JP7458472B2 - プラズマ閉込めシステムおよび使用するための方法 - Google Patents

プラズマ閉込めシステムおよび使用するための方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7458472B2
JP7458472B2 JP2022209618A JP2022209618A JP7458472B2 JP 7458472 B2 JP7458472 B2 JP 7458472B2 JP 2022209618 A JP2022209618 A JP 2022209618A JP 2022209618 A JP2022209618 A JP 2022209618A JP 7458472 B2 JP7458472 B2 JP 7458472B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
confinement system
plasma confinement
plasma
electrode
inner electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2022209618A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2023030156A (ja
Inventor
シュムラク，ユリ
エス． マクリーン，ハリー
エー． ネルソン，ブライアン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
University of Washington
Lawrence Livermore National Security LLC
Original Assignee
University of Washington
Lawrence Livermore National Security LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by University of Washington, Lawrence Livermore National Security LLC filed Critical University of Washington
Publication of JP2023030156A publication Critical patent/JP2023030156A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7458472B2 publication Critical patent/JP7458472B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/02—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma
    • H05H1/04—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma using magnetic fields substantially generated by the discharge in the plasma
    • H05H1/06—Longitudinal pinch devices
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21B—FUSION REACTORS
    • G21B1/00—Thermonuclear fusion reactors
    • G21B1/05—Thermonuclear fusion reactors with magnetic or electric plasma confinement
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21B—FUSION REACTORS
    • G21B1/00—Thermonuclear fusion reactors
    • G21B1/11—Details
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21B—FUSION REACTORS
    • G21B1/00—Thermonuclear fusion reactors
    • G21B1/11—Details
    • G21B1/21—Electric power supply systems, e.g. for magnet systems, switching devices, storage devices, circuit arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/02—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma
    • H05H1/16—Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma using externally-applied electric and magnetic fields
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/54—Plasma accelerators
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/10—Nuclear fusion reactors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Spark Plugs (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

関連出願の相互参照
本出願は、２０１７年６月７日に提出された、米国仮特許出願第６２／５１６，５０８号の利益を主張しており、その内容はその全体が参照により本明細書に組み込まれている。
連邦政府による資金提供を受けた研究開発の記載
本発明は、エネルギー省（ＤＯＥ）によって授与された許可番号ＤＥ－ＡＲ００００５７１の下に政府の支援により作成された。政府は、本発明に特定の権利を有する。
そうでないことが本明細書で指摘されなければ、このセクションに記載される題材は、本出願における特許請求の範囲に対する従来技術ではなく、このセクションに含まれるものによって従来技術であると認められるわけでもない。
核融合は、２つの原子核を結合するプロセスである。鉄より少ない原子数を有する元素の２つの原子核が融合されたとき、エネルギーが放出される。エネルギーの放出は、反応物と融合反応の生成物との質量のわずかな差によるものであり、ΔＥ=Δｍｃ2によって決められる。エネルギーの放出はまた、反応原子核の間の、反発する静電力に打ち勝つ反応原子核同士の引きつけ合う強力な核力にも左右される。
最も低いプラズマ温度を必要とする融合反応は、ジュウテリウム（１つのプロトンと１つの中性子を含む水素原子核）とトリチウム（１つのプロトンと２つの中性子を含む水素原子核）との間に起きる。この反応は、ヘリウム－４原子核と、中性子を生み出す。
核融合を達成するための１つの手法は、原子炉室の内部でガスを含有する融合反応物を活性化させることである。活性化されたガスは、イオン化を通してプラズマになる。融合するのに十分な温度と密度を有する状態を達成するためにはこのプラズマを閉じ込める必要がある。
本開示の第１の態様は、プラズマ閉込めシステムの長手方向軸の上に配置された丸められた第１の端部を有する内側電極と、内側電極を少なくとも部分的に取り囲む外側電極とを含むプラズマ閉込めシステムである。外側電極は、固体導電シェルと、固体伝導シェル上に配置され、プラズマ閉込めシステムの長手方向軸の上に配置された導電性材料とを含む。導電性材料は、１大気圧で１７０℃～８００℃の範囲内の溶融点を有する。
本開示の第２の態様は、プラズマ閉込めシステムを作動させるための方法である。プラズマ閉込めシステムは、プラズマ閉込めシステムの長手方向軸の上に配置された丸められた第１の端部を有する内側電極と、内側電極を少なくとも部分的に取り囲む外側電極とを含む。方法は、プラズマ閉込めシステムにガスを流し込むことと、電源を介して、内側電極と外側電極との間に電圧を印加し、これによりガスの少なくとも一部を（ｉ）外側電極の固体伝導シェル上に配置され、プラズマ閉込めシステムの長手方向軸の上に配置された導電性材料と(ｉｉ)内側電極の丸められた第１の端部との間を流れるＺピンチプラズマに変換することとを含む。導電性材料は、１大気圧で１７０℃～８００℃の範囲内の溶融点を有する。方法はまた、導電性材料の第１の液体部分をプラズマ閉込めシステムから外に移動させることも含む。導電性材料の第１の液体部分は、Ｚピンチプラズマの反応生成物を介して加熱される。
本開示の第３の態様は、内側電極と、内側電極を少なくとも部分的に取り囲む中間電極と、中間電極を少なくとも部分的に取り囲む外側電極とを含むプラズマ閉込めシステムである。外側電極は、固体伝導シェルと、固体伝導シェル上に配置された導電性材料とを含む。導電性材料は、１大気圧で１８０℃～８００℃の範囲内の溶融点を有する。
本開示の第４の態様は、プラズマ閉込めシステムを作動させるための方法である。プラズマ閉込めシステムは、内側電極と、内側電極を少なくとも部分的に取り囲む中間電極と、中間電極を少なくとも部分的に取り囲む外側電極とを含む。方法は、内側電極と中間電極との間の加速領域にガスを流し込むことと、第１の電源を介して、内側電極と中間電極との間に電圧を印加し、これによりガスの少なくとも一部を、実質的に環状の断面を有するプラズマに変換することとを含み、プラズマは、加速領域の中を軸方向に内側電極の第１の端部および外側電極の第１の端部に向かって流れる。方法はまた、第２の電源を介して、内側電極と外側電極との間に電圧を印加して、（ｉ）外側電極の固体伝導シェル上に配置された導電性材料と（ｉｉ）内側電極の第１の端部との間を流れるＺピンチプラズマを確立することを含む。導電性材料は、１大気圧で１８０℃～８００℃の範囲内の溶融点を有する。方法はまた、導電性材料の第１の液体部分をプラズマ閉込めシステムから外に移動させることも含む。導電性材料の第１の液体部分は、Ｚピンチプラズマの反応生成物を介して加熱される。
「実質的に」または「およそ」という用語が本明細書で使用される場合、それは、説明される特徴、パラメータまたは値を正確に達成する必要はないが、例えば、公差、測定誤差、測定精度の限界および当業者に知られる他の要因を含めたずれや変動が、その特徴が与えることが意図された作用を妨げることのない量で生じる可能性があることを意味している。本明細書に開示される一部の例では、「実質的に」または「およそ」は、説明される値の+／-５％の範囲内を意味している。
このような、ならびに他の態様、利点および代替形態は、必要に応じて添付の図面を参照して以下の詳細な記載を読むことによって当業者に明らかになるであろう。さらに、この概要および他の記載ならびにここに提供される図面は、単なる例として本発明を例示することが意図されており、したがってその多くの変形形態も可能であることを理解されたい。
一例の実施形態によるプラズマ閉込めシステムの概略断面図である。 一例の実施形態によるプラズマ閉込めシステムの概略断面図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムを作動させるための方法のブロック図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムを作動させるための方法のブロック図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。 一例の実施形態による、プラズマ閉込めシステムおよび作動のための方法のいくつかの態様を例示する図である。
プラズマ閉込めシステムおよびその使用のための方法の種々の実施形態が本明細書に開示される。開示される実施形態は、既存のシステムおよび方法と比較したとき、向上したプラズマ安定性、より強固なせん断プラズマ流れ、より小さいＺピンチプラズマ半径、より高い磁場および／またはより高いプラズマ温度を促進し得る。開示される実施形態の一部は、プラズマ加速とプラズマ圧縮の独立した制御も同様に呈示する。
開示される実施形態の一部の付加的な特徴は、そこに配置された（例えばプラズマ閉込めシステムの長手方向軸の上に配置された）液体電極材料を有する１つまたは複数の電極を含む。液体電極材料は、プラズマ放電から熱を吸収し移動させ、中性子遮へい体を提供し、追加のトリチウムを増殖し、追加の真空汲み出し（排気）を実現し、トリチウム回収媒体を提供することができる。液体電極材料の使用は、例えばプラズマ放電の熱によって生じる（固体）電極の損傷などの問題を軽減するのに役立つ場合がある。液体電極材料が真空チャンバ内のその流れに対して方位角成分および／または軸方向成分を有するように、真空チャンバ（例えば堰付きの壁を横切るように）の中で液体電極材料を循環させることもできる。
図１は、プラズマ閉込めシステム１００の概略側面図である。プラズマ閉込めシステム１００は、プラズマ閉込めシステム１００の長手方向軸１０６（例えば円筒対称の軸）の上に配置された丸められた第１の端部１０４を有する内側電極１０２を含む。プラズマ閉込めシステム１００はまた、内側電極１０２を少なくとも部分的に取り囲む外側電極も含む。外側電極は、固体伝導シェル１０８と、固体伝導シェル１０８上に配置され、プラズマ閉込めシステム１００の長手方向軸１０６の上に配置された導電性材料１１０とを含む。導電性材料１１０は、１大気圧で１７０℃～８００℃（例えば１８０℃～５５０℃）の範囲内の溶融点を有する。種々の例では、導電性材料１１０は、共融合金、合金またはリチウム、鉛またはスズのうちの１つまたは複数の混合物の形態を採る場合がある。
内側電極１０２は一般に、実質的に円筒形の本体を有する導電性のシェル（例えばステンレス鋼、モリブデン、タングステンまたは銅のうちの１つまたは複数で形成された）の形態を採る。内側電極１０２は、第１の端部１０４（例えば丸められた端部）と、対向する第２の端部１２６（例えば実質的にディスク形状の端部）とを含む。第１の端部１０４は、例えばグラファイトまたはカーボンファイバなどの炭素系材料、あるいはステンレス鋼、モリブデン、タングステンまたは銅のうちの１つまたは複数で形成することができる。いくつかの実施形態において、内側電極１０２は、１大気圧で１８０°～８００°（例えば１８０°～５５０°）の範囲内の溶融点を有する導電性材料を含むコーティングをその外面上に有する。種々の例では、導電性材料は、共融合金、合金、あるいはリチウム、鉛またはスズのうちの１つまたは複数の混合物の形態を採る場合がある。あるいは導電性材料は、元素として存在するのリチウム、鉛またはスズの形態を採る場合もある。
プラズマ閉込めシステム１００は、内側電極１０２を長手方向軸１０６に沿ってプラズマ閉込めシステム１００の中に、またはそこから外に移動させるように構成された送り機構１１２（例えば電気機械システム）をさらに含む。作動中、内側電極１０２は、プラズマ放電によって腐食する可能性があり、内側電極１０２とプラズマ閉込めシステム１００の他の構成要素との間に相対的な空間を維持するために、内側電極１０２を送り込むように送り機構１１２を作動させることができる。
プラズマ閉込めシステム１００は、プラズマ閉込めシステム１００の作動中、内側電極１０２を冷却するように構成された冷却システム１１４（例えば熱交換器）をさらに含む。
外側電極は一般に、実質的に円筒形の本体を有する導電性の（例えばステンレス鋼）のシェルの形態を採る。外側電極の固体伝導シェル１０８は、固体伝導外側シェル１３２と、固体伝導外側シェル１３２の中に配置され、固体伝導外側シェル１３２と接触する固体内側シェル１３４（導電性材料、またはシリコンカーバイドなどの高い抵抗性材料で形成された）とを含む。より具体的には、固体内側シェル１３４は、プラズマ閉込めシステム１００の長手方向軸１０６を少なくとも部分的に取り巻く（例えば内側電極１０２を部分的に取り巻く）軸方向の壁１３６と、軸方向の壁１３６を固体伝導外側シェル１３２に結合する半径方向の壁１３８とを含む。
外側電極は、第１の端部１２０と、対向する第２の端部１２２とを含む。内側電極１０２の丸められた第１の端部１０４は、外側電極の第１の端部１２０（例えば実質的にディスク形状の端部）と外側電極の第２の端部１２２（例えば実質的に環状の端部）との間にある。半径方向の壁１３８と外側電極の第１の端部１２０は、プラズマ閉込めシステム１００内にプール領域１４０を形成する。プール領域１４０は、プラズマ閉込めシステム１００の中にあるかなりの量の（例えば液体の）導電性材料１１０のための貯蔵槽として機能する。示されるように、導電性材料１１０はまた、以下でより詳細に考察するように、ポンプ１５０および／またはポンプ１５６によって軸方向の壁１３６の端部１４８を横切るように循環させることもできる。
外側電極は、（すなわち固体伝導シェル１０８および導電性材料１１０）は、内側電極１０２のほとんどを取り囲む。内側電極１０２と外側電極は、同軸であってよく、長手方向軸１０６に対して半径方向の対称性を有してよい。
プラズマ閉込めシステム１００はまた、熱交換器１４２と、熱交換器１４２からプール領域１４０に導電性材料１１０を誘導するように構成された第１の出入り口１４４と、プール領域１４０から熱交換器１４２に導電性材料１１０を誘導するように構成された第２の出入り口１４６とを含む。熱交換器１４２は、第２の出入り口１４６を通して、プラズマ閉込めシステム１００内で加熱された導電性材料１１０を受け取り、導電性材料１１０から熱を抜き取り、プラズマ閉込めシステム１００の中で起こる融合反応によって再び加熱されるように、第１の出入り口１４４を通して導電性材料１１０をプール領域１４０に戻るように移動させる（例えばポンプで汲み上げる）ように構成される。図１では、第１の出入り口１４４は、第２の出入り口１４６より上に示されているが、他の例では、第２の出入り口１４６が第１の出入り口１４４より上である場合もある。当業者は、種々の例において、出入り口１４４と１４６は様々な相対的な位置を有する場合があることを認識するであろう。
上記で指摘したように、軸方向の壁１３６は、外側電極の第２の端部１２２に面する端部１４８を含む。プラズマ閉込めシステム１００はまた、プール領域１４０から、軸方向の壁１３６の外側であり半径方向の壁１３８によってプール領域１４０から隔てられた領域１５２に導電性材料１１０を移動させるように構成された第１のポンプ１５０も含む。第１のポンプ１５０は、軸方向の壁１３６の端部１４８を横切って軸方向の壁１３６の内側の領域１５４に導電性材料１１０を移動させるように構成される。
プラズマ閉込めシステム１００はまた、プール領域１４０から、軸方向の壁１３６の外側にあり半径方向の壁１３８によってプール領域１４０から隔てられた領域１５２に導電性材料１１０を移動させるように構成された第２のポンプ１５６も含む。
プラズマ閉込めシステム１００はまた、プラズマ閉込めシステム１００の中のベース圧力が１０-5～１０-8トールの範囲内になるように、プラズマ閉込めシステム１００の外に空気を汲み出すように構成されたポンプ１７０（例えばターボ分子ポンプ）も含む。
プラズマ閉込めシステム１００はまた、ガス源１２８（例えば加圧されたガスタンク）から、半径方向に内側電極１０２と外側電極との間にある加速領域１２１にガス（例えばトリチウム、ジュウテリウム、ヘリウム－３、水素、ホウ素含有ガスまたはボラン）を誘導するように構成された１つまたは複数のガスの出入り口１１６も含む。加速領域１２１は、内側電極１０２および固体伝導シェル１０８の形状によって画定された実質的に環状の断面を有する。図１に示されるように、１つまたは複数のガスの出入り口１１６は、内側電極１０２の第１の端部１０４と内側電極１０２の第２の端部１２６との間に軸方向に位置決めされる。
プラズマ閉込めシステム１００はまた、内側電極１０２と外側電極（固体伝導シェル１０８）との間に電圧を印加するように構成された電源１１８も含む。電源１１８は一般に、例えば５００ｋＪまで、または３～４ＭＪまでの蓄積が可能なコンデンサバンクの形態を採る。電源１１８の正端子は、内側電極１０２に結合される場合、または代替として外側電極（例えば固体伝導シェル１０８）に結合される場合もある。
プラズマ閉込めシステム１００は、内側電極１０２の第１の端部１０４と外側電極の第１の端部１２０との間で外側電極の範囲内に堆積領域１２４を含む。プラズマ閉込めシステム１００は、以下に記載するように堆積領域１２４の中でＺピンチプラズマを維持するように構成されている。
プラズマ閉込めシステム１００はまた、内側電極１０２と外側電極との間の電気的な隔離を維持するために、外側電極（例えば固体伝導シェル１０８）の第２の端部１２２と内側電極１０２との間に絶縁体１１７を含む。絶縁体１１７（例えばセラミック材料）は一般に、環状の断面を有する。
図２は、プラズマ閉込めシステム２００の概略断面図である。プラズマ閉込めシステム２００は、以下に記載される違いがあるが、プラズマ閉込めシステム１００の特徴のうちのいくつかを有することができる。プラズマ閉込めシステム１００とプラズマ閉込めシステム２００の１つの違いは、以下に記載するようにプラズマ閉込めシステム２００の一部としての中間電極２０５の存在である。
プラズマ閉込めシステム２００は、内側電極２０２と、内側電極２０２を少なくとも部分的に取り囲む中間電極２０５（例えば実質的に環状の電極）と、中間電極２０５を少なくとも部分的に取り囲む外側電極とを含む。外側電極は、固体伝導シェル２０８と、固体伝導シェル２０８上に（例えば長手方向軸２０６上に）配置された導電性材料２１０とを含む。導電性材料２１０は、１大気圧で１８０℃～８００℃（例えば１８０℃～５５０℃）の範囲内の溶融点を有する。種々の例では、導電性材料２１０は、共融合金、合金、あるいはリチウム、鉛またはスズのうちの１つまたは複数の混合物の形態を採る場合がある。
内側電極２０２は一般に、実質的に円筒形の本体を有する導電性のシェル（例えばステンレス鋼、モリブデン、タングステンまたは銅のうちの１つまたは複数で形成された）の形態を採る。内側電極２０２は、第１の端部２０４（例えば丸められた端部）と、対向する第２の端部２２６（例えば実質的にディスク形状の端部）とを含む。第１の端部２０４は、例えばグラファイトまたはカーボンファイバなどの炭素系材料、あるいはステンレス鋼、モリブデン、タングステンまたは銅のうちの１つまたは複数で形成される場合がある。いくつかの実施形態において、内側電極２０２は、１大気圧で１８０°～８００°（例えば１８０°～５５０°）の範囲内の溶融点を有する導電性材料を含むコーティングをその外面上に有する。種々の例では、導電性材料は、共融合金、合金あるいはリチウム、鉛またはスズのうちの１つまたは複数の混合物の形態を採る場合がある。
中間電極２０５は、外側電極の第１の端部２２０と外側電極の第２の端部２２２との間に第１の端部２２７（例えば実質的に環状の端部）を含む。中間電極２０５はまた、実質的に環状の対向する第２の端部２２３も含む。
プラズマ閉込めシステム２００は、内側電極２０２を長手方向軸２０６に沿ってプラズマ閉込めシステム２００内に、またはそこから外に移動させるように構成された送り機構２１２（例えば電気機械システム）をさらに含む。作動中、内側電極２０２は、プラズマ放電によって腐食する可能性があり、内側電極２０２とプラズマ閉込めシステム２００の他の構成要素との間に相対的な空間を維持するために、内側電極２０２を送り込むように送り機構２１２を作動させることができる。
プラズマ閉込めシステム２００は、プラズマ閉込めシステム２００の作動中、内側電極２０２を冷却するように構成された冷却システム２１４（例えば熱交換器）をさらに含む。
外側電極は一般に、実質的に円筒形の本体を有する導電性の（例えばステンレス鋼）シェルの形態を採る。外側電極の固体伝導シェル２０８は、固体伝導外側シェル２３２と、固体伝導外側シェル２３２上に配置され、固体伝導外側シェル２３２と接触する固体内側シェル２３４（例えば導電性材料、またはシリコンカーバイドなど高い抵抗性の材料で形成された）とを含む。より具体的には、固体内側シェル２３４は、プラズマ閉込めシステム２００の長手方向の軸２０６を少なくとも部分的に取り巻く（例えば内側電極２０２を部分的に取り巻く）軸方向の壁２３６と、軸方向の壁２３６を固体伝導外側シェル２３２に結合する半径方向の壁２３８とを含む。
外側電極は、第１の端部２２０と、対向する第２の端部２２２とを含む。内側電極２０２の丸められた第１の端部２０４は、外側電極の第１の端部２２０（例えば実質的にディスク形状の端部）と外側電極の第２の端部２２２（例えば実質的に円形または環状の端部）との間にある。半径方向の壁２３８と外側電極の第１の端部２２０は、プラズマ閉込めシステム２００の内部にプール領域２４０を形成する。プール領域２４０は、プラズマ閉込めシステム２００の中にあるかなりの量の（例えば液体の）導電性材料２１０のための貯蔵槽として機能する。示されるように、導電性材料２１０はまた、以下でより詳細に考察するように、ポンプ２５０および／またはポンプ２５６によって軸方向の壁２３６の端部２４８を横切るように循環させることもできる。
外側電極は、（すなわち固体伝導シェル２０８および導電性材料２１０）は、内側電極２０２のほとんどを取り囲む。内側電極２０２と外側電極は、同軸であってよく、長手方向軸２０６に対して半径方向の対称性を有してよい。
プラズマ閉込めシステム２００はまた、熱交換器２４２と、熱交換器２４２からプール領域２４０に導電性材料２１０を誘導するように構成された第１の出入り口２４４と、プール領域２４０から熱交換器２４２に導電性材料２１０を誘導するように構成された第２の出入り口２４６とを含む。熱交換器２４２は、第２の出入り口２４６を通して、プラズマ閉込めシステム２００内で加熱された導電性材料２１０を受け取り、導電性材料２１０から熱を抜き取り、プラズマ閉込めシステム２００の中で起こる融合反応によって再び加熱されるように、第１の出入り口２４４を通して導電性材料２１０をプール領域２４０に戻るように移動させる（例えばポンプで汲み上げる）ように構成される。図２では、第１の出入り口２４４は、第２の出入り口２４６より上に示されているが、他の例では、第２の出入り口２４６が第１の出入り口２４４より上である場合もある。当業者は、種々の例において、出入り口２４４と２４６は様々な相対的な位置を有する場合があることを認識するであろう。
上記で指摘したように、軸方向の壁２３６は、外側電極の第２の端部２２２に面する端部２４８を含む。プラズマ閉込めシステム２００はまた、プール領域２４０から、軸方向の壁２３６の外側であり半径方向の壁２３８によってプール領域２４０から隔てられた領域２５２に導電性材料２１０を移動させるように構成された第１のポンプ２５０も含む。第１のポンプ２５０は、軸方向の壁２３６の端部２４８を横切って軸方向の壁２３６の内側の領域２５４に導電性材料２１０を移動させるように構成される。
プラズマ閉込めシステム２００はまた、プール領域２４０から、軸方向の壁２３６の外側にあり半径方向の壁２３８によってプール領域２４０から隔てられた領域２５２に導電性材料２１０を移動させるように構成された第２のポンプ２５６も含む。
プラズマ閉込めシステム２００はまた、プラズマ閉込めシステム２００の中のベース圧力が１０-5～１０-8トールの範囲内になるように、プラズマ閉込めシステム２００の外に空気を汲み出すように構成されたポンプ２７０（例えばターボ分子ポンプ）も含む。
プラズマ閉込めシステム２００はまた、ガス源２２８（例えば加圧されたガスタンク）から、半径方向に内側電極２０２と中間電極２０５との間にある加速領域２１８にガス（例えばトリチウム、ジュウテリウム、ヘリウム－３、水素、ホウ素含有ガスまたはボラン）を誘導するように構成された１つまたは複数のガスの出入り口２１６も含む。加速領域２１８は、内側電極２０２および中間電極２０５の形状によって画定された実質的に環状の断面を有する。図２に示されるように、１つまたは複数のガスの出入り口２１６は、内側電極２０２の第１の端部２０４と内側電極１０２の第２の端部２２６との間に軸方向に位置決めされる。
プラズマ閉込めシステム２００はまた、内側電極１０２と中間電極２０５との間に電圧を印加するように構成された電源２１８も含む。電源２１８は一般に、例えば５００ｋＪまで、または３～４ＭＪまでの蓄積が可能なコンデンサバンクの形態を採る。電源２１８の正端子は、内側電極１０２に結合される場合、または代替として中間電極２０５に結合される場合もある。
プラズマ閉込めシステム２００はまた、内側電極１０２と外側電極（例えば固体伝導シェル２０８）との間に電圧を印加するように構成された電源２１９も含む。電源２１９は一般に、例えば５００ｋＪまで、または３～４ＭＪまでの蓄積が可能なコンデンサバンクの形態を採る。電源２１９の正端子は、内側電極１０２に結合される場合、または代替として外側電極（例えば固体伝導シェル２０８）に結合される場合もある。
プラズマ閉込めシステム２００は、内側電極２０２の第１の端部２０４と外側電極の第１の端部２２０との間で外側電極の範囲内に堆積領域２２４を含む。
プラズマ閉込めシステム２００は、以下に記載するように堆積領域２２４の中でＺピンチプラズマを維持するように構成されている。
プラズマ閉込めシステム２００はまた、内側電極２０２と中間電極２０５との間の電気的な隔離を維持するために、中間電極２０５の第２の端部２２３と内側電極２０２との間に絶縁体２１７を含む。絶縁体２１７（例えばセラミック材料）は一般に、環状の断面を有する。
プラズマ閉込めシステム２００はまた、固体伝導シェル２０８と中間電極２０５との間の電気的な隔離を維持するために、固体伝導シェル２０８と中間電極２０５との間にも絶縁体２２９を含む。絶縁体２２９（例えばセラミック材料）は一般に、環状の断面を有する。
図３は、プラズマ閉込めシステム（例えばプラズマ閉込めシステム１００）を作動させるための方法３００のブロック図である。プラズマ閉込めシステムは、プラズマ閉込めシステムの長手方向軸の上に配置された丸められた第１の端部を有する内側電極と、内側電極を少なくとも部分的に取り囲む外側電極とを含む。図４～図９は、以下に記載するように方法３００の態様の一部を例示している。図４～図９は、水平方向に位置合わせされたプラズマ閉込めシステム１００の長手方向軸１０６を示しているが、実際には、長手方向軸１０６は一般に垂直方向に位置合わせされる。
ブロック３０２において、方法３００は、プラズマ閉込めシステムにガスを流し込むことを含む。
図４に示されるように、例えば１つまたは複数のガスの出入り口１１６が、ガス３１０（例えばトリチウム、ジュウテリウム、ヘリウム－３、水素、ホウ素含有ガスまたはボランのうちの１つまたは複数）を、内側電極１０２と内側電極１０２を概ね取り囲む外側電極（例えば固体伝導シェル１０８）との間の加速領域１２１に誘導することができる。図４は、最初の量のガス３１０が加速領域１２１に進入するのを示しており、図５は、その後、追加の量のガス３１０が加速領域１２１に進入するのを示している。
ガス３１０が流れた後、加速領域１２１の中の１つまたは複数のガスの出入り口１１６に隣接するガス圧は、電源１１８を介して内側電極１０２と外側電極（例えば固体伝導シェル１０８）との間の電圧が印加される前は１０００から５８００トール（例えば５４５０～５５５０トール）の範囲内であり得る。
ブロック３０４において、方法３００は、電源を介して、内側電極と外側電極との間に電圧を印加し、これにより、ガスの少なくとも一部を（ｉ）外側電極の固体伝導シェルの上およびプラズマ閉込めシステムの長手方向軸の上に配置された導電性材料と（ｉｉ）内側電極の丸められた第１の端部との間を流れるＺピンチプラズマに変換することを含む。導電性材料は、１大気圧で１７０℃～８００℃（例えば１８０℃～５５０℃）の範囲内の溶融点を有する。
例えば図６～図９を参照すると、電源１１８は、内側電極１０２と外側電極（例えば固体伝導シェル１０８）との間に電圧を印加し、これによりガス３１０の少なくとも一部を（ｉ）外側電極の固体伝導シェル１０８の上およびプラズマ閉込めシステム１００の長手方向軸１０６上に配置された導電性材料１１０と（ｉｉ）内側電極１０２の丸められた第１の端部１０４との間を流れるＺピンチプラズマ３１８に変換することができる。
例えば電源１１８は、内部電極１０２と固体伝導シェル１０８との間に電圧を印加し、これによりガス３１０の少なくとも少なくとも一部を実質的に環状の断面を有するプラズマ３１６（図６～図９を参照）に変換することができる。その独自の電流によって生成される磁場により、プラズマ３１６は、図６～図９に順を追って示されるように、加速領域１２１内を軸方向に内側電極１０２の第１の端部１０４および外側電極の第１の端部１２０に向かって流れてよい。
図８および図９に示されるように、プラズマ３１６が加速領域１２１を越えて移動する際、Ｚピンチプラズマ３１８が、堆積領域１２４内で、（ｉ）外側電極の固体伝導シェル１０８上およびプラズマ閉込めシステム１００の長手方向軸１０６上に配置された導電性材料１１０と（ｉｉ）内側電極１０２の丸められた第１の端部１０４との間に確立される。
Ｚピンチプラズマ３１８は、せん断軸方向流れを呈し、０．１ｍｍから５ｍｍの間の半径、９００～５０，０００ｅＶの間のイオン温度、５００ｅＶを超える(例えば５０，０００ｅＶまでの)電子温度、１ｘ１０23イオン／ｍ3を超えるイオン数密度、１ｘ１０23電子／ｍ3を超える電子数密度、８Ｔを超える磁場を有することができる、および／または少なくとも１０μｓの間安定している場合もある。
ブロック３０６では、方法３００は、導電性材料の第１の液体部分をプラズマ閉込めシステムから外に移動させることを含む。導電性材料の第１の液体部分は、Ｚピンチプラズマの反応生成物（例えば中性子および他の高エネルギー粒子）を介して加熱される。
熱交換器１４２が、第２の出入口１４６を通して、プラズマ閉込めシステム１００内で加熱される導電性材料１１０の一部を受け取り、導電性材料１１０から熱を抜き取り、プラズマ閉込めシステム１００の中で起こる融合反応によって再び加熱されるように、第１の出入口１４４を通して導電性材料１１０をプール領域１４０に戻るように移動させる（例えばポンプで汲み上げる）ことができる。プラズマ閉込めシステム１００内にプラズマ放電を形成する前に、導電性材料１１０は一般にプラズマ閉込めシステム１００の中に配置された（例えば電気の）加熱要素を利用して液体状態になるように加熱される（例えば溶解される）。
プラズマ閉込めシステム１００は、内側電極１０２を長手方向軸１０６に沿ってプラズマ閉込めシステム１００内に、またはそこから外に移動させることができる送り機構１１２（例えば電気機械システム）を含む。作動中、内側電極１０２は、プラズマ放電によって腐食する可能性があり、内側電極１０２とプラズマ閉込めシステム１００の他の構成要素との間に相対的な空間を維持するために、内側電極１０２を送り込むように送り機構１１２を作動させることができる。
加えて、ポンプ１５０および１５６は、導電性材料１１０を外側電極（例えば固体伝導シェル１０８）を横切るように移動させる、または循環させることができ、その結果、導電性材料１１０の異なる部分を使用して、経時的にＺピンチプラズマ３１８から電流および／または熱を（例えば長手方向軸１０６において）吸収することができる。プラズマ閉込めシステム１００の作動中、導電性材料１１０のほとんど、またはその全ては概ね、液体状態である。
いくつかの実施形態において、ポンプ１５０および１５６は、外側電極を横切るように（例えば固体伝導シェル１０８を横切るように）移動された導電性材料１１０が、プラズマ閉込めシステム１００の長手方向軸１０６に対して方位角方向に（例えばそのページの中へ、および／またはそのページから外に）、および／または軸方向に移動させられるように導電性材料１１０を移動させる。
より具体的には、ポンプ１５０または１５６は、導電性材料１１０を、プール領域１４０から、軸方向の壁１３６の外側にあり半径方向の壁１３８によってプール領域１４０から隔てられた領域１５２に移動させることができる。加えて、ポンプ１５０または１５６は、導電性材料１１０を、軸方向の壁１３６の端部１４８を横切って軸方向の壁１３６の内側の領域１５４に移動させ、またプール領域１４０に向かって戻るように移動させることもできる。
種々の実施形態において、内側電極１０２と外側電極（例えば固体伝導シェル１０８）との間に印加される電圧は、２ｋＶ～３０ｋＶの範囲内である。内側電極１０２と外側電極（例えば固体伝導シェル１０８）との間に印加される電圧は、３０ｋＶ／ｍから５００ｋＶ／ｍの範囲内で半径方向の電場を生じさせることができる。
いくつかの実施形態において、Ｚピンチプラズマ３１８は、０．１ｍｍから５ｍｍの間の半径、９００から５０，０００ｅＶの間のイオン温度および５００ｅＶを超える(例えば５０，０００ｅＶまでの)電子温度を有する。Ｚピンチプラズマ３１８は、１ｘ１０23イオン／ｍ3を超えるイオン数密度、または１ｘ１０23電子／ｍ3を超える電子数密度を有することができ、８Ｔを超える磁場を有するせん断流れを呈することができる。Ｚピンチプラズマ３１８は、少なくとも１０μｓの間安定を示す場合もある。
いくつかの実施形態において、Ｚピンチプラズマ３１８の反応生成物は、中性子を含む。したがってプラズマ閉込めシステム１００の作動中、中性子および導電性材料１１０の一部は、熱交換器１４２において回収するための追加のトリチウム燃料を生成するために消費される場合がある。導電性材料１１０の反応性質はまた、蒸気粒子を捕らえることによって、プラズマ閉込めシステム１００内のベース圧力を低減させるような役割を果たす場合もある。
一部の実施形態は、熱交換器１４２が導電性材料１１０を熱交換器１４２からプール領域１４０に移動させる速度を調節することによって、または導電性材料１１０がプール領域１４０から熱交換器１４２に移動する速度を調節することによって、固体伝導シェル１０８上の導電性材料１１０の厚さを制御することを含む。導電性材料１１０がプール領域１４０に流れ込む速度を上げることは大抵、固体伝導シェル１０８上の導電性材料１１０の厚さを拡大することになる。導電性材料１１０がプール領域１４０を出て熱交換器１４２へと流れる速度を上げることは大抵、固体伝導シェル１０８上の導電性材料１１０の厚さを縮小することになる。
図１０は、プラズマ閉込めシステム（例えばプラズマ閉込めシステム２００）を作動させるための方法１０００のブロック図である。プラズマ閉込めシステムは、内側電極と、内側電極を少なくとも部分的に取り囲む中間電極と、中間電極を少なくとも部分的に取り囲む外側電極とを含む。図１１～図１６は、以下に記載するように、方法１０００の態様の一部を例示している。図１１～図１６は、水平方向に位置合わせされたプラズマ閉込めシステム２００の長手方向軸２０６を示しているが、実際には長手方向軸２０６は一般に垂直方向に位置合わせされる。
ブロック１００２において、方法１０００は、内側電極と中間電極との間の加速領域にガスを流し込むことを含む。
図１１に示されるように、例えば１つまたは複数のガスの出入り口２１６が、ガス３１０（例えばトリチウム、ジュウテリウム、ヘリウム－３、水素、ホウ素含有ガスまたはボランのうちの１つまたは複数）を、内側電極２０２と内側電極２０２を部分的に取り囲む中間電極２０５との間の加速領域２２１に誘導することができる。図１１は、最初の量のガス３１０が加速領域２２１に進入するのを示しており、図１２は、その後、追加の量のガス３１０が加速領域２２１に進入するのを示している。
ガス３１０が流れた後、加速領域２２１の中の１つまたは複数のガスの出入り口２１６に隣接するガス圧は、電源２１８を介して内側電極１０２と中間電極２０５との間の電圧が印加される前は１０００から５８００トール（例えば５４５０～５５５０トール）の範囲内であり得る。
ブロック１００４において、方法１０００は、第１の電源を介して、内側電極と中間電極との間に電圧を印加し、これによりガスの少なくとも一部を実質的に環状の断面を有するプラズマに変換し、プラズマは、加速領域の中を軸方向に内側電極の第１の端部および外側電極の第１の端部に向かって流れることを含む。
図１１～図１４を参照すると、例えば電源２１８は、内側電極２０２と中間電極２０５との間に電圧を印加し、それによりガス３１０の少なくとも一部を実質的に環状の断面を有するプラズマ３１６に変換することができる。プラズマ３１６は、加速領域２２１内を軸方向に、内側電極２０２の第１の端部２０４および外側電極の第１の端部２２０に向かって流れることができる。その独自の電流によって生成される磁場により、プラズマ３１６は、図１１～図１４に順を追って示されるように、加速領域１２１内を軸方向に内側電極２０２の第１の端部２０４および外側電極の第１の端部２２０に向かって流れることができる。
ブロック１００６において、方法１０００は、第２の電源を介して、内側電極と外側電極との間に電圧を印加することで（ｉ）外側電極の固体伝導シェル上に配置された導電性材料と（ｉｉ）内側電極の第１の端部との間を流れるＺピンチプラズマを確立することを含む。導電性材料は、１大気圧で１８０℃～８００℃（例えば１８０℃～５５０℃）の範囲内の溶融点を有する。
図１５および図１６を参照すると、例えば、電源２１９は、内側電極２０２と外側電極（例えば固体伝導シェル２０８）との間に電圧を印加することで、（ｉ）外側電極の固体伝導シェル２０８上に配置された導電性材料２１０と（ｉｉ）内側電極２０２の第１の端部２０４との間を流れるＺピンチプラズマ３１８を確立することができる。導電性材料２１０は、１大気圧で１８０℃～８００℃（例えば１８０℃～５５０℃）の範囲内の溶融点を有する。
図１５および図１６に示されるように、プラズマ３１６が加速領域２２１を越えて移動する際、Ｚピンチプラズマ３１８が、堆積領域２２４内で、（ｉ）外側電極の固体伝導シェル２０８上およびプラズマ閉込めシステム２００の長手方向軸２０６上に配置された導電性材料２１０と（ｉｉ）内側電極２０２の丸められた第１の端部２０４との間に確立される。
Ｚピンチプラズマ３１８は、せん断軸方向流れを呈し、０．１ｍｍから５ｍｍの間の半径、９００～５０，０００ｅＶの間のイオン温度、５００ｅＶを超える(例えば５０，０００ｅＶまでの)電子温度、１ｘ１０23イオン／ｍ3を超えるイオン数密度、１ｘ１０23電子／ｍ3を超える電子数密度、８Ｔを超える磁場を有することができる、および／または少なくとも１０μｓの間安定している場合もある。
ブロック１００８において、方法１０００は、導電性材料の第１の液体部分をプラズマ閉込めシステムから外に移動させることを含む。導電性材料の第１の液体部分は、Ｚピンチプラズマの反応生成物を介して加熱される。
図２を参照すると、例えば、熱交換器２４２が、第２の出入口２４６を通して、プラズマ閉込めシステム２００内で加熱される導電性材料２１０の一部を受け取り、導電性材料２１０から熱を抜き取り、プラズマ閉込めシステム２００の中で起こる融合反応によって再び加熱されるように、第１の出入口２４４を通して導電性材料２１０をプール領域２４０に戻るように移動させる（例えばポンプで汲み上げる）ことができる。プラズマ閉込めシステム２００内にプラズマ放電を形成する前に、導電性材料２１０は一般にプラズマ閉込めシステム２００の中に配置された（例えば電気の）加熱要素を利用して液体状態になるように加熱される（例えば溶解される）。
プラズマ閉込めシステム２００は、内側電極２０２を、長手方向軸２０６に沿ってプラズマ閉込めシステム２００内に、またはそこから外に移動させることができる送り機構２１２（例えば電気機械システム）を含む。作動中、内側電極２０２は、プラズマ放電によって腐食する可能性があり、内側電極２０２とプラズマ閉込めシステム２００の他の構成要素との間に相対的な空間を維持するために、内側電極２０２を送り込むように送り機構２１２を作動させることができる。
加えて、ポンプ２５０および２５６は、導電性材料２１０を外側電極（例えば固体伝導シェル２０８）を横切るように移動させる、または循環させることができ、その結果、導電性材料２１０の異なる部分を使用して、経時的にＺピンチプラズマ３１８から電流および／または熱を（例えば長手方向軸１０６において）吸収することができる。プラズマ閉込めシステム２００の作動中、導電性材料２１０のほとんど、またはその全ては概ね液体状態である。
いくつかの実施形態において、ポンプ２５０および２５６は、外側電極を横切るように（例えば固体伝導シェル２０８を横切るように）移動される導電性材料２１０が、プラズマ閉込めシステム１００の長手方向軸２０６に対して方位角方向に（例えばそのページ内へ、および／またはそのページから外に）、および／または軸方向に移動させられるように導電性材料２１０を移動させる。
より具体的には、ポンプ２５０または２５６は、導電性材料２１０を、プール領域２４０から、軸方向の壁２３６の外側にあり半径方向の壁２３８によってプール領域２４０から隔てられた領域２５２に移動させることができる。加えて、ポンプ２５０または２５６は、導電性材料２１０を、軸方向の壁２３６の端部２４８を横切って軸方向の壁２３６の内側の領域２５４に移動させ、またプール領域２４０に向かって戻るように移動させることもできる。
種々の実施形態において、内側電極２０２と外側電極（例えば固体伝導シェル１０８）との間、または内側電極２０２と中間電極２０５との間に印加される電圧は、２ｋＶ～３０ｋＶの範囲内である。印加される電圧は、３０ｋＶ／ｍから５００ｋＶ／ｍの範囲内で半径方向の電場を生じさせることができる。
一実施形態において、Ｚピンチプラズマ３１８は、０．１ｍｍから５ｍｍの間の半径、９００～５０，０００ｅＶの間のイオン温度、および５００ｅＶを超える(例えば５０，０００ｅＶまでの)電子温度を有する。Ｚピンチプラズマ３１８は、１ｘ１０23イオン／ｍ3を超えるイオン数密度または１ｘ１０23電子／ｍ3を超える電子数密度を有することができ、また８Ｔを超える磁場を有するせん断流れを呈する場合もある。Ｚピンチプラズマ３１８は、少なくとも１０μｓの間安定を示す場合もある。
いくつかの実施形態において、Ｚピンチプラズマ３１８の反応生成物は、中性子を含む。したがってプラズマ閉込めシステム２００の作動中、中性子および導電性材料２１０の一部は、熱交換器２４２において回収するための追加のトリチウム燃料を生成するために消費される場合がある。導電性材料２１０の反応性質はまた、蒸気粒子を捕らえることによって、プラズマ閉込めシステム２００内のベース圧力を低減させるような役割を果たす場合もある。
一部の実施形態は、熱交換器２４２が導電性材料２１０を熱交換器２４２からプール領域２４０に移動させる速度を調節することによって、または導電性材料２１０がプール領域２４０から熱交換器２４２に移動する速度を調節することによって、固体伝導シェル２０８上の導電性材料２１０の厚さを制御することを含む。導電性材料２１０がプール領域２４０に流れ込む速度を上げることは大抵、固体伝導シェル２０８上の導電性材料２１０の厚さを拡大することになる。導電性材料２１０がプール領域２４０を出て熱交換器２４２へと流れる速度を上げることは大抵、固体伝導シェル２０８上の導電性材料２１０の厚さを縮小することになる。
種々の一例の態様および一例の実施形態を本明細書で開示してきたが、他の態様および実施形態が当業者には明らかであろう。本明細書に開示される種々の一例の態様および一例の実施形態は、例示の目的のためであり、限定することは意図されておらず、真の範囲および精神は以下の特許請求の範囲によって指摘されている。

Claims (20)

  1. プラズマ閉込めシステムであって、
    導電性材料を含む外側電極と、
    前記導電性材料が液体状態であるとき、前記外側電極を横切るように前記導電性材料を循環させるように構成されたポンプシステムと、
    内側電極と、
    前記内側電極と前記外側電極の間に電圧を印加して、前記内側電極と前記外側電極の間にせん断軸方向流れを有するＺピンチプラズマを確立させるように構成された電源と、を備え、
    前記内側電極の第１の端部が、前記外側電極の第１の端部と前記外側電極の第２の端部との間にあり、
    前記内側電極及び前記外側電極が、当該プラズマ閉込めシステムの長手方向軸に対して半径方向に対称性を有する、プラズマ閉込めシステム。
  2. 前記導電性材料は、合金を含む、請求項１に記載のプラズマ閉込めシステム。
  3. 前記内側電極は、炭素系材料、あるいはステンレス鋼、モリブデン、タングステンまたは銅のうちの１つ又は複数を含む、請求項１または２に記載のプラズマ閉込めシステム。
  4. 前記内側電極の前記第１の端部と、前記内側電極の前記第１の端部と反対側の前記内側電極の第２の端部との間に軸方向に位置決めされた１つまたは複数のガスの出入り口をさらに備える、請求項１～３のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステム。
  5. 前記内側電極と、前記外側電極の前記第２の端部との間にセラミックの絶縁体をさらに備える、請求項１～４のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステム。
  6. 前記内側電極及び前記外側電極は、同軸である、請求項１～５のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステム。
  7. 前記外側電極は、前記内側電極が占める体積の大部分を取り囲む、請求項１～６のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステム。
  8. 前記外側電極は、前記内側電極を実質的に取り囲む、請求項１～７のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステム。
  9. 前記内側電極及び前記外側電極は各々、実質的に円筒形の本体を有する、請求項１～８のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステム。
  10. 前記外側電極の前記第１の端部は、前記外側電極の前記第２の端部の反対側にある、請求項１～９のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステム。
  11. 実質的に環状の断面を有する加速領域が、前記内側電極と前記外側電極との間で半径方向に体積を形成する、請求項１～１０のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステム。
  12. 前記電源は、前記外側電極内に円筒形の体積として形成された堆積領域において前記Ｚピンチプラズマを維持するように構成される、請求項１～１１のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステム。
  13. 前記プラズマ閉込めシステム内のベース圧力が１０－５トール～１０－８トールの範囲内になるように、前記プラズマ閉込めシステムの外に空気を送出するように構成されたポンプをさらに備える、請求項１～１２のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステム。
  14. 前記せん断軸方向流れは、前記長手方向軸に対して半径方向にせん断される、請求項１～１３のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステム
  15. 請求項１～１４のいずれか一項に記載のプラズマ閉込めシステムを作動させるための方法であって、
    前記電源を介して、前記内側電極と前記外側電極の間に前記電圧を印加することと、
    前記導電性材料の第１の液体部分を前記プラズマ閉込めシステムの外に移動させることと、を含む、プラズマ閉込めシステムを作動させるための方法。
  16. 前記内側電極と前記外側電極の間に印加される前記電圧は、２ｋＶ～３０ｋＶの範囲である、請求項１５に記載の方法。
  17. 前記Ｚピンチプラズマは、９００ｅＶ～５０，０００ｅＶの間のイオン温度を呈する、請求項１５または１６に記載の方法。
  18. 前記Ｚピンチプラズマは、５００ｅＶを超える電子温度を呈する、請求項１５～１７のいずれか一項に記載の方法。
  19. 前記Ｚピンチプラズマは、少なくとも１０μｓの間、安定を示す、請求項１５～１８のいずれか一項に記載の方法。
  20. 前記Ｚピンチプラズマは、０．１ｍｍ～５ｍｍの間の半径を有する、請求項１５～１９のいずれか一項に記載の方法。
JP2022209618A 2017-06-07 2022-12-27 プラズマ閉込めシステムおよび使用するための方法 Active JP7458472B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201762516508P 2017-06-07 2017-06-07
US62/516,508 2017-06-07
PCT/US2018/036388 WO2018226914A1 (en) 2017-06-07 2018-06-07 Plasma confinement system and methods for use
JP2019566613A JP7203768B2 (ja) 2017-06-07 2018-06-07 プラズマ閉込めシステムおよび使用するための方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019566613A Division JP7203768B2 (ja) 2017-06-07 2018-06-07 プラズマ閉込めシステムおよび使用するための方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023030156A JP2023030156A (ja) 2023-03-07
JP7458472B2 true JP7458472B2 (ja) 2024-03-29

Family

ID=64566330

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019566613A Active JP7203768B2 (ja) 2017-06-07 2018-06-07 プラズマ閉込めシステムおよび使用するための方法
JP2022209618A Active JP7458472B2 (ja) 2017-06-07 2022-12-27 プラズマ閉込めシステムおよび使用するための方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019566613A Active JP7203768B2 (ja) 2017-06-07 2018-06-07 プラズマ閉込めシステムおよび使用するための方法

Country Status (11)

Country Link
US (2) US11219117B2 (ja)
EP (2) EP3635748B1 (ja)
JP (2) JP7203768B2 (ja)
KR (2) KR20230132634A (ja)
CN (3) CN117352196A (ja)
AU (1) AU2018280166A1 (ja)
BR (1) BR112019024844A2 (ja)
CA (1) CA3064769A1 (ja)
EA (1) EA201992371A1 (ja)
IL (1) IL271124A (ja)
WO (1) WO2018226914A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11515050B1 (en) * 2019-11-22 2022-11-29 X Development Llc Mitigating plasma instability
CN113539524B (zh) * 2020-04-15 2023-05-02 新奥科技发展有限公司 保持高性能等离子体的装置和方法
TW202216452A (zh) 2020-08-19 2022-05-01 日商大日本印刷股份有限公司 障壁膜、及使用其之波長轉換片材、背光及液晶顯示裝置、以及障壁膜之選定方法
JP6926309B1 (ja) 2020-08-19 2021-08-25 大日本印刷株式会社 バリアフィルム、並びに、これを用いた波長変換シート、バックライト及び液晶表示装置
IL281747B2 (en) 2021-03-22 2024-04-01 N T Tao Ltd System and method for creating plasma with high efficiency
US20220394838A1 (en) * 2021-05-28 2022-12-08 Zap Energy, Inc. Apparatus and method for extended plasma confinement

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012517085A (ja) 2009-02-04 2012-07-26 ジェネラル フュージョン インコーポレイテッド プラズマを圧縮するためのシステム及び方法

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3309873A (en) 1964-08-31 1967-03-21 Electro Optical Systems Inc Plasma accelerator using hall currents
US4129772A (en) 1976-10-12 1978-12-12 Wisconsin Alumni Research Foundation Electrode structures for high energy high temperature plasmas
US4244782A (en) * 1977-10-25 1981-01-13 Environmental Research Institute Of Michigan Nuclear fusion system
JPS61274292A (ja) * 1985-05-29 1986-12-04 渡辺　健二 核融合実験装置
US4912731A (en) * 1987-04-13 1990-03-27 Vittorio Nardi Plasma focus apparatus with field distortion elements
NO174180C (no) * 1991-12-12 1994-03-23 Kvaerner Eng Innföringsrör for brenner for kjemiske prosesser
NO174450C (no) * 1991-12-12 1994-05-04 Kvaerner Eng Anordning ved plasmabrenner for kjemiske prosesser
JPH0817116B2 (ja) 1992-12-24 1996-02-21 核融合科学研究所長 プラズマ電磁加速器
US5763930A (en) * 1997-05-12 1998-06-09 Cymer, Inc. Plasma focus high energy photon source
US6744060B2 (en) 1997-05-12 2004-06-01 Cymer, Inc. Pulse power system for extreme ultraviolet and x-ray sources
US7180081B2 (en) * 2000-06-09 2007-02-20 Cymer, Inc. Discharge produced plasma EUV light source
RU2206186C2 (ru) 2000-07-04 2003-06-10 Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации
US6804327B2 (en) * 2001-04-03 2004-10-12 Lambda Physik Ag Method and apparatus for generating high output power gas discharge based source of extreme ultraviolet radiation and/or soft x-rays
JP4708022B2 (ja) * 2002-08-14 2011-06-22 プロトン２１ カンパニー リミテッド 衝撃によって物質を圧縮するための方法および装置
US7501765B2 (en) 2004-10-01 2009-03-10 Illinois Tool Works Inc. Emitter electrodes formed of chemical vapor deposition silicon carbide
US20060198486A1 (en) * 2005-03-04 2006-09-07 Laberge Michel G Pressure wave generator and controller for generating a pressure wave in a fusion reactor
US7115887B1 (en) 2005-03-15 2006-10-03 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Method for generating extreme ultraviolet with mather-type plasma accelerators for use in Extreme Ultraviolet Lithography
US7372059B2 (en) 2005-10-17 2008-05-13 The University Of Washington Plasma-based EUV light source
JP2008071611A (ja) 2006-09-14 2008-03-27 Sekisui Chem Co Ltd プラズマ表面処理装置の電極構造
US9560734B2 (en) 2009-02-20 2017-01-31 Lawrence Livermore National Security, Llc Dense plasma focus (DPF) accelerated non radio isotopic radiological source
US8891719B2 (en) 2009-07-29 2014-11-18 General Fusion, Inc. Systems and methods for plasma compression with recycling of projectiles
DE102010023339A1 (de) * 2010-06-10 2011-12-15 Siemens Aktiengesellschaft Beschleuniger für zwei Teilchenstrahlen zum Erzeugen einer Kollision
US9123500B2 (en) * 2012-03-31 2015-09-01 Fei Company Automated ion beam idle
WO2013149345A1 (en) 2012-04-04 2013-10-10 General Fusion Inc. Jet control devices and methods
EP2891389B1 (en) * 2012-08-29 2017-08-02 General Fusion Inc. Apparatus for accelerating and compressing plasma
KR102403479B1 (ko) * 2013-06-27 2022-05-30 논리니어 이온 다이나믹스 엘엘씨 핵융합 반응을 위한 방법, 장치 및 시스템
JP6342251B2 (ja) * 2014-07-25 2018-06-13 国立大学法人北海道大学 酸化タングステン及び金属タングステン微粒子の製造方法とそれにより得られる微粒子
US10811155B2 (en) * 2017-01-31 2020-10-20 The Boeing Company Plasma pinch neutron generators and methods of generating neutrons
US10811144B2 (en) * 2017-11-06 2020-10-20 General Fusion Inc. System and method for plasma generation and compression

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012517085A (ja) 2009-02-04 2012-07-26 ジェネラル フュージョン インコーポレイテッド プラズマを圧縮するためのシステム及び方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Harry S. McLean et al.，Development of a Compact Fusion Device based on the Flow Z-Pinch，2016 ARPA-e Annual Review，米国，ARPA-e，2015年08月11日，pp. 1-36，https://arpa-e.energy.gov/sites/default/files/MCLEAN_Reduced_2016.pdf
U. Shumiak et al.，High energy density Z-pinch plasmas using flow stabilization，AIP Conference Proceedings，米国，AIP Publishing，2015年02月17日，Vol. 1639，pp. 76-79

Also Published As

Publication number Publication date
IL271124A (en) 2020-01-30
EA201992371A1 (ru) 2020-04-03
JP2020523734A (ja) 2020-08-06
KR102578149B1 (ko) 2023-09-20
CN117352196A (zh) 2024-01-05
US20200168350A1 (en) 2020-05-28
EP3635748A4 (en) 2021-03-10
EP3635748B1 (en) 2024-05-22
JP7203768B2 (ja) 2023-01-13
CN117334356A (zh) 2024-01-02
KR20200019141A (ko) 2020-02-21
KR20230132634A (ko) 2023-09-15
JP2023030156A (ja) 2023-03-07
CA3064769A1 (en) 2018-12-13
WO2018226914A1 (en) 2018-12-13
AU2018280166A1 (en) 2019-11-21
BR112019024844A2 (pt) 2020-06-09
CN110945599B (zh) 2023-10-10
US20220117072A1 (en) 2022-04-14
US11219117B2 (en) 2022-01-04
EP3635748A1 (en) 2020-04-15
EP4376556A2 (en) 2024-05-29
CN110945599A (zh) 2020-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7458472B2 (ja) プラズマ閉込めシステムおよび使用するための方法
JP7384478B2 (ja) プラズマ閉じ込めシステムおよび使用方法
EA034282B1 (ru) Способ генерирования и поддержания магнитного поля с помощью конфигурации обращенного поля (коп)
US20080226010A1 (en) Reactor For Producing Controlled Nuclear Fusion
US3467885A (en) Method and apparatus for electromagnetically containing a plasma
US3037921A (en) Method and apparatus for producing neutrons and other radiations
US20240079151A1 (en) Plasma injection and confinement systems and methods
CN113643950B (zh) 一种产生掺杂碱金属或卤素的耦合气体团簇离子束的装置和方法
US3452249A (en) Method and apparatus for containing a plasma produced by opposed electrodes
EA041312B1 (ru) Система удержания плазмы
WO2013070179A1 (en) Method and apparatus for compressing plasma to a high energy state
Kamiya Vacuum technologies in high-power proton accelerators
US3437871A (en) Plasma containment apparatus with ion cyclotron resonance heating
CN103220875A (zh) 静电惯性约束型无靶中子管
Emigh Tritium ion beam for an intense neutron source, INS
Degnan et al. Full axial coverage radiography of deformable contact liner implosion performed with 8 cm diameter electrode apertures
JPH0218900A (ja) イオンダンプ
WO2022159669A1 (en) Methods and systems for producing radionuclides using neutron activation
Watson et al. Technical considerations in the design of the Chalk River high temperature helium‐jet ion source
US20150270020A1 (en) Device for creating nuclear fusion

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230125

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230125

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230206

TRDD Decision of grant or rejection written
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20240112

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240119

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20240219

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240318

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7458472

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150