JP2012503697A - ナノ構造化されたアクリル材料で作られた透明な平面製品 - Google Patents

Abstract

【課題】優れた光学特性と良好な機械特性および表面特性の両方を有するナノ構造化アクリルポリマー材料。
【解決手段】ガラス遷移温度が０℃以上のＰＭＭＡマトリックス（成分１）中にアクリルブロックコポリマー（成分２）が分散したアクリル樹脂組成物。この組成物は６０〜８０重量％のＰＭＭＡマトリックスと、２０〜４０重量％のブロックコポリマーとを含む。厚さが３００〜９００ミクロン、好ましくは４００〜７００マイクロメートルで、光透過率が少なくとも９１％で、ヘイズが２％以下で、８０℃以上の温度でヘイズ値がないアクリル樹脂組成物を含む透明な平面製品。

Description

本発明は、優れた光学特性と良好な機械特性と表面特性の両方を有するナノ構造化されたアクリルポリマー材料の分野に関するものである。
本発明のこの材料は特にコンピュータ用のフラットパネルディスプレーに必須な部品である「ライトガイドパネル、ＬＧＰ」または導光平面パネルまたはエッジリットエキストラフラットパネル（edge-lit extra-flat panel）を製造するためのものであり、多くの携帯機器、例えばラップトップコンピュータ、電話、ゲーム機等の光ディフューザーの役目をする。

フラットパネルディスプレーは通常のブラウン管ディスプレー装置よりスペースファクターおよび重量がはるかに小さく、急速に普及している。さらに、フラットディスプレーで用いられる技術はエネルギー消費が少なく（ブラウン管ディスプレーの１００Ｗに対して１０Ｗ以下の消費量）、電磁放射を出さない。数年間で普及したフラットパネルへの関心における外観的な要因も重要な役目をしている。

フラットパネルディスプレーのパネルはポリマー材料で作られ、その材料としてはアクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル（特許文献１）、スチレン／アクリロニトリルコポリマー（特許文献２）等が用いられている。

本出願人の実施したテストではポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）製のディスプレーが優れた透明性を示したが、そのディスプレーは厚さが１ｍｍ以下のときに過度に脆く、壊れ易くなる。

さらに、コアがエラストマー、例えばブチルアクリレートで作られ、シェルがＰＭＭＡで作られたコア／シェル型の添加剤を含む「耐衝撃性」ＰＭＭＡは、機械強度の点で改良された特性を有するが、温度とともに光透過率が下がるため、フラットパネル、特に使用中に熱くなる（エッジに沿ってディスプレーを照らすダイオードの使用により加熱される）エキストラフラットパネルの製造での使用には適さない。この種の材料は温度の関数として光透過率が下がるためこの用途には適さない。

特許文献３に記載されたポリカーボネート製のディスプレーはそれ自体が良好な透明性と優れた衝撃強度を有するが、この材料の表面特性、例えばその耐引掻き性および耐摩耗性はユーザーが直接的接触するフラットまたはエキストラフラットディスプレーで使用するには十分ではない。また、その光透過性はＰＭＭＡで得られるものより弱い。

例えば特許文献４に記載のように、ディスプレー装置の支持材料としてポリエチレンテレフタレートの非晶質透明シートも用いられている。このシートは成形によって種々の形状に製造できる特性によって使用が普及している。しかし、この材料は曲げ強度および耐引掻き性が不十分であるため、携帯用ディスプレー装置での使用には適さない。これはこの材料の厚さが実際には最大で２００ミクロンに制限されるためである。

米国公開特許第２００６／２５６２７７号明細書 米国特許第５，２１３，８５２号明細書 日本国特許第２００３−１５５３６号公報 大韓民国特許第２００３／００５６６８６号公報

従って、優れた光学特性（光透過率、ヘイズ）と機械特性（衝撃強度）および表面特性（耐引掻き性および耐摩耗性）の両方を有し、しかも、室温から８０℃までのフラットディスプレーの広範囲な使用温度でこれらの特性（特に光学特性）を維持することができるポリマー材料に対するニーズが増している。
本発明の目的は上記の欠点を克服することにある。
本発明は、材料の厚さがたとえ薄くても、一般に１ｍｍ以下でも、広範囲の温度（室温から８０℃の範囲）で一定で且つ良好な表面特性（耐摩耗性および耐引掻き性）を維持し、優れた光学特性と機械特性（衝撃強度）の両方を備えたナノ構造化されたアクリル材料を提供する。
「厚さが薄い」とはフラットディスプレーの厚さが３００〜９００ミクロン、好ましくは４００〜７００マイクロメートルであることを意味する。

本発明の第１の観点からの対象は、ガラス遷移温度が０℃以上のＰＭＭＡマトリックス（成分１）中に一般式：（Ａ）_m−（Ｂ）_p−Ｉに対応するアクリルブロックコポリマー（成分２）が分散したアクリル樹脂組成物にある。上記一般式でｐは２以上の整数、ｍはｐ以下の整数、Ｂは少なくとも６０重量％のアクリルモノマー（ｂ₁）を含むモノマーの混合物（Ｂ₀）の重合で得られるコアＩに共有結合で直接結合したポリマーブロック、Ａは少なくとも６０重量％のメタクリルモノマー（ａ₁）を含むモノマーの混合物（Ａ₀）の重合で得られるＢブロックに共有結合で直接結合されたポリマーブロックである。

コア（Ｉ）はｎ（２以上）個の炭素原子を有する有機基であり、この有機基にはＢブロックがその炭素原子の結合価の一つを介して結合している。コア（Ｉ）は下記の一般式Ｉａ、Ｉｂ、およびＩｃの一つに対応する：

（ここで、Ａｒは置換された芳香族基を表し、Ｚは分子量が１４以上である多官能性の有機または無機の基である）

「ＰＭＭＡ」とはメチルメタクリレート（ＭＭＡ）のホモポリマーまたは少なくとも５０重量％がＭＭＡから成るコポリマーを意味する。コポリマーはＭＭＡと、ＭＭＡと共重合可能な少なくとも一種のコモノマーとから得られる。コポリマーは７０〜９９．５重量％、好ましくは８０〜９９．５重量％、さらに好ましくは８０〜９９重量％のＭＭＡと、０．５〜３０重量％、好ましくは０．５〜２０重量％、より好ましくは１〜２０重量％のコモノマーとから成るのが好ましい。

ＭＭＡと共重合可能なコモノマーは（メタ）アクリルモノマーまたはビニル芳香族モノマー、例えばスチレン、置換スチレン、α−メチルスチレン、モノクロルスチレンまたはtert-ブチルスチレンであるのが好ましく、アルキル（メタ）アクリレート、特にメチル、エチル、プロピルまたはブチルアクリレートまたはブチルメタアクリレートであるのが好ましい。

本発明のアクリル樹脂組成物は６０〜８０重量％のＰＭＭＡマトリックスと、２０〜４０重量％の上記ブロックコポリマーとを含む点に特徴がある。

本発明の第２の観点からの対象は、上記アクリル樹脂組成物から透明な平面製品を製造する方法にある。この方法は厚さが３００〜９００ミクロンのシートが得られる押出成形法であるのが好ましい。

本発明のさらに別の観点からの対象は、下記の特徴を有する本発明アクリル樹脂組成物を含む透明な平面製品にある：
（１）厚さが３００〜９００ミクロン、好ましくは４００〜７００マイクロメートルである、
（２）光透過率が少なくとも９１％である、
（３）ヘイズが２％以下である、
（４）８０℃以上の温度でヘイズが見られない。

本発明のさらに別の観点からの対象は、上記の透明な平面製品の、発光ダイオード（ＬＥＤ）を備えたＬＣＤフラットパネル型装置またはエッジ照明式のエキストラフラットディスプレー装置での使用にある。
本発明のさらに別の観点からの対象は、本発明の少なくとも一つの透明な平面製品を含むフラットまたはエキストラフラットディスプレーにある。

本発明は、材料の厚さがたとえ薄くても広範囲の温度（室温から８０℃の範囲）で一定かつ良好な表面特性（耐摩耗性および耐引掻き性）を維持することができる優れた光学特性と機械特性（衝撃強度）の両方を有するナノ構造化されたアクリル材料を提供する。

本発明材料は、ガラス遷移温度が０℃以上のＰＭＭＡマトリックス（成分１）中に一般式：（Ａ）_m−（Ｂ）_p−Ｉのアクリルブロックコポリマー（成分２）が分散したアクリル樹脂組成物の形をしている。上記一般式：（Ａ）_m−（Ｂ）_p−Ｉで、
ｐは２以上の整数、
ｍはｐ以下の整数、
Ｂは少なくとも６０重量％のアクリルモノマー（ｂ₁）を含むモノマーの混合物（Ｂ₀）の重合で得られるコアＩに共有結合で直接結合したポリマーブロック、
Ａは少なくとも６０重量％のメタクリルモノマー（ａ₁）を含むモノマーの混合物（Ａ₀）の重合で得られるＢブロックに共有結合で直接結合したポリマーブロック、
コア（Ｉ）はｎ（２以上）個の炭素原子を有する有機基で、この有機基にはＢブロックがその炭素原子の結合価の一つを介して結合している。このコア（Ｉ）は下記の一般式：Ｉａ、Ｉｂ、およびＩｃの一つに対応する：

（ここで、Ａｒは置換された芳香族基を表し、Ｚは分子量が１４以上の多官能性の有機または無機の基である）
Ｉａ、Ｉｂ、およびＩｃは以下で説明する対応するアルコキシアミン（式ＩＩ）の熱分解で生じる。Ｚは式Ｉａのｎ個のアクリル型官能基、式Ｉｂのｎ個のメタクリル型官能基およびＩｃのｎ個のスチリル型官能基と結合している。

Ｚはポリアルコキシ基、特にジアルコキシ基、例えば１，２−エタンジオキシ、１，３−プロパンジオキシ、１，４−ブタンジオキシおよび１，６−ヘキサンジオキシラジカル、１，３，５−トリス（２−エトキシ）シアヌル酸、ポリアミノアミン基、例えばポリエチレンアミン、または１，３，５−トリス（２−エチルアミノ）シアヌル酸またはポリチオキシ、ホスホネートまたはポリホスホネート基にすることができるが、これらに限定されるものではない。また、Ｚは無機の基、例えば有機金属錯体、例えばＭⁿ⁺Ｏ^- _nにすることもでき、酸素原子の第２結合価はＺとアクリル、メタクリルおよびスチリル基との間の結合に対応する。Ｍはマグネシウム、カルシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛または錫の原子にすることができる。

Ａｒは例えばＣ₁〜Ｃ₁₈、一般にＣ₁〜Ｃ₈アルキルまたはアルコキシ基の中から選択される一種以上の置換基を有するベンゼン環またはナフタレン環を表す。

Ｂは少なくとも６０重量％のアクリルモノマー（ｂ₁）を含むモノマーの混合物（Ｂ₀）の重合で得られるコアＩに共有結合で直接結合したポリマーブロックである。Ｂはガラス遷移温度（Ｔｇ）が０℃以下で、重量平均分子量（Ｍｗ）が４０，０００〜２００，０００ｇ／モルで、多分散性指数（Ｉｐ）が１．１〜２．５、好ましくは１．１〜２．０である。
モノマーの混合物Ｂ₀は少なくとも２個の炭素原子、好ましくは少なくとも４個の炭素原子を含むアルキル鎖を有するアルキルアクリレート、例えばブチル、オクチル、ノニルまたは２−エチルヘキシルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレートまたはアクリロニトリルの中から選択される６０〜１００重量％の少なくとも一種のアクリルモノマー（ｂ₁）を含む。
Ｂブロックの組成物中に含まれる他のモノマー（ｂ₂）はラジカル重合可能なモノマー、例えばエチレンモノマー、ビニルモノマー等の中から選択される。

ＡブロックはＴｇが５０℃以上である。Ａブロックは下記（ａ₁）と（ａ₂）のモノマーを含むモノマーの混合物Ａ₀の重合で得られる：
（１）６０〜１００重量％、好ましくは７５〜９８重量％の、アルキルメタクリレート、例えばメチル、ブチル、オクチル、ノニルまたは２−エチルヘキシルメタクリレートまたは官能性メタクリル化合物、例えばメタクリル酸、グリシジルメタクリレート、メタクリロニトリルまたはアルコール、アミドまたはアミン官能基を含む任意のメタクリレートの中から選択される少なくとも一種のメタクリルモノマー（ａ₁）、
（２）０〜４０重量％、好ましくは２〜２５重量％の、無水物、例えば無水マレイン酸またはビニル芳香族モノマー、例えばスチレンまたはその誘導体、特にα−メチルスチレンおよびｂ₁に対応するモノマーの中から選択される少なくとも一種のモノマー（ａ₂）。

ＴｇはＡＳＴＭ Ｅ１３５６規格に従ってＤＳＣ（示差走査熱量測定）で例えば毎分２０℃の温度勾配で測定したポリマーのガラス遷移温度を示す。
Ｂブロックで用いるモノマーの比率を混合物中で維持することもできる。この比率はＡブロックで用いるモノマーの混合物の２０％以下である。

ブロックコポリマー（Ａ）_m−（Ｂ）_p−Ｉの重量平均分子量（Ｍ_w）は８０，０００〜３００，０００ｇ／モルであり、多分散性は１．５〜２．５である。
Ｂブロックから得られるモノマーがＡブロックの組成物中に入っているので、コポリマーを詳細に説明するためにはＢブロックのモノマー特性の全含有量とＢブロックとＡブロックとの比を特定するのが望ましい。これらの２つの比は必ずしも同じである必要はない。

コポリマー（Ａ）_m−（Ｂ）_p−Ｉは６０〜１０重量％、好ましくは５０〜２５重量％のＢブロックのモノマーを含む。ブロックコポリマー中のＢブロックの比率は１０〜５０重量％、好ましくは２０〜５０重量％である。

コポリマー（Ａ）_m−（Ｂ）_p−Ｉの製造方法は特許文献５に詳細に説明されている。
国際特許第ＷＯ ２００４／０８７７９６号

簡単にいうと、コポリマー（Ａ）_m−（Ｂ）_p−Ｉの製造方法ではアルコキシアミン型の開始剤を用いてＢブロックに必要なモノマー（一種以上）の重合を開始する。開始剤の選択は本発明材料の製造の成功に重要である。すなわち、この開始剤によってブロックコポリマーのアームの数および配列が制御できる。配列特性は開始剤のアルコキシアミンの分解で生じるニトロオキシド制御剤の選択に依存する。本発明で選択されるアルコキシアミン開始剤は下記一般式で表される：

（ここで、
Ｚは上記と同じ意味を有し、ＮＯ結合のアルファ位にある炭素原子は分子量が１６ｇ／モル以上の少なくとも一つの有機基ＲＬを有する。窒素またはアルファ位にある炭素の他の結合価は有機基、例えば直鎖または分岐鎖のアルキル基、例えばtert-ブチルまたはイソプロピル基、これらは必要に応じて置換されていてもよく、例えば１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル、水素原子、芳香族環、例えば置換されていてもよいフェニル基を有する）

本発明の好ましいアルコキシアミンは下記の式に対応するものである：

この分子ＩＩに下記の一般式に対応するニトロオキシドＸを組み合わせる：

（ここで、Ｒ_Lおよび窒素原子および窒素原子のアルファ位にある炭素原子に結合した基は上記と同じ意味を有する）
ｎを２以上の整数として選択することによって最終材料中のブロックコポリマーの含有量を極めて高くすることができ、特に、Ａの生成後の未反応のＢブロックの存在を制限することができる。

Ｂの生成中の重合を確実に良好に制御し、Ａの再開中にＢの高い反応性を維持するためにＲ_Lの選択は特に重要である。好ましくは、下記の２つのニトロオキシドＸ１およびＸ２を挙げることができる：

製造プロセスでは最初に式ＩＩの開始剤の存在下で、必要に応じて所定量の化合物Ｘを追加して、６０〜１５０℃の温度、１〜１０バールの圧力下でＢブロックを重合する。この重合は溶剤または分散媒体の存在下または非存在下で実施できる。重合は変換率が９０％になる前に停止する。Ｂブロックの残留モノマーを蒸発させるか否かは合成プロセスの容易性に応じて選択する。次いで、所定量のＡブロック用モノマーを添加する。Ａブロックの重合はＢブロックの重合と同様な条件下で行う。Ａブロックの重合は所望の変換率まで続ける。得られたポリマーを当業者に周知な手段で乾燥して生成物を回収する。この段階でアクリルフィルムの用途で必要とされる紫外線保護および熱保護に必要な種々の添加剤を添加し、シートダイを用いた押出成形によって所望の厚さのフィルムを製造する。

「ＰＭＭＡ」とはメチルメタクリレート（ＭＭＡ）のホモポリマーまたは少なくとも５０重量％がＭＭＡから成るコポリマーを意味する。コポリマーはＭＭＡと、ＭＭＡと共重合可能な少なくとも一種のコモノマーとから得られる。コポリマーは７０〜９９．５重量％、好ましくは８０〜９９．５重量％、さらに好ましくは８０〜９９重量％のＭＭＡと、それぞれ０．５〜３０重量％、好ましくは０．５〜２０重量％、より好ましくは１〜２０重量％のコモノマーとから成るのが好ましい。ＭＭＡと共重合可能なコモノマーは（メタ）アクリルモノマーまたはビニル芳香族モノマー、例えばスチレン、置換スチレン、α−メチルスチレン、モノクロルスチレンまたはtert-ブチルスチレンであるのが好ましく、アルキル（メタ）アクリレート、特にメチル、エチル、プロピルまたはブチルアクリレートまたはブチルメタアクリレートであるのが好ましい。

ＰＭＭＡはＭＭＡとアクリル酸および／またはメタアクリル酸とのコポリマーであるのが有利である。この種のＰＭＭＡはそれを含まないＰＭＭＡに比べて熱機械的強度が向上し、さらにＰＭＭＡと比較して耐引掻き性が向上する。

本発明の第２の観点からの対象は、上記のアクリル樹脂組成物から透明な平面製品を製造する方法にあり、この方法はこの組成物を押出／圧延する段階を含む。

本発明のさらに別の観点からの対象は、下記の特徴を有する上記のアクリル樹脂組成物を含む透明な平面製品にある：
（１）厚さが３００〜９００ミクロン、好ましくは４００〜７００マイクロメートルである、
（２）光透過率が少なくとも９１％である、
（３）ヘイズが２％以下である（入射光の方向に対して２．５度以上偏向される光の百分比）、
（４）温度が８０℃に上昇した時にヘイズは見られない。

本発明者は本発明の透明な平面製品は衝撃強度が２５ｋＪ／ｍ²以上であることを見出した。
本発明のさらに別の観点からの対象は、上記の透明な平面製品の、発光ダイオード（ＬＥＤ）を備えたＬＣＤフラットパネル型の装置またはエッジ照明を備えたエキストラフラットディスプレー装置での使用にある。

本発明製品はその独自の特性によって厚さの薄いＬＣＤフラットディスプレーまたはエキストラフラットディスプレーの製造での使用に特に勧められる。すなわち本発明製品は顕著な光学特性（光透過率が少なくとも９１％）を有し、この光学特性はフラットディスプレーの使用温度とは無関係に維持でき、良好な機械特性、特に衝撃特性を有し、良好な表面特性（耐摩耗性および耐引掻き性）を有する。

本発明のさらに別の観点からの対象は、本発明の少なくとも一つの透明な平面製品を含むフラットディスプレーまたはエキストラフラットディスプレーにある。
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。

アクリルブロックコポリマー（成分２）は下記のプロセスに従って合成した：
Ｂブロックの調製
撹拌器を備えたジャケット付き金属反応器に、６０００ｇのｎ−ブチルアクリレートと、開始剤としての６５ｇの２−メチル−２−［Ｎ−tert-ブチル−Ｎ−（１−ジエトキシホスホリル−２，２−ジメチルプロピル）アミノキシ］プロパン酸（分解後にＩｂ型の有機基を生成する）と、ニトロオキシドとして用いる３．２ｇのＮ−tert-ブチル−Ｎ−（１−ジエトキシホスホリル−２，２−ジメチルプロピル）アミノキシとを導入する。開始剤／ニトロオキシドモル比は７％である。
反応媒体の温度を１１５℃にする。
２２５分後のｎ−ブチルアクリレートの変換率は５５．３％である。サンプリングによって、得られたＢブロックの特徴はサイズ排除クロマトグラフィで決定できる。
数平均分子量Ｍｎ： ３３，０００Ｄａ
重量平均分子量Ｍｗ： ４４，０００Ｄａ
多分散性指数Ｉｐ＝ Ｍｗ／Ｍｎ：１．３。

Ａブロックの調製
次いで、上記反応器に２０００ｇのメチルエチルケトンと、４０００ｇのＭＭＡと、４４４ｇのメタクリル酸とを注入する。Ａブロックの重合は９０℃の温度で行う。
変換率： ５１％。
得られたコポリマーのサイズ排除クロマトグラフィによる分析は以下の通り：
数平均分子量Ｍｎ： ７７，１６０ｇ／モル
重量平均分子量Ｍｗ： １３４，０００ｇ／モル
多分散性指数Ｉｐ（Ｍ_wとＭ_nの比）： １．７５。
¹Ｈ ＮＭＲによる組成物分析から以下のことがわかる：
ｎ−ブチルアクリレート含有量： ４２重量％
メチルメタクリレート含有量： ５３重量％
メタクリル酸含有量： ５重量％。
上記ブロックコポリマーをアルケマ社から製品名アルツグラス（ALTUGLAS、登録商標）VO21cで市販のＰＭＭＡ（成分１）と押出機で溶融ブレンドした。下記のサンプルを用いた：
サンプル１（比較例）：
上記のブロックコポリマー（成分２）、
サンプル２（比較例）：
ブロックコポリマー（成分２）と、ＰＭＭＡマトリックス（成分１）とを６６％の成分２および３４％の成分１（重量％）の比率でブレンドしたもの。
サンプル３（本発明による）：
ブロックコポリマー（成分２）と、ＰＭＭＡマトリックス（成分１）とを３４％の成分２および６６％の成分１（重量％）比率でブレンドしたもの。
サンプル４（比較例）：
アルケマ社から製品名アルツグラス（ALTUGLAS、登録商標）DRTで市販の衝撃改質剤を用いて強化したＰＭＭＡ型のポリマー。

これらのサンプルの機械特性と他の特性を下記規格で評価した：
ＩＳＯ １７８規格： 曲げモジュラスまたはスティフネスの測定（ＭＰａで表す）。
ＩＳＯ １７９−２Ｄ規格： シャルピーノッチなし試験片での衝撃強度の測定（ｋＪ／ｍ²で表す）。
ＡＳＴＭ Ｄ １００３規格： 全光透過率およびヘイズの測定（％で表す）。
ＮＦＴ ５１ １１３規格： Erichsen耐引掻き性（２Ｎの荷重および１０．５ｍｍ／ｓの速度）の測定（ミクロンで表す）。
得られた結果を［表１］（Ｔは８０℃の最高温度である）に示す：

本発明の実施例３は、高スティフネス、２５ｋＪ／ｍ²以上の衝撃値、９０％以上の光透過率、２％以下のヘイズ値を有し、何よりも温度に伴うヘイズの変化を示さない、厚さの薄い（１ｍｍ以下）透明なフラットディスプレーとしての用途の仕様を完全に満たすことができる。

Claims (14)

1. ０℃以上のガラス遷移温度を有するＰＭＭＡのマトリックス中に、一般式：（Ａ）_m−（Ｂ）_p−Ｉのアクリルブロックコポリマー〔ここで、ｐは２以上の整数、ｍはｐ以下の整数、Ｂは少なくとも６０重量％のアクリルモノマー（ｂ₁）を含むモノマーの混合物（Ｂ₀）の重合で得られるコアＩに共有結合で直接結合したポリマーブロックであり、Ａは少なくとも６０重量％のメタクリルモノマー（ａ₁）を含むモノマーの混合物（Ａ₀）の重合で得られるＢブロックに共有結合で直接結合されたポリマーブロックであり、コア（Ｉ）は下記の式の一つに対応する有機基である：
   

   

   （ここで、Ａｒは置換された芳香族基を表し、Ｚは分子量が１４以上である多官能性の有機または無機の基で、ｎは２以上である）〕が分散した、アクリル樹脂組成物において、
   上記ＰＭＭＡマトリックスが６０〜８０重量％で、上記ブロックコポリマーが２０〜４０重量％であることを特徴とする組成物。
2. Ｂのガラス遷移温度（Ｔｇ）が０℃以下で、重量平均分子量（Ｍｗ）が４０，０００〜２００，０００ｇ／モルで、多分散性指数（Ｉｐ）が１．１〜２．５、好ましくは１．１〜２．０である請求項１に記載の組成物。
3. モノマーの混合物Ｂ₀が下記（１）と（２）のモノマーから成る請求項１または２に記載の組成物：
   （１）６０〜１００重量％の少なくとも２個の炭素原子、好ましくは少なくとも４個の炭素原子を有するアルキル鎖を有するアルキルアクリレート、例えばブチル、オクチル、ノニルまたは２−エチルヘキシルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレートまたはアクリロニトリルの中から選択される少なくとも一種のアクリルモノマー（ｂ₁）、
   （２）０〜４０重量％のエチレンモノマー、ビニルモノマーのようなラジカル重合可能なモノマー（ｂ₂）。
4. ＡブロックのＴｇ温度が５０℃以上である請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
5. Ａブロックが、下記（１）と（２）のモノマーから成るモノマーの混合物（Ａ₀）の重合で得られる請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物：
   （１）６０〜１００重量％、好ましくは７５〜９８重量％のアルキルメタクリレート、例えばメチル、ブチル、オクチル、ノニルまたは２−エチルヘキシルメタクリレート、または官能性メタクリル化合物、例えばメタクリル酸、グリシジルメタクリレート、メタクリロニトリル、またはアルコール、アミドまたはアミン官能基を含む任意のメタクリレートの中から選択される少なくとも一種のメタクリルモノマー（ａ₁）、
   （２）０〜４０重量％、好ましくは２〜２５重量％の無水物、例えば無水マレイン酸またはビニル芳香族モノマー、例えばスチレンまたはその誘導体、特にα−メチルスチレンおよびｂ₁に対応するモノマーの中から選択される少なくとも一種のモノマー（ａ₂）。
6. ブロックコポリマー（Ａ）_m−（Ｂ）_p−Ｉの重量平均分子量（Ｍ_w）が８０，０００〜３００，０００ｇ／モルで、その多分散性が１．５〜２．５である請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
7. ブロックコポリマーの量が３４重量％である請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
8. 上記組成物を押し出す段階を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物から透明な平面製品を製造する方法。
9. 下記（１）〜（３）の特徴を有する請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物を含む透明な平面製品：
   （１）厚さが３００〜９００ミクロン、好ましくは４００〜７００マイクロメートルで、
   （２）光透過率が少なくとも９１％で、
   （３）ヘイズが２％以下である。
10. さらに、衝撃強度が２５ｋＪ／ｍ²以上である請求項９に記載の製品。
11. 請求項９または１０に記載の透明な平面製品の、ＬＣＤフラットパネル型装置での使用。
12. 請求項９または１０に記載の透明な平面製品の、エッジリットエキストラフラットパネル型装置での使用。
13. 請求項９または１０に記載の少なくとも一つの製品を含むＬＣＤフラットパネル。
14. 請求項９または１０に記載の少なくとも一つの製品を含むエキストラフラットパネル。