і дзеркального магнітного поля в межах протилежних торців камери утримання за допомогою дзеркальних котушок квазіпостійного струму, що простираються навколо протилежних торців камери утримання. (00159) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу формування ЕКС включає у себе формування формувальної ЕКС у протилежних першій і другій формувальних секціях, зв'язаних з камерою утримання, і прискорення формувальної ЕКС з першої і другої формувальних секцій до середньої січної площини камери утримання, де обидві ЕКС, що формуються, поєднуються, утворюючи одну ЕКС. 00160) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу формування ЕНС включає у себе одне з формування формувальної РКС при прискоренні формувальної ЕКС до середньої січної площини камери утримання і формування формувальної ЕКС з наступним прискоренням формувальної ЕКС до середньої січної площини камери утримання.
Ї00161| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу прискорення формувальної ЕКС з першої і другої формувальних секцій до середньої січної площини камери утримання включає у себе пропускання формувальної ЕКС з першої і другої формувальних секцій через перший і другий внутрішні дивертори, зв'язані із протилежними торцями камери утримання, що перебувають між камерою утримання і першою і другою формувальними бо секціями.
І00162| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу пропускання формувальної РКС з першої і другої формувальних секцій через перший і другий внутрішні дивертори включає у себе деактивацію першого і другого внутрішніх диверторів, коли ЕКС, що формується, з першої і другої формувальних секцій проходить через перший і другий внутрішні дивертори. 00163) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить спрямовування поверхонь магнітного потоку ЕКС у перший і другий внутрішні дивертори. (00164) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить спрямовування поверхонь магнітного потоку ЕКС у перший і другий зовнішні дивертори, зв'язані з торцями формувальних секцій. 00165) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить генерування магнітного поля в межах формувальних секцій і першого і другого зовнішніх диверторів за допомогою котушок постійного струму, що простираються навколо формувальних секцій і диверторів. (00166) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить генерування магнітного поля в межах формувальних секцій і першого і другого внутрішніх диверторів за допомогою котушок квазіпостійного струму, що простираються навколо формуючих секцій і диверторів.
І00167| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить генерування дзеркального магнітного поля між першою і другою формувальними секціями і першим і другим зовнішніми диверторами за допомогою котушок квазіпостійного струму. 00168) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить генерування магнітного поля дзеркальних пробок у межах звуження між першою і другою формувальними секціями і першим і другим зовнішніми диверторами за допомогою дзеркальних пробочних котушок квазіпостійного струму, що простираються навколо звуження між формувальними секціями і диверторами. 00169) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково
Зо містить генерування дзеркального магнітного поля між камерою утримання і першим і другим внутрішніми диверторами за допомогою дзеркальних котушок квазіпостійного струму і генерування магнітного поля, що звужується, між першою і другою формувальними секціями і першим і другим внутрішніми диверторами за допомогою низькопрофільних обтискних котушок постійного струму. 00170) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить генерування одного з магнітного дипольного поля і магнітного квадрупольного поля в межах камери за допомогою відхильних котушок, зв'язаних з камерою. 00171) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить кондиціонування внутрішніх поверхонь камери і внутрішніх поверхонь першої і другої формувальних секцій, причому перший і другий дивертори перебувають між камерою утримання і першою і другою формувальними секціями, а перший і другий зовнішні дивертори зв'язані з першою і другою формувальними секціями за допомогою системи гетерування.
І00172| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу система гетерування включає у себе одну із системи осадження титану і системи осадження літію. 00173) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить осьову інжекцію плазми в ЕКС з аксіально встановлених плазмових гармат. 00174) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить керування радіальним профілем електричного поля в граничному шарі ЕКС.
І00175| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу керування радіальним профілем електричного поля в граничному шарі ЕКС включає у себе прикладання розподілу електричного потенціалу до групи незамкнутих поверхонь потоку ЕКС за допомогою зміщувальних електродів. 00176) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу спосіб додатково містить інжекцію плазм компактних тороїдів (КТ) з першого і другого інжекторів КТ у плазму ЕКС під кутом до середньої площини камери утримання, при цьому перший і другий інжектори КТ діаметрально протилежні, перебуваючи із протилежних сторін від середньої площини камери утримання.
І00177| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу захоплювальний вакуумний насос містить дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться одна на одну, і 60 відкриту сторону, при цьому кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів має коефіцієнт прилипання, що перевищує більш, ніж у чотири (4) рази коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні захоплювального насоса.
І00178)| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу щонайменше одна зі згаданих двох або більше сторін перших і других захоплювальних вакуумних насосів містить матрицю окремих захоплювальних вакуумних насосів.
І00179)| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів містить дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться одна на одну, і відкриту сторону, причому кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів має коефіцієнт прилипання, що перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні кожного з окремих захоплювальних вакуумних насосів.
І00180)| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу щонайменше одна зі згаданих двох або більше сторін кожного з окремих захоплювальних вакуумних насосів містить другу матрицю окремих захоплювальних вакуумних насосів.
І00181) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів другої матриці містить дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться один на одного, і відкриту сторону, причому кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів другої матриці має коефіцієнт прилипання, що перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні кожного з окремих захоплювальних вакуумних насосів другої матриці.
І00182| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу перші і другі захоплювальні вакуумні насоси мають коефіцієнт прилипання, що в М разів перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні перших і других захоплювальних насосів, причому М задовольняє нерівності 4-М-16.
І00183) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу поверхні плоскої плити і перших і других вакуумних насосів включає у себе осаджену на них плівку титану.
І00184| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу запропонована система для генерування і підтримки магнітного поля з конфігурацією з оберненим полем (ЕКС), що містить камеру утримання, першу і другу діаметрально протилежні формувальні ЕКС секції, що зв'язані з камерою утримання і що включають в себе перші і другі захоплювальні вакуумні
Зо насоси, розташовані в перших і других диверторах і що містять дві або більше сторони з поверхнями, що дивляться одна на одну, і відкриту сторону, при цьому перші і другі захоплювальні вакуумні насоси мають коефіцієнт прилипання, який більш ніж у чотири (4) рази перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, що обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні перших і других захоплювальних насосів, одну або більше з множини плазмових гармат, один або більше зміщувальних електродів і першу і другу дзеркальні пробки, причому згадана множина плазмових гармат включає у себе першу і другу осьові плазмові гармати, функціонально зв'язані з першими і другими диверторами, першою і другою формувальними секціями і камерою утримання, при цьому згаданий один або більше зміщувальних електродів розташовані в межах однієї або більше з камери утримання, першої і другої формувальних секцій і першого і другого зовнішніх диверторів, і при цьому перші і друга дзеркальні пробки розташовані між першою і другою формувальними секціями і першими і другими диверторами, систему гетерування, зв'язану з камерою утримання і першими і другими диверторами, множину інжекторів нейтральних пучків атомів, зв'язаних з камерою утримання і нахилених до середньої площини камери утримання.
І00185) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу система виконана з можливістю генерування ЕКС і підтримки ЕКС без спаду при інжекції пучків нейтральних частинок у плазму.
І00186| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу перші і другі дивертори містять перший і другий внутрішні дивертори, що перебувають між першою і другою формувальними секціями і камерою утримання, і додатково містять перший і другий зовнішні дивертори, зв'язані з першою і другою формувальними секціями, причому перша і друга формувальні секції перебувають між першим і другим внутрішніми диверторами і першим і другим зовнішніми диверторами.
І00187| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу система додатково містить першу і другу осьові плазмові гармати, функціонально зв'язані з першими і другими внутрішніми ії зовнішніми диверторами, першою і другою формувальними секціями і камерою утримання. (00188) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу система додатково містить дві або більше відхильних котушок, зв'язаних з камерою утримання. 60 І00189| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу формувальна секція містить побудовані з модулів формувальні системи для генерування ЕКС і поступального переміщення її до середньої площини камери утримання.
І00190| Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу зміщувальні електроди включають у себе один або більше з: одного або більше точкових електродів, розташованих у межах камери утримання, для контакту з незамкнутими силовими лініями; набору кільцевих електродів між камерою утримання і першою і другою формувальними секціями для зарядки далеких граничних шарів за азимутально симетричною схемою; множини електродів, концентрично покладених у стопу, розташованих у перших і других диверторах для зарядки множини концентричних шарів потоку; і анодів плазмових гармат для перехоплення незамкнутого потоку. (00191) Відповідно до додаткового варіанта здійснення даного винаходу система додатково містить перший і другий інжектори компактних тороїдів (КТ), зв'язані з камерою утримання, під кутом до середньої площини камери утримання, при цьому перший і другий інжектори КТ діаметрально протилежні, перебуваючи із протилежних сторін від середньої площини камери утримання.
І00192| Однак, можливі варіанти здійснення, представлені тут, призначені лише як ілюстративні приклади і ніяким чином не обмежувальних. 00193) Всі ознаки, елементи, компоненти, функції і етапи, описані відносно будь-якого варіанта здійснення, представленого тут, призначені бути вільно комбінованими і замінними відповідними з будь-якого іншого варіанта здійснення. Якщо деяка ознака, елемент, компонент, функція або етап описані у відношенні тільки одного варіанта здійснення, то варто розуміти, що та ознака, елемент, компонент, функція або етап можуть використатися з будь-яким іншим варіантом здійснення, описаним тут, якщо явно не зазначене інше. Цей абзац, таким чином, у будь-який час служить антецедентною основою і письмовою підтримкою для введення формули винаходу, що комбінує ознаки, елементи, компоненти, функції і етапи з різних варіантів здійснення або заміняє ознаки, елементи, компоненти, функції і етапи з одного варіанта здійснення відповідними з іншого, навіть якщо наступний опис явно не вказує, у конкретному випадку, що такі комбінації або заміни можливі. Явне перерахування кожної можливої комбінації і заміни є надмірно обтяжним, особливо з огляду на те, що допустимість усякої і кожної такої
Зо комбінації і заміни буде легко зрозуміла фахівцями в даній галузі техніки після прочитання цього опису. 00194) У багатьох випадках об'єкти описуються тут як зв'язані з іншими об'єктами. Варто зрозуміти, що терміни "зв'язаний (-а, -е, -ї)" і "з'єднаний (-а, -е, -)" або будь-які з їх форм уживаються тут взаємозамінно і в обох випадках є родовими для безпосереднього зв'язку двох об'єктів (без яких-небудь суттєвих (наприклад - паразитних) проміжних об'єктів) і непрямого зв'язку двох об'єктів (з одним або декількома проміжними об'єктами). Якщо об'єкти показані як безпосередньо зв'язані воєдино або описані як зв'язані воєдино без опису якого-небудь проміжного об'єкта, варто зрозуміти, що ці об'єкти теж можуть бути безпосередньо зв'язані воєдино, якщо в контексті явно не диктується інше.
ІЇ00195| Хоча варіанти здійснення можуть бути піддані внесенню різних модифікацій і альтернативних форм, їх конкретні приклади показані на кресленнях і описані тут докладно.
Однак повинно бути ясно, що ці варіанти здійснення не обмежуються розкритою конкретною формою, а навпаки, ці варіанти здійснення варто вважати такими, що охоплюють всі модифікації, еквіваленти і альтернативи, що перебувають у рамках суті винаходи. Крім цього, приводити у формулі винаходу або вносити в неї можна будь-які ознаки, функції, етапи або елементи відповідно до варіантів здійснення, а також негативні обмеження, які визначають обсяг домагань відповідно до винаходу ознаками, функціями, етапами або елементами, що перебувають поза цим обсягом.
Claims (5)
1. Вузол першого захоплювального вакуумного насоса і другого захоплювального вакуумного насоса, причому кожний із захоплювальних вакуумних насосів містить камеру (320) з відкритою стороною, що включає: 55 дві або більше плит (322, 324, 326, 328), які містять одну або більше бічних плит, які з'єднані з торцевою плитою (312) на першому торці згаданих однієї або більше бічних плит і простягаються до отвору, обмеженого другим торцем згаданих однієї або більше бічних плит, причому отвір обмежує площу, еквівалентну поверхні торцевої плити, при довжині згаданих однієї або більше бічних плит, що обмежує довжину (0) захоплювального вакуумного насоса і 60 згаданих двох або більше плит з поверхнями, розташованими навпроти отвору,
осаджену на поверхнях плит плівку титану, причому поверхні з осадженою плівкою титану мають коефіцієнт прилипання, який відповідає імовірності прилипання окремої молекули газу до поверхні з осадженою плівкою внаслідок одного удару окремої молекули газу об поверхню з осадженою плівкою, коли поверхні з осадженою плівкою піддаються впливу газу, при цьому захоплювальний вакуумний насос має коефіцієнт прилипання, що перевищує коефіцієнт прилипання поверхні з осадженою плівкою торцевої плити самої по собі, і причому щонайменше одна зі згаданих двох або більше плит першого і другого захоплювальних вакуумних насосів (340) містить першу матрицю (330) окремих захоплювальних вакуумних насосів (320), причому кожний окремий захоплювальний вакуумний насос в першій матриці окремих захоплювальних вакуумних насосів містить дві або більше плит (322, 324, 326, 328) з поверхнями, розташованими одна навпроти одної, причому згадані дві або більше плит включають одну або більше бічних плит, які з'єднані з торцевою плитою на першому торці згаданих однієї або більше бічних плит і простягаються до отвору, обмеженого другим торцем згаданих однієї або більше бічних плит, причому отвір обмежує площу, еквівалентну поверхні торцевої плити, при довжині згаданих однієї або більше бічних плит, що обмежує довжину (0) окремих захоплювальних вакуумних насосів і згаданих двох або більше плит (322, 324, 326, 328) з поверхнями, розташованими навпроти отвору.
2. Вузол за п. 1, причому щонайменше одна зі згаданих двох або більше плит першого і другого захоплювальних вакуумних насосів (340) містить першу матрицю (330) окремих захоплювальних вакуумних насосів (320), причому кожний окремий захоплювальний вакуумний насос в першій матриці окремих захоплювальних вакуумних насосів містить дві або більше плит (322, 324, 326, 328) з поверхнями, розташованими одна навпроти одної, причому згадані дві або більше плит включають одну або більше бічних плит, які з'єднані з торцевою плитою (312) на першому торці згаданих однієї або більше бічних плит і простягаються до отвору, обмеженого другим торцем згаданих однієї або більше бічних плит, причому отвір обмежує площу, еквівалентну поверхні торцевої плити, при довжині згаданих однієї або більше бічних плит, що обмежує довжину (0) окремих захоплювальних вакуумних насосів і згаданих двох або більше плит з поверхнями, розташованими навпроти отвору.
З. Вузол за п. 1 або 2, причому перший і другий захоплювальні вакуумні насоси мають Зо коефіцієнт прилипання, який в М разів перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, яка обмежує площу, еквівалентну відритій стороні першого і другого захоплювальних насосів, причому М задовольняє нерівності 4«М-«16.
4. Вузол за будь-яким з пп. 1-3, причому поверхні з осадженою плівкою торцевої плити і перших і других бічних плит включають осаджену на них плівку титану.
5. Система для генерування і підтримки магнітного поля з конфігурацією із оберненим полем (РКС), яка містить: камеру утримання (100); першу і другу діаметрально протилежні формувальні ЕКС -секції (200), які розташовані поруч з першим і другим торцями камери утримання; перші і другі дивертори (300, 302), зв'язані з першою і другою формувальними секціями, причому перші і другі дивертори включають в себе вузол першого і другого захоплювальних вакуумних насосів, розташований в межах перших і других диверторів, і причому перший і другий вакуумні насоси містять дві або більше бічних плит, що простягаються від торцевої плити, з поверхнями, що протилежні одна до одної і розташовані навпроти відкритої сторони, при цьому перший і другий захоплювальні вакуумні насоси (320, 340, 380) мають коефіцієнт прилипання, що перевищує коефіцієнт прилипання плоскої плити, яка обмежує площу, еквівалентну відкритій стороні першого і другого захоплювальних насосів; причому щонайменше одна зі згаданих двох або більше бічних плит (322, 324, 326, 328) першого і другого захоплювальних вакуумних насосів містить матрицю (330) окремих захоплювальних вакуумних насосів, причому кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів містить торцеву плиту, що має поверхню, і дві або більше бічних плит з поверхнями, розташованими одна навпроти одної, які з'єднані з торцевою плитою на першому торці згаданих однієї або більше бічних плит і простягаються до отвору, обмеженого другим торцем згаданих однієї або більше бічних плит, причому отвір обмежує площу, еквівалентну поверхні торцевої плити, причому кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів має коефіцієнт прилипання, що перевищує коефіцієнт прилипання поверхні плоскої плити, яка обмежує площу, еквівалентну отвору кожного з окремих захоплювальних вакуумних насосів, одна або більше з множини плазмових гармат (350), одного або більше зміщувальних бо електродів (900, 905, 910, 920) і першої і другої дзеркальних пробок (440), причому згадана множина плазмових гармат включає в себе першу і другу осьові плазмові гармати, які функціонально зв'язані з першими і другими диверторами, першою і другою формувальними секціями і камерою утримання, при цьому згадані один або більше зміщувальних електродів розташовані в межах одного або більше з камери утримання, першої і другої формувальних секцій і перших і других диверторів, і при цьому згадані перша і друга дзеркальні пробки розташовані між першою і другою формувальними секціями і першими і другими диверторами; систему гетерування (800), зв'язану з камерою утримання і першими і другими диверторами; множину інжекторів (600, 615) пучків нейтральних атомів, зв'язаних з камерою утримання і нахилених до середньої площини камери утримання під кутом, відхиленим від нормалі до подовжньої осі камери утримання на 15-25 градусів; і магнітну систему (400, 410), яка містить множину котушок (412, 414, 416) квазіпостійного струму, розташованих навколо камери утримання, першої і другої формувальних секцій і перших і других диверторів, і перший і другий набори дзеркальних котушок (420) квазіпостійного струму, розташованих між першою і другою формувальними секціями і першими і другими диверторами.
6. Система за п. 5, причому щонайменше одна зі згаданих двох або більше бічних плит кожного з окремих захоплювальних вакуумних насосів містить другу матрицю окремих захоплювальних вакуумних насосів.
7. Система за п. 6, причому кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів другої матриці містить торцеву плиту, що має поверхню, і дві або більше бічних плит з поверхнями, розташованими одна навпроти одної, які з'єднані з торцевою плитою на першому торці згаданих двох або більше бічних плит і простягаються до отвору, обмеженого другим торцем згаданих двох або більше бічних плит, причому отвір обмежує площу, еквівалентну поверхні торцевої плити, причому кожний з окремих захоплювальних вакуумних насосів другої матриці має коефіцієнт прилипання поверхні, який перевищує коефіцієнт прилипання поверхні плоскої плити, яка обмежує площу, еквівалентну отвору кожного з окремих захоплювальних вакуумних насосів другої матриці.
8. Система за п. 5, причому перший і другий захоплювальні вакуумні насоси мають коефіцієнт прилипання, який в М разів перевищує коефіцієнт прилипання поверхні плоскої плити, яка Зо обмежує площу, еквівалентну отвору першого і другого захоплювальних насосів, причому М задовольняє нерівності 4«М«16.
9. Система за п. 5, причому поверхні першого і другого вакуумних насосів включають осаджену на них плівку титану.
10. Система за п. 5, причому перші і другі дивертори містять перший і другий внутрішні дивертори, поміщені між першою і другою формувальними секціями і камерою утримання, і додатково містять перший і другий зовнішні дивертори, зв'язані з першою і другою формувальними секціями, причому перша і друга формувальні секції поміщені між першим і другим внутрішніми диверторами і першим і другим зовнішніми диверторами.
11. Система за п. 10, яка додатково містить першу і другу осьові плазмові гармати, функціонально зв'язані з першими і другими внутрішніми і зовнішніми диверторами, першою і другою формувальними секціями і камерою утримання.
12. Система за п. 10, яка додатково містить дві або більше відхильних котушок, зв'язаних з камерою утримання.
13. Система за п. 5, причому формувальна секція містить побудовані з модулів формувальні системи для генерування ЕКС і її поступального переміщення до середньої площини камери утримання.
14. Система за п. 5, причому зміщувальні електроди включають одне або більше з: одного або більше точкових електродів, розташованих в межах камери утримання, для контакту з незамкненими силовими лініями; набору кільцевих електродів між камерою утримання і першою і другою формувальними секціями для заряджання далекограничних шарів потоку по азимутально симетричній схемі; множини концентрично поміщених електродів, розташованих в перших і других диверторах, для заряджання множини концентричних шарів потоку; і анодів плазмових гармат для перехоплення незамкненого потоку.
Ето звана нн нн високсефентнаний режим коту, Мих ой М і . КУ - і 24 їв чо ; пе х ин нжие жітті яті ке ж Висоховфективи і ст. "ке ще х о: ху т сзксге я ач яй режим в КОЖ ЕККВ(Пос-аламо Ж ї ке - ; і я и, А 5 я жа БО ЖРЕЖС (ЛосАламосї е щ Е КОТ ВІЗМ(ПоєАламюсІ в і о КО А ЕВХ (Ввівинитонсякий уківеронтет ж рі х КО отрути Ж ОБ Я АХ ЯЛонія, Бо ш с звичай СОЯ ВОСТЕ (Японк 1 : ЛЕИЧчайНИХ -. НЕ ож гтаку і са й: жим Ж к фо СОВА се зобу з ря акне В ї і ЩЕ мити вп і ак до ж поли її і - дини ВОЮ гр ! і ж--те й щ ! В І ва а ща ва Масштабування часу утримання рівня техніки, пах (КУрізк) ЇМО
ФЕК. же З ду АТАКА ИИАНН ї зв жд тпавичнУМ Нр х х упр ееееее ее пече я х й ща Бепардтрися зх ГлруМін іо випусюдєтькя ОХ х че г я ях І ах дрантя где диеееи дич, їн ши Я СТИ КТ рю в КК і ах с есе ! з км вух хо ни НН ОО а Я дн осонні Ен КО нн НІ бен ст фе УК ОЙ Мои КЕН и КПУ МОМ ли ЗЕ шо 0 ОБО й 0 ж и ет повну МІ у НН НИ а шо ! ка 7 і ! й СУ є " кх й В ї Ї ка АК ві лруанера КІ їз з У з . ди м х : х 14 , ; Ї ря ху ще м У -к зе х зда іх ЖЕ дв МЕ ков ек допететрееттттесееесетоосетстоя , І МОВЮКАЛЬНА МОСК дув Внутвноніх постів ГВС хг. я ах як ші вай шо воло Ж Б бі й УТВИМУВАЛЬНІ КОТУВКИ ПОСТІЙНОГО СТРУМУ тТОвКОвИИ и З ТІ й їх хе хом х Х ї р / / ; у | ; у СИ ее А с а й в д АТ ВОІВ ВІНК в в'я 8 ї й "У КХ. щі : і 7 У Дня З ПЕД ААААКАКААКАААКАААКЕ КАК со орки м р дими кутитуми я нянею В Моря тека Шу З З8ух обурені | че ЖЖ й і ві я І ія з я в ! і р я і і : і ! Вище ; ї ще З ; с х Ме зв 6 що жо Зб сю я зе як ж ХА ХХ хв у Ух х щк 5. ї Ж хв, чека ОА, Ж А ха як хх С З, Я У ЗАХО ОА СБК є з о в'я А Сх, Уа КУ Я ду МБ але СУ о ду,
ЗХ. 5 х, с ж ХЕ су Уа З он, -еа а ща 595 Оща бе хо
З А. ХА А ОВ ж М В с. хе а с Оу с У х ХЕ. З. ЕЕ, й 5 Х Сх В. У о х КК КЗ 5 х сх у ж ТО з Х
У. Б я в, хо її
Бір. ЗБ
Я дм тн х. як и де Х я я і 2 З їх КЗ х х : т ї я ИН : х я ОЇ : тож х у : ї Ж їх І ї ї х Її : ї : о: і ЗО я КК десни що ХК уз пк Б пержААААКАТ «М, сулиЖ Кк кАХЖАААНАЯ ч ту й ї : ї ї Ї : Ії : ї : ї І ї : : ї : І і ї : І і ї : І : ї : ї ї : ; З : : їх З ї : : 1 оте « 2 я ї ду ов 3 Ше Що Ї ки ЩЕ Ї т Ї Сай Її ж х і ш з р х «5 Х д ОО в 5 х х їх х К КЕ чих Тих. . ко КЗ ее У онялялятт, х Тр шИибхУ У чх її г хх ої ех я ххх « х хх їж Її МОХ ї х б то м Ух ЗІ
ФК. Зо ту с ВНУ : Ву АОричя У КУ Її ї ха х ен й «і г х ту Зі як, м А» зах дня чеку х дай. Кн й дк ЗЕ У ХМ х дО. ї ї Ї ї ЖК ? . й х ТК : у Н і х і х х з у ї Ох хай 2 і х х й х ї не 1: З ? х ї х ї ! і х ії А 1 у ї З дян і : диня і ко і й Це і і Ст хо ї ві Ж ож ох, ж ж Мо ТИ ДИ з х й ожоом Ж ожх х Кк: ЩІ і? іш шоб СК Ж па ож о йо жо ВЕ Н ик шен Хоб оплджжжюннннккккекекнн и 00 МЖК ЗИ Ж дн Мр їв рені ю 0 гомрехсю шежежфх: 0 Пр ТММ пок ВК У КОМ ТЕ Ж ях ПОЗ КВК х жим ВИ: х урну рт фертих : ях ов ож ші ВІ Ж ре АТ тях х З дя пі А АКТ Бу А ї ха ї її ї я ж і 3 її і То болжюнектх нен рнннн й: І т, у Кнтннннннртяї КоХеннннтвннї ин р ЕЕ ОК х х КЕ Ї х ї ів ооодо З У лишив ши ши ши ше: й Її ай ж Я уже о. АК я 415 и у іі Що КО у з і : окр ві з ї х айк кіно ОЇ хх т акУй яні 7 Ме си АК Ж мч у які я й пу 4 МОЙ Я мех Зх Уж ий к роОЗ5
В М до ЧА да сет ВОВ м вн ще - о ї є я що а х Н с К Ж ей жо КО і У «а, , пою КОСУ Н ї х шо Ой ОК Пс КК ЗУ й ЖК я ЗУ ще ше ШО, Ки по ДК ЗК Кк и й Б мі , я, Мо ЕВ Б ун кОу кВ ех. х УМХ хх Ї У и МКК ДАКК о ЗІ я та пк іесан шн пек, ; ие З ДК ВВ а «КТК а В ? й ЖК х Ме і. Бе 3 х же у СВК Х ри МКК Кт | : ж є ШН С и Ж МКК ж С БУ й Му АУД М Й мк Ух «ЯКІ ї ХХ МК і КК щ о, с м ПВ Комов ооо ЯК Ме ще я бе -к пух А ЕОМ У я Р о дя я о ОК в є Ек Ве ко х У одя КМ ВВ КЕ окіс о ян кі КК 7 р з І МОВ В Худ іх Я що : А МО ОК с ЩА ло ї пух Ж яю ТОК СЕ ж М СКК ї пиши и шо й БЕ Ж 1 У їоАЖ ПА о АК де Дн їх цк 3 Й а Ех дк М Сени х ЗК що КК ад ше Ух М УжЯ КА їх В зт. ЗЕ ЗМІЩЕННЯ , ЕЛЕ й ЗНЧНТЕГУАТТУЧЕ ЗЕТУЛЮВАННЯ Ме і ПРОПОРЦИНОЗНТЄХ РАНЬНЕ ВЕГУЛЮВАННІ ддтре ЗАНУЮВУ З й оно ; СИНАРОНІВЦІЇ РОСНОВНЕ ОБЕРНЕННЯ со ! й ! Е - / : ; ГОБМУВАЛЬНМХ - МОДУЛЬ: КОМДЕНЬ ; САТОРИ ОСНОВ. т ЕЕНЕН: Фея ого ОБЕРНЕННЯ, ПІДВІСКИ сх ДО сення ЗМІЩЕННЯ, | ФоРМУВАЛЬНИХ ПРОПОВЦІЯНОМ х труб Не КО І упо тттввти Хв ІНЕТРАЙВНОГО он й РЕГУЛЮВАННЯ, о щ ПЕРЕМИКАЧ, є ! Камня І ПАНЕЛЬ ЗАРЯДКИ рент кидання о МО І і Е РЕГУЛЮВАННЯ Е зни нак ПЕГРАДЬНЕ рЕГУВ ЖжАНН с 177 ПРОПОМ ЙНОЗНТЕГРАЛЬНЕ РЕГУПЮВІ ДЖЕРКНО сн і : Мих " ПАНСВНЕ ПОБРНЕКНЯ і (оживлення, ОСНОВНЕ ОБЕРНЕНІ РЕЛЕЙНІ РЕРЖЦЯТОВИ Ї кнкжнжжнккнкнкнннн ето в Ш- З й -к кя нн ж а с я рок ж В і ех - ї. ЖБК нн | мий аа - Сонет є СХЕМИ ЗАПУСКУ ГОКИДАННЯ ЗАВЯДУ ко : | / о х я 1 до і ху, і м : Бо с ! : ДЕК і їж Ме. їй ! : іх За во ие ж з. і і й Же З иа є я «ПЕК КИ нн ло ри ПЕРЕМИКАЧІ ! п В М, пе ох ОО і Ще Ах З ви - ї хх В ще . і ЦКУ Ах ях М ї є СОДАСНКТКви і ОК ЕІ КВ кВ ж. поро Й ще з п ве В т, Щщ с си : з У, ще ше М їх І ї о Не БО хх ПО м КОВО чи Ше 7 КК БО ЗАМ не Зх Ах дике їв жд.
я й ЩО де р «А: ГЕО» лЕ ме ; Ше с поч о Ух ие й шу З БЕК УЖ СОУ. и ШК Я ти и Є ей Я Є сх з ДО М ОЙ Кох в у ОО я ОБ До А З СКК ДОК хек В ух У оку х ОНИ Кг ме Ж ХХ ох ЕНН сих: З «ех - п п От ке ве о МИ ххх З, Пе КК Кк УКХ У С, о Китхх В М х 7 ху ЕЕ ж фе В а ох днк а г ех ОМ ке - й «з а: Мо и ООРУКОИ ВЕК ХМ Он и Ж оди «ОХ Щ Ма ку ЗК ї па Кк з У Ку сов Я : ЗМ ОС Фі І Ж з х о" я ДОВ МКК : щ ї У й Кк З -1 АН Кн К ее «Ок ЕКО і Ач: ї ОХ МКК пог ї Ж І : ЗХ, ка Ки у Ж Її У лк СЕ Ба : ою ' ЗИ й Н Х ОМ я ту З -З Ї ОХ ше одн "У Е ЩЕ зн У й 7 8 : Хе У ' - о : с ВТ г У м ВО й, і З-к в в Ух ех у ке пови вки зе чо щ гу А й ке ке хх 77 см щи Соя ж т. Яд в Оя З -х о даю ит ще Ко о
ФІГ. 8 7 в МУ тк септілчкх оу ут зем мігатис в А УНН КОГЕННИЄ щ і ЕФРИЖЕРАТОЙ о я вх сон ВК ме ЩО я т ще т ік г ек? дитнння ту п ш- Ей БЕ ЖК сов ро Б то а Х Го БК ВАНЕМЕРЮНАСТЮИ їх З БО ПОН Х ПЕ НАСОС «ее ГУЖК о КІ - ох ри у Зшю ЗМ хх ЗХ ЗАПИ у птн Ве о : 6 од ЗАПІРНН НН НАВАН ви 0 ах: пай рення г ДІКОВАЛЬНИЙ я ЕЕ ММК ЗЕМ Ша пектттнтн ах ВАК м й ЕМ ЗИ Ех З ПОТ ТЬ КВ и ЖЕ нн ПРИС К 5 о ще шій Я ДЖЕРЕЛО ВЧ КАМИ же ек, Ко ся тов М СН чК як щі друже де т а Дт 5 їж Хе : я и ще м хх МА НИЙ ВКА : п дХ НО Мо джем ен ЗАГНИНиИ тт г дин х ЗИСК нЕ ХХ її : ль ЩЕ еоОдииу ЯК ве я щи МОМея По Б лм шк . дих х її п ЖІ НАЙ Ко с. ДО ков т Же ші ВО і нд, я шана вух т а БОЇ Он Е ДЖЕРЕНО гУНі снення Же ВЕЖ ша Кв ПРИСКОРЮВАЇ шо ЗК ел чи див ПРКСКОРЮДАНЬМ СІ ще ня тя 5 с лжнжкнкжтнкннн ше АЛЬНЕ СПК УК МЕМ я о МИИКе ДОП оо х ї ХА Конні Пт дтотитдх кж МЕМТРАТЗАТО й нн Й КВХИНОВАННЯВ , РАПЗАТОВ КИ 5 мис Ще т джен АЕН МАКИ пх ши тк не пада Шк т ті и жене я и т саме С вини м их МЯЛИ: Те ОгЛИНеч ЧІВ ФІко т ВЕВХЕНЦНЖЕ М НЖЕК пек е ММТРАДЬНЯХ УЧ що ІК ГУК. М Кт ЕД То рев» жк ВІНИК ЖАВ НЕЙ і ! с з і -х є шк ПЕЙхвАтьних пучків дог дн іс код х з хх пУчЕ у ОГЛИНАМ ; ВО ве В Те Ся НЕЙТРАЛЬНИХ Я ле СК: а з. КІ АС; ко ож ча 8 с по КЕ у спчка Й ке Я щі Ве, ОО те. І Кей Бе Са о, ві В ОВ ще ТВ, ЗВ яв Зк Мом а звів ко ве Ух З х их НОВ домо АК МОХ еВ А скувах ОО пи у що щі тд СК о о у ПЕВ Дек, УОСМаХ ко тя ; р ни Б он 7 ММ о вм с щЙ МК СОКУ у ше З ТО у КТ ди и дек Ох хх х г МОМ "ооденеи ос ке оо Кевін їі ( У я КЕ ем овен т СИ Ж ною» Ен й шк ХХ ТИ СС. Ка У ОА ет Те сов із зе В МЕЖ си од Анна я ОО А Ек в МЕ і ай сі Ек Ек Ки НН що й КК ск сн ї тоне ік У жур ся ВВ ий р а мех МУ А го и шо ах ОК сг х С тджнос СА их КК Ко У АК ке Щи ча шия щи кі я У де й ї з БЕХ о сення ще ОА . ПЕВ ЗЕ АМЕБА У опппнннннннняя ВА УТРИМАННЯ кллкс че м УТИМУВАВННА КОТУ,
Ік. З АКОТ НИКА ПОСТІВ СТРУДУ СллягО йде ВіУ ха я АТО ЖИ дк Й ки дах х - КК а Ку Й гр ро В вк В ТЕ пев яв ДЕ ни НК й ДЕ АЖ йде й ас С Я ОО За ща КИ ТЕ сх я иа из і и вия ї їй АБИ зу к м пиву / лк й о дл :. З ся вк я ме ; я ті -а з . І В В і Н З се ТВ , Фр ок Фе оку ою рве, і ї. вч Ці ЩЕ ! ее М ЩО в 4 ; кв і ЕЕ ТС 8-х а КЗ ЗВ Як Я ет своею а я ки, КВ Со ак в її . поко їх з У доня Д, М : ХЕ х он. З х оті ї; Ж ку 7 тн. З ї ІД ня Ко бою ; ща ваг р Не є і у я с и що: зе - ї Я їй оЯ 3 і я Х хе Ся І я З Ех ха Ух хе и СУ 2 ТА ся Х ск А х су 5 с роя ІК В о ГИВЕВТОРНІ КОТУШКИ ПОСТІЙНОГО СУМУ СК З Ем ВАКУИКВ, в З рай КРЕЮХЕННКЮ ВАКУУМНИХ п о КИ НАСОС : соус че пан КТ за БИПЕРНИК ТИТАНУ енішу И т чом, ЩО ях і ЯК а дя ха см АХ - з а о зо м ш У ОХ С ее я «пп Ан ск ккд те Одже оон ЗА ча ВУЗОЛ МАГНИНИХ ДОЄРЖАЛЬНИХ. Ярич, «Йде Кв х А В ПРОБОК Її 8, і. « І Е як Не х й іо У М пе с - МАША 13 ди НТ Ен ну ДОКАМЕРИ шк РТ А им ВВ о ЕХ ФОРМУВАННЯ 1 5 НІ БИ дон "Ж ку пух З ккулнн м Ша ще Аа м у їси о ї В ТЕ Те З Е Ж ТП й ії НН й, ДЕ Б НЕ вити І, зва Хе р Ке и Бі їх рони є «ду ща Я а їх ППАЖНОВА ГАРМАТА Ж річ Би с Є БУ е Е а у пи о «ий ЯК Ж ся Й Ж ї НЯ ІТК В ни я І о З КАМЕРА ЛИВЕРТОВІЮ зе
Кг. З ка ДЗЕРКАЛЬНЕ КОТУШКИ ПОСТИ СТРУМУ т ту лю у 1 ЯК і ення У ї ; : винен кА х. 7 з. ії С в - : : ї я юн і Н і ї Я і і і ! її і і їй ! си бекон НУ Фі В ТК ееевмоевессосефі ДО центра КАМЕРИ : я НК: 7 ДО ЦЕНТРА ФОР МУВАВЬНОЇ ТУДИ УТРИМАННЯ БК и І КВ Б і ї -ї Е і. ; ї і М 00000 ФОРМУВАЛЬНА КВАРЦОВА ТРУБА чк і Соооо р о кс джин . Е ї о НК жо УНК ХАКЕРИ УМА : і Ес оссжтктндкек те нн х ичлц СТНКАЖАЮЕРИ УТРИМАННЯ 1 Я. ЩО КІЛЬЦЕВИЙ ЗМІЩУВАЙЬНИЙ БНЕКТРОД ; ін ! і Я ВО і ; т ее ни чи княжни чик як оддддаллппннА АН НА ААНННААААААА Ан КОЛЮВаЛЬНАСНЮОРА ЕПЕКТРОДА
ФЕК.
ння ння мин пе Й КЕ; у 134 шко "
З. в свв. іфсююх - я: дону охо х Н геї доб сови я іден кдд ко й ; дної о ї плхкжнккккнн кі панк кинккнннчк ких нання дини пед ; її Щ бик і с т х пт у ке скит, М шщх З їх , я жк де ж | ї ОСС боб ою кни лпннпокияннн дет етіннеіннті нн кю ВК Код юк нтннлн ве Б пе я ж т ТЗ в 18 Ї с ча й Мк Ї ш ВА НЕ й ки ння З Бощя ре ск | ; ну МВ З й. зе з 5 їй с 00 БМК Ка З СЕ Її. пекндники г вом, г : пед квинятнянях і г кт : БАХА УААН г Ме ЛАДИ х Її шоб ви ; я-ї ОК ЯК кое, й : в ЩЕ ооо ок ниття плн тити Сон Во вн пода ви вд в ЗА їй Чо вне І З ск коло Кен. у ; й ад й з, шк В ее нн нн нин од | г ІЙ і ЗВ мкс І
АЖ. сосошнковую Ге мя пев ММ КАКАО АКА КУКА УС АКАКЯЯ є У Хо да ж х -в в -2 й й 4 в ОСЬОВА ВІДСТАНЬ Мі
ЕК. 32 потоку що в що Дт и ОМ ЕЧ : : : : ЩЕ уже Кк ї Ї : : НЕ х «тр КМ : : й 1 що х КУ Е Ей у : : : і ще хі ПОТ : : гі г Го ях Бинт я дитин ї Є «ЕЕ т : еко Бе сов 4 Що; ща х ! : : вас м 1 я із з т ї : ЕК НН ур. її Се ще З ее шефи м дн нити нини нин рн лька т : : : й гі ке Ки кі І їі ек ЗК : : ї т ТТ ква КЕ : : : : хи Ж дак Ві : : : а ! па п що п 8 їа їх Ке ЗЕ : : : НЕ їх Е : : : і Ж їх : : : гі зно» З вк : : : : : і Ж кої. т - ї : ті о а Ж. по Тнинниях : 4 ме Ж МОХ Кк и ом КІ Ки кв : їх ці ка ХК і : г ткктдекв нн : гі Ух МД ОК нянні МК 14 ЩЕ - : : : Я я НН ще що М : : : : б к ще те Ж па Б їх І . ЕВ : : : Ото коло у В що 5 Єнн ння сювосою : ТР ЖЕ що Щ я КК оввя ЕЕ зе Ду І, І АК ОВ ІК ті. ї3с й ВО п В с з в ш НТ ОК Ох ГІЯ сх КЕ ТК о БІО па. ЖИВИ н и ППП ких І І С ШУ ПО : - М км Ул КВ КО І дах : -55 ЗОМ ні В ї У ще А Ж в Те У «ЕЕ вк : : : : ук ЩО я п : ї ї : 5 і ші ом кков ки щ і сх й 7 Я с Е. с ї х же з ас -. з Ї
ФІК. 358 2. З Бери пато па КЕ шк М ад Я. ї 7 : : з о ВН « їх : ї : : я хі ШО ЗД Дитини В Ох ! ї " : Не са ЩО бонети -- за БЕ зя з ше за 1 фр, ЗАСЯМС!
вк змекня поннно їм ве оку я «8 З Я ддкню сеї СУ З З ЕЗ х гЗ х в оон нуніенжетчннинкчу за днк ча . З Без З й т 8 З Х а : дк 8 , і ік р щИ що зе і п - во, ОК кмменнсовоооомомкоменсовевовмсвно? йорж то а СЯ -З в К- КУ КУ к 5 я шк іх дЯМС щш ке КЗ в: й з х З к варт тет Б заз і«оа Ме хЕ Ка д і й З КІ ву шин нн В В ОВ ОТО ЛТОООЛЛЛОВОВ -
ва. і«ба Мо ТК клон мокко мно - с - В з 5 їх нн В В В ВВ ПЛОВ ЛВ ВО ОО ОО В ОКО ОВО вен . із ме ВО нен Моно ддкнгннни а КЗ -ї 2 т т ї ОСЬОВЕ ПОЛОЖЕННЯ, 2 В)
фіт. 34 Кан их За МК У дили ууу ння дн кткккнки де кА м ВЕРХНЯ НАПРИМНА КОТИК «й ем и Мо с щу Ж я се ко і у ; ве се Мах пп лтнннкнкь 3; б; - й Ки В жй хв Ха алея ммА КОТУ ! | | ; Ї іти се. НЕ і НАПЕЯМНА БОТУШИА 1 З УА тя а я зх де є: во сою Же Хе ь А Наш вх ТЕ У ОБ В сюжн КЕ пе укосу ще чо ЗАМ сх А Би о ДЛ Я од и ев З СКК їх Ко ско од от КВК й о ШЕУ У ІБ й КАМЕРА УТИЙМАННЯ ща " т З НЯ КАК І 4 й | ; в а же ві ще меня и АН А й КИЖНЯ НАПРЯМНА КОТУШКА То ІК ях іх 58) есе аа ДЗЕРКАЛЬНЕ КОТУШКУ ЯПОГИ
Ір. її
Ж і Відсутність пучко зх ї М ще Пен 1 В йо і ; : -Щ зв: оо 1 зг. ї85 шо ; і е : і і ж з : ЕЕ за у і Кк Б : В нм оклади дмяехсннссюооєосню сх ннхххнюххнююхнисн У ї ше 5 сту учих 1 я. Н Хі Пам включені протягом ВОМС Фзуг. ів з у ех й ! -- з : щих х : дк ; : І Жов : рАШВЯ і і ше :
В . ї Пучки вктючеан протном ос «ж ХМ ОК, ї ЯЕ, ння, Е хх : ох : їх ї ї ТЗ З 8 Шо : екю тк і г, зи У: 9 : о ще х : ОЬ с і ща і Ж Пучки включені протяпм якос СКС оо " : ОЗ Ши : Фетр. 150 Фо б і то ЕК о : я б !
З. В і : МОНЕ ку : Тез | М щі: й Б 1 14 за 34 масіме Зб
Друк кутку юю ї У, пики г; з ях їх о Кк з Фо Пучки включені протягом З Ме Відсутність С пробоютармай
ФІК. ВІК Б АК ! ш і х і шо за і ' є у : Ж ; : ОБ сх х ; іо, : і й па 18 за зо Кк СЕ зн ан інн. тро ро Пучки включені протягом З мо пробки
Фр. ув х ї Ша : З жі Ш- і МО І в у : Б зн ; : є хх В - і ро х І
КО. ; В ще 18 15 А а кА КТ У ок ке икеиууу яккннн с Пучки включені протягом З мо пробки ОЦЕ Пн празмові Ж ї мое диккат тт. ї7 ж За. вач тармати х ; Ша В ж і ШОВ ! І ж : ; ок і Е ВДЕ, редут ння р чн опа тт то нн тп отпотнччн о -і Пучки включені протягом Зо пробки я гармата ї МЕ т . . -е о ши «гетарування в: не 4 ух. Ктю ЩО. й і Що да) о і ЯКА : І : : а ДМ осонснюскттотод неттвттєттттсвеодеттеветютетсетнтюдотент тенет нененнниюс Чарїмо)
Он шко ше ще кад екю ппдеюве ун ВІ : ! | я
ФР. ЯВИ ОО ду он ан Б : : ве ! Не ОО, її : : : : ж, : НЕ С аж: : 1. : : нос ! : ЖИ З ран юн яні ун ут г В 14 : : : : Не а п б їя ОВ 36 35 ТІЇ : Ще НИ : : : жк, зВя сВаехО її : : : : : ' НЯ я ОЙ ок : : : : г оз Бош но : г що ще а 53 35 53 85 З жа 52 У пн нннненннтннннннну о ВВ 85 ше : : пол ав ве Пл ст . За її. М Я що 5 МОМ, є ММ: ях ут у у м ут ту у тут тт у ту ви ут клю ув М ту пуву тут путь воль пот кі пулу путі, по пу ох зу у ут туту я, шк ошжах 00 ща о а5 26 3я мк; 3 ке БЕ. ! : : вро ЯОофрідднн опт В або в 30 зб 80 25 Зо зв Кг ЧАС 8, : А хаос Ффезо5 й ве шк І А і о адКА КИ й к да че е п дало даннааанккннннф ннкккчкчкнннк одиничну еккнкчанннніни адкнннкнлндакнно нання о 2 1 15 28 а КІ 35 Тет» ( Вт І фіг. 19 тиж 2 РУКУ у ТТ У У У У У У У КУ У У У У У у п ун т дек РОБОЧІ ХАРАКТЕРИСТИКИ ЕМО ТКИМУТЕ ПУЧКИ 0СВЖАНЬО ПУЧКИ КЕТКАЛЬМИХ ЗМІННОЮ КУ 00 у ди х сет ово ЇХ хх хх хек топ ен Т.В р зе мае ВМП ХАБАКТЕКИСТИКИ ЕНН м ЗА ОЖЕ х стеки іх о іх пу : йто се теж ПОХИЛІ ПУЧЕИ - 1 х Ф Оля жк я . Ат ОВ г пед т. пови ш кн х і ше ЕОР Мель нЕТРАЛЬНИХ ПУЧКЯ ПЕК ЕОМ Тека МИ хх ї хх й о ЕЕ ВИ КЕ КЕШ ДЕК ШК Ши Зі ТУ ок АКА АКАД А АА АХ УК А КК АК УВК КН плялялялллжая нний її їх 1 ї ї ї. п У т дети часі ж. 2 шо ТДТУ у няння шої ПКУ АС МИТ МОН ї ах ві Вп ом уві тя ЖІ ами х ї ії і
ВЕК. ЯКО І ЗВЕНУКННЯ НО с Ж му т к і ї ОБР ї Фе нд, х : Її Да зи ФЕ ПОХМХМИММПМПІМЛКАНМЛ ї ї у ес : т : шо от ЗД КТ ди вВИЙ : ї : те ОТ ЗХ Ж, і ДО МВВ пн кн птн нення нкткнитинюкш юки екв ТА вдуну А А А К А те ші й шими жуки. Жид іди Її фФтК. ВА Ж м см п в ; Її МИ х : : : т : і пн нн нин нн НН НН НН ОО ОІППО ОВО хи, дів ХОМ Хнкнижн : : ї
ЗК. ЯМ г ОМ ен ж і ШЕ ом : : ПОСТИ В ПД ЯКИМ м, : ХЕ М 7 : : І: йоду в МК
ФІГ. І Я м Шрек тут Ти КК Ж нн Ал Життя і ШУ З еВ ЕВ Ж, ії час ис пи плас АЗИ ОТВІР ДЯ ІНЖЕКЦІЇ ГАЗУ м У. І о 7 г їх Зк тв пу у : 1: 3: ЗОБНИЦНИ ЕНЕКТРОД ші 1: ї пу М З дик 3 22 7 МКК денну КИ фун : т : Продан ї 1: ХЕ Ж і ТКУ РІ 1: 3: х Ж: Н : ї їх Ж: : ї з Ж І І ІЧ т т 15 Мо ояннвннк |. каджкАК АКА АХАААКАХ ААУ АААКМКАКААК МАЛ МВА М плн: х ї іх : ТК: ен в Кн і РРО нн и : і і АД А КК ХК АКА ААУ Кк уник тек ГРЕЮ "УК т век ї ї . Ір ї
3 . ОХ : : 1: пої Ди итимь Х о - ї Зако З: ; Божі я 7 пИМ бли ТЕМ -х анна хх ГІ т ЕЕ хи ТІ ВІК . ТІ ОТ Кг З РИСІ сх пе жан у Ох Рок ВНУТРІШНІЙ КОТУШКА ЗМІЩЕННЯ і ії ЕЛЕКТРОД Мк УА тк т ЕЛЕКТРИЧНИЙ п ВОЗИ деревних ЗОВНІШНЯ стае Уєн суб же ЕЛЕКТРОД. ОТ ДЯЯ МО з зу и з 238 ЖЕКЦНТАЗУ ОС ЖЕ шити - за Ку скан ха жо та зу М де т од, Ки МКК вк КТ . хх Мем, су й й ; ТК «Я ЩІ З ЕЕ юс іні зв МК ІЗ ; Ех ЗО Боже ОХ Її їх Кок. ТОК тях : ІІ ою ок 1 І НАВ : ех КК ех ОХ кі В Норм юю й її 5 Кі ті у ЖИ Ю. юю п Ком Хо. секр ЯК Хо Мк УМ кос, М. КВ Ж ум ди 00 ек лик ПД нн КК те ОЗ СК тд у Км нин ех Кей І в Й о Й пхкки й, ТК ее ІШ ККУ, УК жк тд, кують А ЖИ У - жк Мр кн я муж У ше ее я у ся г ї ТУ г М ОО - НО Ж пив ке : ти Ж: ВНУТРІШНІЙ | сто епі зов МКМ ЕПЕКТА:С ад рих ВІВ Ж КЕ Я сти. . БІ БЕ КОТУШКА Ж БІ зкжипроАия тіки у хе 235 МЕ ЗМІЩЕННЯ ЕЛЕКТРИЧНИЙ 98 туги РОЗРИВ
ФІГ. ТУ
ІНЖЕКТОР КОМПАКТНОГО - тиху . о . ГОРОДУ УТРИМУВАЛЬНА Ех ще г, ра че ка я; КОТШУКА ІНЖЕКТОР дж УТ рАДЬН ою ка я НЕЙТРАЛЬНИХ ще «й й Фо ТС в ПУЧКІВ ВА йо вет» же Ж о ро с З З вою УЧИ а й з ж и, пе я ПЕ. зв фе й Кв не Б сені ОК пре В и: В, ВОК ша У Б тя ЩА оо Та, їж : я Фш е Бе кн Я а ве і ОО о В Ох З ї Є 5 Май Її С ЕЙ Бе о : КО Кия АХ КВ Ку Ж ОК ж КХ Й я й й їб3 Кох. й У т, З «5 же ак КАМЕРА УТРИМАННЯ - теорій же Ко т «Жде пе НЖЕКТОР КОЖПАКТНОГО ТОРОЩДУ ЖЕ, ЗА ІНЖЕКТОР КОМПАКТНОГО ОБУ п мтріавяці В ТОРСІДУ шк УТРИМУВАНЬНА поро шк Що х УК ІНЖЕКТОР Н 313 КОТШУКА НЕЙТЕАЛЬНИХ : ож п. ОКХ, МО КАК нн В и оз г і МАК С дн сих з ї х МЕЖ г є щи Жіш ПІВ» п І ЩЕ оз з о: я В 5 . КВ ММК м ЕЕ Ж ВК МК іс вк; В М. пишними СН В ! ве Б се 0 НВ у еМ ще в я «АК че ее Ж он я . ся МЕ п й шо КАМЕРА УТРИМАННЯ -- ог Х х т її ї Ха 33. ї -к учити уяв ие -
вхт. 235
Р т ЗОВНІНИйХ т ЗОВНІШНІ ЕБЕКТР дебжровА ЗВННИНИ ЕЛЕКТРО ОТВІР ДЛЯ НЖЕКЦ йоо о . Е В В «ци ТРУБА котаА ДРЕВО ТРИ Я їй елект Е М з т п З Іс дет оо В шк В ше ЯК нн У Шо ЕЕ «го : І ТОБЕЕККККЕН Я ий сб ов пуск ТВ нн Я З по МК МЕ я ІАЕ ке я Ї фа З ж Ще ни - ДІВГНОСТИЧНИЙ з. КОТУШКА д ост ЯН он 0 КОТУШКА ЗМІЩЕННЯ --ВНУТЕДННІЙ ЕЛЕКТРОД
ФІ. А ДРЕЙФОВА еру ніздиУи трука х ЗОБНІЦНІЙ ЕЛЕКТРОД сх з заг . вже Щі пе - сх ЗОТУНКА РЕЙСИ У й ку Же сви . СТВ для ЖЕК ьо пооовалня М сис в Ве он нн ЕЕ ТУ Зчреивть, Пенн У и юлеуя ПО ОВК ву ЗКУ нн Ж ма СОБОЮ СВ корт - ДІАГНОСТИЧНИЙ с дя св я у КО хотяцка вущенна ВНУТРЕВНИ ЕЛЕКТРОД ФтІг. ліва пий КТ ше ЗХ і й шт Щ й і ши фо 7 хе КТ с йу Б Ян за і я ко Н ОКОМ ни ЕК з СИ М ее шт Шк соя и і Ж ше М КК ж | ! одне еВ ОО і ї5 Межу шен шо С їв щі се А г - с; ее ї, З Ко ШО ючих Т х Ух й ї х х Я у ше що х чи й ев т ШИ хг. 85. м зве Уч ВО ЗОХ --х ку МЕЖ СО ово но 0 до Тен МВ ит МОЖЕ ПОШАНИ В ки М вий МВ КЕ Коні 7 бо в МОМ - г 2 се о я ЩЕ х дек Ж дон ек, г УВКООМИ ре М я ви : Ко х Ж ши й У 7 Я ї шк пор - й У т я С 5 Хі Оп я зо : й МТ ЕХ а, : Треті БИ Ж лячєфон й Креон : дк МЖК о г 00 БОЖОЮ ик КВК : в: НН шк : ж дв В ІІ НЕО: : - ЕНН БІТ НОЇ : Ме Бойове БІ ММ : хм Ж ОО обл ххх х, жов: Ж ОБОВ: ДАХ з : ЩИРО Б Ан и КК х : БОБ м А т Ху В ож жЖ лі щ. Х че Е А ний Я у й ОК ІВ ХХ, : МКМ М шу ЖИМ ї ЕХ КЗ ди Ка ГІ ог ши и нн и . ЗЕ СЕ Ол од З: т Ше ЖК Ох Ж зо Лич ую х її У м р п ; жо Б Ох й тож Же Ах х сов Ж ОХ т з да тону ОН, Зо і . шоу «и ХЕ щі. Ж Ал є Мен ння ВО джу. сек МК ОВя «ОК няня ВОВОЕВИЙ ую ши І 4
ІК.
ФІГ. 26 : Щільність газу в диварторах : БЖ С нм нн вн нн нин : же - ї : им ав ї : ї : х чан пиття Є ї : : : : їжеенк Зовнішній ДиБертою Ї : : 1 : ї ? Я ї ї І : ї Кк ї : ї секту Х дл, рин м Е ї : Я сс ре» Внутрішні дивертою і : смак У : за УК : 1 - І ї ку ї ї : б : : шк" ох ЖК Ки ЖК. жк ву ї Ж : Ї : щи з ет КО : Ро То ТО хе жк : ОО : ії е об ї ож кі І Гу : їх І чо ї ї І 1: : ак т ку 1 є ож ЗАЯВ НЕ я - ї йо : - ї А : ж ї ї ек, ї ОЕ : є Її І бо І го : е : : Гол : то «тд ТОК. ї ї : ооо Б : » : : : сою / : : Й ї ї : "
' 1. : | : : У; : : : : . ; : : ! ї « ї : : І : жов З : : : В х за 35 р ї ди бкінУ : Часімо)
ХР. З.
дини ВЕ з32 я ЗІ мас диню, й у т о ге 5 з в ш х дюни Зх шк Й ї й НАУ пд ВІ ее і З джин Ж оду Н : ж з їж 1 Жан ХЕ АКАЦИТ ї її Роже х же ї т: ц т їх : «де 1 т ше : Ж кж ї ї : ЗІ ік ОК КО їЕ дидиттттттттттттттитнй 3 : ля Ех К си - їх : : їі жк НБУ я Екпівалент а 3 хо жхй ру Ї т: а. ЦЕ т є 3 і м : . КОД хх КБ Шеуюню, нн К ЕЗ «е : ТІ ХК - У ї : хо ; : й Кк х св ї х ке з т ж. : і з її З е хх х Н о їх і дютон сеї Ше Ж джек ен ОА х я у: х ; 5 « МУ г . » аву віт. 28 зд нттнтттсттттттт тт тт тт тт тки фар шення ЕВНЖТИВНИЙ КОВІ ПРИЛИПАННЯ (КП ФОМА З. оосонниннннння 7 р т. щи сану ЮК: : То корки для різних плопуух поверхонь ПВ ОС: : -її Фронт ФА. : БОЯ дво о текжтлч нку КУКЯ КВК КИ МУКИ уми ВМ ВК еи ки лим іа В що вся бинт уки Км ХК нка, ет ВМ СК ї Те : х «а кт. : : : 10203 не : к : ах : : її Ро: Ж ооде йх Е і ЕВ ОО Ж т ПК ДЕЖУКИ ЖЖ ЖИ Ме ВКФ ДИНЧЕ Й КЕР КК ЖК тест ей я, вк А сжйю ж : : : ОХ Вася вия У У ї ї з : ка : ; шою во лно яко якою тек ЗК : - : кожи и, жк ж й Її Ж : з ж : : прощ Ж стою дя С ДЕК КК юютААКААААТЯЯ т ох Не її : доли : : : ш мирі Ж ока : ї : і ож жи : : : ї : : ик : ; й ж їх : ї т ща 1 же сей ше й што ЗАВ т ко Оу Не оч, Гм, ший х мн - МОЖ дико М КТ, я дня да ар за МАК чу -- ЖК ХЕХ ЗАВ кові ЗУ хо, МО ЖЖ ЖЕ НЯ шко с Кемкя Фі Клей 5-3 Кирлку , А Плоске Куй КО ЗТ КщЮВВ «А Коробка п Коровка поверхня н й с ? Віднешщення глябини до вирени А заг. ча ши ЗВО нн Шия в сем Зав ро ня зо Де ; кВ Я Ма: тех зн : п НК ОК і І ВМ ух І Птн сеї й І М ЗАД кн Ї сек в ВКМ: г ня ня ОКО Ех шншНй в , : Ка 1 лк Я ч І тОЗУжЖЕТІ ХІІІ ен : | іс НЕК Аня : : ВОК и ку Кз ЗЕ ни МАВ Я : і до ах п ТОМЕТК: 3 ча Е МЕН і кни : І ОМ М: зйи КЕ ВН ех а т : І ВК мі Ма ЗО хі У ак к Ї І ее ху ЕХ й хе їн УЖ зи : ВОЛІ ЗА ЕІ шен Ме рн дан ОВ зве с і док хо ям ої кину КК С 235 : Не : ПЕ Ко Я : : 0 І : ГЕ КИ М. : БО ОК: з3а Мдуин вв фі. 202
Пофтдидтттякттовкопия тя тет тю кт чн ю в атя т Кт вк яння ен 7 т ож Збіпеіений КП для форми самепадівного зуба піших Від яЗо до 80; петнинння ої дж оопетеннннннстютюттт вн тні тнттянтнт речи: : " : Н Ме мавки и НИ : ртуть ? вве як іо ефе : і їх ш ШУ : мою : : . : і : важ - аЕЖТХ Жив - - джи юні хх те ее Ж жа ст т жести сви й ЗЕ опо тт Ба Бе Флюс мюсяоля хх мхосхозд днини 0ОВЕВЮ : . де щ ш ІК: юю МЕНЮ нн. пд ово зва : я меш Т.В йо : що ї я : - : : т її Зее : км й не ВВ ппппподдкшяю сяк СБ З ях . ил . о дкпнккнквоювотевпнентненненяК ОО ЩЕ МК сил мили АХ Стих ти ск оррдіднеюня! Шлях і п - 2о- : а З КА амНЕ рн ! : ее. В : : ї : : підняті Ще шк ок іта : г вх т де : ду : ше М в 2 з як Відношення глибйиня до ширини ис. Х. до шт ВВ як ЗИ ЖК Ви - р У Кот щих ЗХ з х г Є я с У менти ДУ Кк у ж ї дини ВВ и" Зо шия в ман тя тн, «ВЕК у скео ху. ве ее сен сен недо « на ню що Бери: фай Ко Ж. що ! Пд в дут ї КЕКВ ЕВ: дь-т, В і песосоцеце не КОЕВ се КА Вони ! ЕКО Ві ООБЕ я КО о. одКеИВИТ і ПОМ: КІМН З оцет ІВ КУ іжетнйдннну, : і ащооя п ї о. : ЩО ВО : В ЕОР Бор : ОН ню ВОНО М зі БЕК ; МЕ ВІ В ЩО Ох 32 я : ОМ КОМІ У ІК ОК КОТУ, п пИжоат МІВ У : САМ нав ВКМ Я ВН Вч Я шшн :: КІ ОВК ТИ ою КУ А ЗМ БК 2 Я ЩО кими, тк ДЕК У МК ди в : й МОЖ чу у КК и ХО нні ВОНО у в Ві МЕ шо Одетя ШІ ння се З обзор Я де щої Пе ден не х як 7 Кк т в ОВК М зва я З ха : х - ЗБЕ х за ще віт. М
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201662418119P | 2016-11-04 | 2016-11-04 | |
PCT/US2017/060255 WO2018085798A1 (en) | 2016-11-04 | 2017-11-06 | Systems and methods for improved sustainment of a high performance frc with multi-scaled capture type vacuum pumping |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
UA127712C2 true UA127712C2 (uk) | 2023-12-13 |
Family
ID=62076452
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
UAA201906091A UA127712C2 (uk) | 2016-11-04 | 2017-11-06 | Системи і способи поліпшеної підтримки високоефективної конфігурації з оберненим полем з вакуумуванням із захопленням багатомасштабного типу |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US11211172B2 (uk) |
EP (1) | EP3535763B1 (uk) |
JP (2) | JP7365693B2 (uk) |
KR (1) | KR20190073544A (uk) |
CN (1) | CN110100287B (uk) |
AU (2) | AU2017355652B2 (uk) |
BR (1) | BR112019009034A2 (uk) |
CA (1) | CA3041862A1 (uk) |
EA (1) | EA201991117A1 (uk) |
IL (1) | IL266359B2 (uk) |
MX (1) | MX2019005262A (uk) |
SA (1) | SA519401705B1 (uk) |
SG (1) | SG11201903447WA (uk) |
UA (1) | UA127712C2 (uk) |
WO (1) | WO2018085798A1 (uk) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11515050B1 (en) * | 2019-11-22 | 2022-11-29 | X Development Llc | Mitigating plasma instability |
US11049619B1 (en) * | 2019-12-23 | 2021-06-29 | Lockheed Martin Corporation | Plasma creation and heating via magnetic reconnection in an encapsulated linear ring cusp |
EP4091411A4 (en) * | 2020-01-13 | 2024-01-17 | TAE Technologies, Inc. | SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING AND MAINTAINING HIGH ENERGY AND HIGH TEMPERATURE FRC PLASMA USING SPHEROMAC FUSION AND NEUTRAL BEAM INJECTION |
WO2022051514A2 (en) * | 2020-09-02 | 2022-03-10 | Langtry Robin | Orbital confinement fusion device |
Family Cites Families (164)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3120470A (en) | 1954-04-13 | 1964-02-04 | Donald H Imhoff | Method of producing neutrons |
US3170841A (en) | 1954-07-14 | 1965-02-23 | Richard F Post | Pyrotron thermonuclear reactor and process |
US2855696A (en) * | 1957-04-15 | 1958-10-14 | Malcolm R Griswold | Magnetic compasses |
US3071525A (en) | 1958-08-19 | 1963-01-01 | Nicholas C Christofilos | Method and apparatus for producing thermonuclear reactions |
US3036963A (en) | 1960-01-25 | 1962-05-29 | Nicholas C Christofilos | Method and apparatus for injecting and trapping electrons in a magnetic field |
NL248482A (uk) | 1960-02-26 | |||
US3182213A (en) | 1961-06-01 | 1965-05-04 | Avco Corp | Magnetohydrodynamic generator |
US3132996A (en) | 1962-12-10 | 1964-05-12 | William R Baker | Contra-rotating plasma system |
US3339106A (en) * | 1965-05-28 | 1967-08-29 | Canadian Patents Dev | Ionization vacuum pump of the orbitron type having a porous annular grid electrode |
US3386883A (en) | 1966-05-13 | 1968-06-04 | Itt | Method and apparatus for producing nuclear-fusion reactions |
US3530036A (en) | 1967-12-15 | 1970-09-22 | Itt | Apparatus for generating fusion reactions |
US3530497A (en) | 1968-04-24 | 1970-09-22 | Itt | Apparatus for generating fusion reactions |
US3527977A (en) | 1968-06-03 | 1970-09-08 | Atomic Energy Commission | Moving electrons as an aid to initiating reactions in thermonuclear devices |
US3577317A (en) | 1969-05-01 | 1971-05-04 | Atomic Energy Commission | Controlled fusion reactor |
US3621310A (en) | 1969-05-30 | 1971-11-16 | Hitachi Ltd | Duct for magnetohydrodynamic thermal to electrical energy conversion apparatus |
US3664921A (en) | 1969-10-16 | 1972-05-23 | Atomic Energy Commission | Proton e-layer astron for producing controlled fusion reactions |
AT340010B (de) | 1970-05-21 | 1977-11-25 | Nowak Karl Ing | Einrichtung zur erzielung einer nuklearen reaktion mittels kunstlichem plasma vorzugsweise zur kontrollierten atomkernfusion |
US3668065A (en) | 1970-09-15 | 1972-06-06 | Atomic Energy Commission | Apparatus for the conversion of high temperature plasma energy into electrical energy |
US3663362A (en) | 1970-12-22 | 1972-05-16 | Atomic Energy Commission | Controlled fusion reactor |
LU65432A1 (uk) | 1972-05-29 | 1972-08-24 | ||
US4233537A (en) | 1972-09-18 | 1980-11-11 | Rudolf Limpaecher | Multicusp plasma containment apparatus |
US3811794A (en) * | 1972-11-22 | 1974-05-21 | Bell Telephone Labor Inc | Ultrahigh vacuum sublimation pump |
US4182650A (en) | 1973-05-17 | 1980-01-08 | Fischer Albert G | Pulsed nuclear fusion reactor |
US5041760A (en) | 1973-10-24 | 1991-08-20 | Koloc Paul M | Method and apparatus for generating and utilizing a compound plasma configuration |
US5015432A (en) | 1973-10-24 | 1991-05-14 | Koloc Paul M | Method and apparatus for generating and utilizing a compound plasma configuration |
US4010396A (en) | 1973-11-26 | 1977-03-01 | Kreidl Chemico Physical K.G. | Direct acting plasma accelerator |
FR2270733A1 (en) | 1974-02-08 | 1975-12-05 | Thomson Csf | Magnetic field vehicle detector unit - receiver detects changes produced in an emitted magnetic field |
US4098643A (en) | 1974-07-09 | 1978-07-04 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Dual-function magnetic structure for toroidal plasma devices |
US4057462A (en) | 1975-02-26 | 1977-11-08 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Radio frequency sustained ion energy |
US4054846A (en) | 1975-04-02 | 1977-10-18 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Transverse-excitation laser with preionization |
US4065351A (en) | 1976-03-25 | 1977-12-27 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Particle beam injection system |
US4166760A (en) | 1977-10-04 | 1979-09-04 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Plasma confinement apparatus using solenoidal and mirror coils |
US4347621A (en) | 1977-10-25 | 1982-08-31 | Environmental Institute Of Michigan | Trochoidal nuclear fusion reactor |
US4303467A (en) | 1977-11-11 | 1981-12-01 | Branson International Plasma Corporation | Process and gas for treatment of semiconductor devices |
US4274919A (en) | 1977-11-14 | 1981-06-23 | General Atomic Company | Systems for merging of toroidal plasmas |
US4202725A (en) | 1978-03-08 | 1980-05-13 | Jarnagin William S | Converging beam fusion system |
US4189346A (en) | 1978-03-16 | 1980-02-19 | Jarnagin William S | Operationally confined nuclear fusion system |
US4246067A (en) | 1978-08-30 | 1981-01-20 | Linlor William I | Thermonuclear fusion system |
US4267488A (en) | 1979-01-05 | 1981-05-12 | Trisops, Inc. | Containment of plasmas at thermonuclear temperatures |
US4397810A (en) | 1979-03-16 | 1983-08-09 | Energy Profiles, Inc. | Compressed beam directed particle nuclear energy generator |
US4314879A (en) | 1979-03-22 | 1982-02-09 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Production of field-reversed mirror plasma with a coaxial plasma gun |
US4416845A (en) | 1979-08-02 | 1983-11-22 | Energy Profiles, Inc. | Control for orbiting charged particles |
JPS5829568B2 (ja) | 1979-12-07 | 1983-06-23 | 岩崎通信機株式会社 | 2ビ−ム1電子銃陰極線管 |
US4548782A (en) | 1980-03-27 | 1985-10-22 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Tokamak plasma heating with intense, pulsed ion beams |
US4390494A (en) | 1980-04-07 | 1983-06-28 | Energy Profiles, Inc. | Directed beam fusion reaction with ion spin alignment |
US4350927A (en) | 1980-05-23 | 1982-09-21 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Means for the focusing and acceleration of parallel beams of charged particles |
US4317057A (en) | 1980-06-16 | 1982-02-23 | Bazarov Georgy P | Channel of series-type magnetohydrodynamic generator |
US4434130A (en) | 1980-11-03 | 1984-02-28 | Energy Profiles, Inc. | Electron space charge channeling for focusing ion beams |
US4584160A (en) | 1981-09-30 | 1986-04-22 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Plasma devices |
US4543231A (en) | 1981-12-14 | 1985-09-24 | Ga Technologies Inc. | Multiple pinch method and apparatus for producing average magnetic well in plasma confinement |
US4560528A (en) | 1982-04-12 | 1985-12-24 | Ga Technologies Inc. | Method and apparatus for producing average magnetic well in a reversed field pinch |
JPH06105597B2 (ja) | 1982-08-30 | 1994-12-21 | 株式会社日立製作所 | マイクロ波プラズマ源 |
US4512721B1 (en) * | 1982-08-31 | 2000-03-07 | Babcock & Wilcox Co | Vacuum insulated steam injection tubing |
JPS5960899A (ja) | 1982-09-29 | 1984-04-06 | 株式会社東芝 | イオン・エネルギ−回収装置 |
US4618470A (en) | 1982-12-01 | 1986-10-21 | Austin N. Stanton | Magnetic confinement nuclear energy generator |
US4483737A (en) | 1983-01-31 | 1984-11-20 | University Of Cincinnati | Method and apparatus for plasma etching a substrate |
US4601871A (en) | 1983-05-17 | 1986-07-22 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Steady state compact toroidal plasma production |
USH235H (en) | 1983-09-26 | 1987-03-03 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | In-situ determination of energy species yields of intense particle beams |
US4650631A (en) | 1984-05-14 | 1987-03-17 | The University Of Iowa Research Foundation | Injection, containment and heating device for fusion plasmas |
US4639348A (en) | 1984-11-13 | 1987-01-27 | Jarnagin William S | Recyclotron III, a recirculating plasma fusion system |
US4615755A (en) | 1985-08-07 | 1986-10-07 | The Perkin-Elmer Corporation | Wafer cooling and temperature control for a plasma etching system |
US4826646A (en) | 1985-10-29 | 1989-05-02 | Energy/Matter Conversion Corporation, Inc. | Method and apparatus for controlling charged particles |
US4630939A (en) | 1985-11-15 | 1986-12-23 | The Dow Chemical Company | Temperature measuring apparatus |
SE450060B (sv) | 1985-11-27 | 1987-06-01 | Rolf Lennart Stenbacka | Forfarande for att astadkomma fusionsreaktioner, samt anordning for fusionsreaktor |
US4687616A (en) | 1986-01-15 | 1987-08-18 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method and apparatus for preventing cyclotron breakdown in partially evacuated waveguide |
US4894199A (en) | 1986-06-11 | 1990-01-16 | Norman Rostoker | Beam fusion device and method |
DK556887D0 (da) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | Risoe Forskningscenter | Fremgangsmaade til fremstilling af en pille og injektor til injektion af saadan pille |
JP2512129B2 (ja) * | 1989-01-20 | 1996-07-03 | 株式会社日立製作所 | クライオポンプ |
US5083445A (en) * | 1989-01-20 | 1992-01-28 | Hitachi, Ltd. | Cryopump |
ATE137880T1 (de) | 1990-01-22 | 1996-05-15 | Steudtner Werner K Dipl Ing | Kernfusionsreaktor |
US5160695A (en) | 1990-02-08 | 1992-11-03 | Qed, Inc. | Method and apparatus for creating and controlling nuclear fusion reactions |
US5311028A (en) | 1990-08-29 | 1994-05-10 | Nissin Electric Co., Ltd. | System and method for producing oscillating magnetic fields in working gaps useful for irradiating a surface with atomic and molecular ions |
US5122662A (en) | 1990-10-16 | 1992-06-16 | Schlumberger Technology Corporation | Circular induction accelerator for borehole logging |
US5206516A (en) | 1991-04-29 | 1993-04-27 | International Business Machines Corporation | Low energy, steered ion beam deposition system having high current at low pressure |
US6488807B1 (en) | 1991-06-27 | 2002-12-03 | Applied Materials, Inc. | Magnetic confinement in a plasma reactor having an RF bias electrode |
US5207760A (en) | 1991-07-23 | 1993-05-04 | Trw Inc. | Multi-megawatt pulsed inductive thruster |
US5323442A (en) | 1992-02-28 | 1994-06-21 | Ruxam, Inc. | Microwave X-ray source and methods of use |
US5301511A (en) * | 1992-06-12 | 1994-04-12 | Helix Technology Corporation | Cryopump and cryopanel having frost concentrating device |
US5502354A (en) | 1992-07-31 | 1996-03-26 | Correa; Paulo N. | Direct current energized pulse generator utilizing autogenous cyclical pulsed abnormal glow discharges |
RU2056649C1 (ru) | 1992-10-29 | 1996-03-20 | Сергей Николаевич Столбов | Способ управляемого термоядерного синтеза и управляемый термоядерный реактор для его осуществления |
US5339336A (en) | 1993-02-17 | 1994-08-16 | Cornell Research Foundation, Inc. | High current ion ring accelerator |
FR2705584B1 (fr) | 1993-05-26 | 1995-06-30 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif de séparation isotopique par résonance cyclotronique ionique. |
US5473165A (en) | 1993-11-16 | 1995-12-05 | Stinnett; Regan W. | Method and apparatus for altering material |
US5557172A (en) | 1993-12-21 | 1996-09-17 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Plasma beam generating method and apparatus which can generate a high-power plasma beam |
US5537005A (en) | 1994-05-13 | 1996-07-16 | Hughes Aircraft | High-current, low-pressure plasma-cathode electron gun |
US5420425A (en) | 1994-05-27 | 1995-05-30 | Finnigan Corporation | Ion trap mass spectrometer system and method |
US5656519A (en) | 1995-02-14 | 1997-08-12 | Nec Corporation | Method for manufacturing salicide semiconductor device |
US5653811A (en) | 1995-07-19 | 1997-08-05 | Chan; Chung | System for the plasma treatment of large area substrates |
US20040213368A1 (en) | 1995-09-11 | 2004-10-28 | Norman Rostoker | Fusion reactor that produces net power from the p-b11 reaction |
US20020080904A1 (en) * | 1995-09-11 | 2002-06-27 | The Regents Of The University Of California | Magnetic and electrostatic confinement of plasma in a field reversed configuration |
AU7374896A (en) | 1995-09-25 | 1997-04-17 | Paul M. Koloc | A compound plasma configuration, and method and apparatus for generating a compound plasma configuration |
JP3385327B2 (ja) | 1995-12-13 | 2003-03-10 | 株式会社日立製作所 | 三次元四重極質量分析装置 |
US5764715A (en) | 1996-02-20 | 1998-06-09 | Sandia Corporation | Method and apparatus for transmutation of atomic nuclei |
KR100275597B1 (ko) | 1996-02-23 | 2000-12-15 | 나카네 히사시 | 플리즈마처리장치 |
US6000360A (en) | 1996-07-03 | 1999-12-14 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
US5811201A (en) | 1996-08-16 | 1998-09-22 | Southern California Edison Company | Power generation system utilizing turbine and fuel cell |
US5923716A (en) | 1996-11-07 | 1999-07-13 | Meacham; G. B. Kirby | Plasma extrusion dynamo and methods related thereto |
JP3582287B2 (ja) | 1997-03-26 | 2004-10-27 | 株式会社日立製作所 | エッチング装置 |
JPH10335096A (ja) | 1997-06-03 | 1998-12-18 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
US6894446B2 (en) | 1997-10-17 | 2005-05-17 | The Regents Of The University Of California | Controlled fusion in a field reversed configuration and direct energy conversion |
US6628740B2 (en) | 1997-10-17 | 2003-09-30 | The Regents Of The University Of California | Controlled fusion in a field reversed configuration and direct energy conversion |
US6271529B1 (en) | 1997-12-01 | 2001-08-07 | Ebara Corporation | Ion implantation with charge neutralization |
US6390019B1 (en) | 1998-06-11 | 2002-05-21 | Applied Materials, Inc. | Chamber having improved process monitoring window |
FR2780499B1 (fr) | 1998-06-25 | 2000-08-18 | Schlumberger Services Petrol | Dispositifs de caracterisation de l'ecoulement d'un fluide polyphasique |
DE19929278A1 (de) | 1998-06-26 | 2000-02-17 | Nissin Electric Co Ltd | Verfahren zum Implantieren negativer Wasserstoffionen und Implantierungseinrichtung |
US6255648B1 (en) | 1998-10-16 | 2001-07-03 | Applied Automation, Inc. | Programmed electron flux |
US6248251B1 (en) | 1999-02-19 | 2001-06-19 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method for electrostatically shielding an inductively coupled RF plasma source and facilitating ignition of a plasma |
WO2000077398A1 (en) * | 1999-06-11 | 2000-12-21 | Whelan Francis J | Baffles for cryopump |
US6755086B2 (en) | 1999-06-17 | 2004-06-29 | Schlumberger Technology Corporation | Flow meter for multi-phase mixtures |
US6322706B1 (en) | 1999-07-14 | 2001-11-27 | Archimedes Technology Group, Inc. | Radial plasma mass filter |
US6452168B1 (en) | 1999-09-15 | 2002-09-17 | Ut-Battelle, Llc | Apparatus and methods for continuous beam fourier transform mass spectrometry |
DE10060002B4 (de) | 1999-12-07 | 2016-01-28 | Komatsu Ltd. | Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung |
US6593539B1 (en) | 2000-02-25 | 2003-07-15 | George Miley | Apparatus and methods for controlling charged particles |
US6408052B1 (en) | 2000-04-06 | 2002-06-18 | Mcgeoch Malcolm W. | Z-pinch plasma X-ray source using surface discharge preionization |
US6593570B2 (en) | 2000-05-24 | 2003-07-15 | Agilent Technologies, Inc. | Ion optic components for mass spectrometers |
US6664740B2 (en) | 2001-02-01 | 2003-12-16 | The Regents Of The University Of California | Formation of a field reversed configuration for magnetic and electrostatic confinement of plasma |
CN101018444B (zh) * | 2001-02-01 | 2011-01-26 | 加州大学评议会 | 场反向配置中的等离子体的磁和静电约束 |
CZ305458B6 (cs) * | 2001-02-01 | 2015-10-07 | The Regents Of The University Of California | Přístroj a způsob pro vytváření magnetického pole s topologií s obráceným polem |
US6611106B2 (en) | 2001-03-19 | 2003-08-26 | The Regents Of The University Of California | Controlled fusion in a field reversed configuration and direct energy conversion |
GB0131097D0 (en) | 2001-12-31 | 2002-02-13 | Applied Materials Inc | Ion sources |
US6923625B2 (en) * | 2002-01-07 | 2005-08-02 | Integrated Sensing Systems, Inc. | Method of forming a reactive material and article formed thereby |
US6911649B2 (en) | 2002-06-21 | 2005-06-28 | Battelle Memorial Institute | Particle generator |
US7313922B2 (en) * | 2004-09-24 | 2008-01-01 | Brooks Automation, Inc. | High conductance cryopump for type III gas pumping |
WO2006096772A2 (en) | 2005-03-07 | 2006-09-14 | The Regents Of The University Of California | Plasma electric generation system |
US8031824B2 (en) | 2005-03-07 | 2011-10-04 | Regents Of The University Of California | Inductive plasma source for plasma electric generation system |
US9607719B2 (en) * | 2005-03-07 | 2017-03-28 | The Regents Of The University Of California | Vacuum chamber for plasma electric generation system |
CN101189684B (zh) | 2005-03-07 | 2013-04-24 | 加州大学评议会 | 等离子体发电系统 |
US7115887B1 (en) | 2005-03-15 | 2006-10-03 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method for generating extreme ultraviolet with mather-type plasma accelerators for use in Extreme Ultraviolet Lithography |
US20080226011A1 (en) | 2005-10-04 | 2008-09-18 | Barnes Daniel C | Plasma Centrifuge Heat Engine Beam Fusion Reactor |
CN101320599A (zh) | 2007-06-06 | 2008-12-10 | 高晓达 | 通过极限环螺旋扇形注入区的束流连续注入方法 |
US8368636B2 (en) | 2007-09-21 | 2013-02-05 | Point Somee Limited Liability Company | Regulation of wavelength shift and perceived color of solid state lighting with intensity variation |
WO2010031169A1 (en) | 2008-09-18 | 2010-03-25 | E Craftsmen Corporation | Configurable led driver/dimmer for solid state lighting applications |
EP2394496B1 (en) | 2009-02-04 | 2014-04-02 | General Fusion, Inc. | Systems and methods for compressing plasma |
US8569956B2 (en) | 2009-06-04 | 2013-10-29 | Point Somee Limited Liability Company | Apparatus, method and system for providing AC line power to lighting devices |
US8193738B2 (en) | 2009-08-07 | 2012-06-05 | Phihong Technology Co., Ltd. | Dimmable LED device with low ripple current and driving circuit thereof |
US20110142185A1 (en) | 2009-12-16 | 2011-06-16 | Woodruff Scientific, Inc. | Device for compressing a compact toroidal plasma for use as a neutron source and fusion reactor |
US8760078B2 (en) | 2010-10-04 | 2014-06-24 | Earl W. McCune, Jr. | Power conversion and control systems and methods for solid-state lighting |
US8587215B2 (en) | 2011-05-05 | 2013-11-19 | General Electric Company | Self-dimming OLED lighting system and control method |
EP2777047A4 (en) * | 2011-11-09 | 2015-06-17 | Brent Freeze | METHOD AND APPARATUS FOR COMPRESSING PLASMA TO A HIGH ENERGY STATE |
SI3223284T1 (sl) * | 2011-11-14 | 2019-08-30 | The Regents Of The University Of California | Sistem za tvorjenje in ohranjanje visokozmogljivega FRC |
US9078327B2 (en) | 2012-03-05 | 2015-07-07 | Luxera, Inc. | Apparatus and method for dimming signal generation for a distributed solid state lighting system |
US20130249431A1 (en) | 2012-03-05 | 2013-09-26 | Luxera, Inc. | Dimmable Hybrid Adapter for a Solid State Lighting System, Apparatus and Method |
WO2013191779A2 (en) | 2012-03-23 | 2013-12-27 | Princeton Satellite Systems, Inc. | Method, apparatus, and system to reduce neutron production in small clean fusion reactors |
CN104768285B (zh) | 2012-05-17 | 2017-06-13 | 昂宝电子(上海)有限公司 | 用于利用系统控制器进行调光控制的系统和方法 |
JP6258951B2 (ja) | 2012-11-06 | 2018-01-10 | フィリップス ライティング ホールディング ビー ヴィ | 回路装置及び回路装置を備えるledランプ |
CN103024994B (zh) | 2012-11-12 | 2016-06-01 | 昂宝电子(上海)有限公司 | 使用triac调光器的调光控制系统和方法 |
US9192002B2 (en) | 2012-11-20 | 2015-11-17 | Isine, Inc. | AC/DC conversion bypass power delivery |
WO2014114986A1 (en) | 2013-01-25 | 2014-07-31 | L Ferreira Jr Moacir | Multiphase nuclear fusion reactor |
BR112015019181B1 (pt) | 2013-02-11 | 2022-07-26 | The Regents Of The University Of California | Circuito multiplicador de tensão |
US9591740B2 (en) | 2013-03-08 | 2017-03-07 | Tri Alpha Energy, Inc. | Negative ion-based neutral beam injector |
KR102443312B1 (ko) | 2013-09-24 | 2022-09-14 | 티에이이 테크놀로지스, 인크. | 고성능 frc를 형성하고 유지하는 시스템 및 방법 |
US10145371B2 (en) * | 2013-10-22 | 2018-12-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Ultra high vacuum cryogenic pumping apparatus with nanostructure material |
CN104751902A (zh) | 2013-12-25 | 2015-07-01 | 核工业西南物理研究院 | 一种用于核聚变真空系统强力吸气混合丝 |
EP3161315B1 (en) * | 2014-06-26 | 2017-12-20 | Saes Getters S.p.A. | Getter pumping system |
US10158065B2 (en) | 2014-07-07 | 2018-12-18 | Intel Corporation | Spin-transfer torque memory (STTM) devices having magnetic contacts |
CN104066254B (zh) | 2014-07-08 | 2017-01-04 | 昂宝电子(上海)有限公司 | 使用triac调光器进行智能调光控制的系统和方法 |
KR20160014379A (ko) | 2014-07-29 | 2016-02-11 | 주식회사 실리콘웍스 | 조명 장치 |
JP6133821B2 (ja) * | 2014-08-08 | 2017-05-24 | 有限会社真空実験室 | 非蒸発型ゲッター及び非蒸発型ゲッターポンプ |
KR102257718B1 (ko) | 2014-10-01 | 2021-05-28 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 발광 다이오드 구동 회로 및 이를 포함하는 발광 다이오드 조명 장치 |
DK3589083T3 (da) | 2014-10-30 | 2022-10-31 | Tae Tech Inc | Systemer til dannelse og opretholdelse af højeffektiv FRC |
TWI629916B (zh) | 2014-12-10 | 2018-07-11 | 隆達電子股份有限公司 | 發光裝置與發光二極體電路 |
CN105185417B (zh) * | 2015-09-29 | 2017-05-10 | 北京应用物理与计算数学研究所 | 磁化等离子体聚变点火装置 |
IL259313B2 (en) | 2015-11-13 | 2023-11-01 | Tae Tech Inc | Systems and methods for positioning stability of FRC plasma |
US10326370B2 (en) | 2016-06-02 | 2019-06-18 | Semiconductor Components Industries, Llc | Controlling output voltage for power converter |
-
2017
- 2017-11-06 CN CN201780081581.8A patent/CN110100287B/zh active Active
- 2017-11-06 WO PCT/US2017/060255 patent/WO2018085798A1/en active Application Filing
- 2017-11-06 CA CA3041862A patent/CA3041862A1/en active Pending
- 2017-11-06 MX MX2019005262A patent/MX2019005262A/es unknown
- 2017-11-06 UA UAA201906091A patent/UA127712C2/uk unknown
- 2017-11-06 EA EA201991117A patent/EA201991117A1/ru unknown
- 2017-11-06 EP EP17867631.8A patent/EP3535763B1/en active Active
- 2017-11-06 KR KR1020197015952A patent/KR20190073544A/ko not_active Application Discontinuation
- 2017-11-06 JP JP2019522247A patent/JP7365693B2/ja active Active
- 2017-11-06 AU AU2017355652A patent/AU2017355652B2/en active Active
- 2017-11-06 SG SG11201903447WA patent/SG11201903447WA/en unknown
- 2017-11-06 BR BR112019009034A patent/BR112019009034A2/pt active Search and Examination
- 2017-11-06 IL IL266359A patent/IL266359B2/en unknown
-
2019
- 2019-04-30 US US16/399,396 patent/US11211172B2/en active Active
- 2019-05-01 SA SA519401705A patent/SA519401705B1/ar unknown
-
2021
- 2021-11-08 US US17/521,449 patent/US11482343B2/en active Active
-
2022
- 2022-06-02 JP JP2022090168A patent/JP2022107774A/ja active Pending
- 2022-10-13 US US17/965,071 patent/US11894150B2/en active Active
-
2023
- 2023-02-28 AU AU2023201218A patent/AU2023201218A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190318832A1 (en) | 2019-10-17 |
BR112019009034A2 (pt) | 2019-07-09 |
JP7365693B2 (ja) | 2023-10-20 |
WO2018085798A1 (en) | 2018-05-11 |
SG11201903447WA (en) | 2019-05-30 |
IL266359B2 (en) | 2023-11-01 |
CN110100287A (zh) | 2019-08-06 |
EP3535763A4 (en) | 2020-05-13 |
US11482343B2 (en) | 2022-10-25 |
US20230178258A1 (en) | 2023-06-08 |
EP3535763B1 (en) | 2023-08-16 |
IL266359A (en) | 2019-06-30 |
AU2017355652B2 (en) | 2022-12-15 |
US11894150B2 (en) | 2024-02-06 |
IL266359B1 (en) | 2023-07-01 |
AU2017355652A1 (en) | 2019-05-23 |
EA201991117A1 (ru) | 2019-09-30 |
US11211172B2 (en) | 2021-12-28 |
JP2019537001A (ja) | 2019-12-19 |
JP2022107774A (ja) | 2022-07-22 |
AU2023201218A1 (en) | 2023-04-06 |
CA3041862A1 (en) | 2018-05-11 |
US20220208398A1 (en) | 2022-06-30 |
KR20190073544A (ko) | 2019-06-26 |
MX2019005262A (es) | 2019-06-24 |
SA519401705B1 (ar) | 2023-02-19 |
EP3535763A1 (en) | 2019-09-11 |
CN110100287B (zh) | 2024-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
AU2021200748B2 (en) | Systems and methods for forming and maintaining a high performance FRC | |
AU2019202825B2 (en) | Systems and methods for forming and maintaining a high performance frc | |
JP7207781B2 (ja) | Frcプラズマ位置安定性のため方法 | |
UA126673C2 (uk) | Системи і способи поліпшеної підтримки високоефективної конфігурації з оберненим полем і нагрівання електронів за допомогою вищих гармонік швидких хвиль у високоефективній конфігурації з оберненим полем | |
UA127712C2 (uk) | Системи і способи поліпшеної підтримки високоефективної конфігурації з оберненим полем з вакуумуванням із захопленням багатомасштабного типу | |
EA042626B1 (ru) | Системы и способы улучшенного поддержания высокоэффективной конфигурации с обращенным полем с вакуумированием с захватом многомасштабного типа |