JP2012500498A - 静電チャック用エッジリング - Google Patents
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Abstract
【選択図】図2A
Description
本願は、2008年8月19日付出願の米国仮特許出願第61/090,182号全文を本明細書に援用して、その優先権の利益を主張する。
Claims (30)
- プラズマ環境下で基板を保持するよう構成される静電チャックに用いられる装置であって、
前記静電チャックのセラミック上部部材の外周に配置され、少なくとも前記セラミック上部部材の一部にのみ結合され、前記セラミック上部部材と同軸となるよう構成されるエッジリングを備え、前記エッジリングは、
前記エッジリングと前記セラミック上部部材の前記外周との間に機械的結合をもたらすように配置されるエッジ段差部を有する内縁部と、
外縁部と、
前記内縁部と前記外縁部との間に配置され、前記エッジリングが前記セラミック上部部材の前記外周に配置される時に水平になり、且つ前記プラズマ環境内で作動中に前記基板に対して平行となる略平坦な部分とを備える、装置。 - 前記エッジリングの少なくとも一部は固体イットリウムから製造される、請求項1に記載の装置。
- 前記エッジリングの少なくとも一部は酸化アルミニウムから製造される、請求項1に記載の装置。
- 前記酸化アルミニウムの少なくとも一部には酸化イットリウムが塗布される、請求項3に記載の装置。
- 前記エッジリングは前記静電チャックの前記セラミック上部部材の周囲に摩擦嵌合をもたらすように製造されている、請求項1に記載の装置。
- 前記摩擦嵌合は約100℃を超える温度範囲において保持される、請求項5に記載の装置。
- 前記エッジ段差部は、前記エッジリングの前記内縁部から半径方向内向きに約0.4ミリメートル伸長する、請求項1に記載の装置。
- 前記エッジ段差部の内側部分は、前記エッジリングの前記内縁部と平行に約1.9ミリメートル伸長する、請求項1に記載の装置。
- プラズマ環境下で基板を保持するよう構成される静電チャックに用いられる装置であって、
前記静電チャックのベースプレートの外周に配置され、少なくとも前記ベースプレートの一部にのみ結合され、前記ベースプレートと同軸となるよう構成されるエッジリングを備え、前記エッジリングは、
前記エッジリングと前記ベースプレートの前記外周との間に機械的結合を与えるよう配置されるエッジ段差部を有する内縁部と、
外縁部と、
前記内縁部と前記外縁部との間に配置され、前記エッジリングが前記ベースプレートの前記外周に配置される時に水平になり、且つ前記プラズマ環境内で作動中に前記基板に対して平行となる略平坦な部分とを備える、装置。 - 前記エッジリングの少なくとも一部は固体イットリウムから製造される、請求項9に記載の装置。
- 前記エッジリングの少なくとも一部は酸化アルミニウムから製造される、請求項9に記載の装置。
- 前記酸化アルミニウムの少なくとも一部には酸化イットリウムが塗布される、請求項11に記載の装置。
- 前記エッジリングは前記静電チャックの前記ベースプレート周囲に摩擦嵌合をもたらすように製造されている、請求項9に記載の装置。
- 前記摩擦嵌合は約100℃を超える温度範囲において保持される、請求項13に記載の装置。
- 前記エッジ段差部は、前記エッジリングの前記内縁部から半径方向内向きに約0.4ミリメートル伸長する、請求項9に記載の装置。
- 前記エッジ段差部の内側部分は、前記エッジリングの前記内縁部と平行に約1.9ミリメートル伸長する、請求項9に記載の装置。
- プラズマ環境下で基板を保持するよう構成される静電チャックに用いられる装置であって、
複数のピンを介して前記静電チャックのベースプレートに結合するよう構成されるエッジリングと、
前記エッジリングの外周近傍に配置され、前記複数のピン上に配置されて前記エッジリングを前記静電チャックと同軸上にセンタリングするよう構成され、前記エッジリングの前記同軸的センタリングを保持しつつ前記エッジリングと前記ベースプレートとの間の熱膨張差を許容するよう構成される複数のピンスロットとを備える、装置。 - 前記複数のピンスロットは非貫通孔構造として配置される、請求項17に記載の装置。
- 前記複数のピンスロットは貫通孔構造として配置される、請求項17に記載の装置。
- 前記エッジリングの少なくとも一部は固体イットリウムから製造される、請求項17に記載の装置。
- 前記エッジリングの少なくとも一部は酸化アルミニウムから製造される、請求項17に記載の装置。
- 前記酸化アルミニウムの少なくとも一部には酸化イットリウムが塗布される、請求項21に記載の装置。
- 前記複数のピンスロットは、前記複数のピン周囲に使用時温度で摩擦嵌合を与えるよう製造されている、請求項17に記載の装置。
- プラズマ環境下で基板を保持するよう構成される静電チャックに用いられる装置であって、
複数のピンを介して前記静電チャックのベースプレートに結合するよう構成されるエッジリングと、
前記ベースプレートの外周近傍に配置され、前記複数のピン上に配置されて前記エッジリングを前記静電チャックと同軸上にセンタリングするよう構成され、前記エッジリングの前記同軸的センタリングを保持しつつ前記エッジリングと前記ベースプレートとの間の熱膨張差を許容するよう構成される複数のピンスロットとを備える、装置。 - 前記複数のピンスロットは非貫通孔構造として配置される、請求項24に記載の装置。
- 前記複数のピンスロットは貫通孔構造として配置される、請求項24に記載の装置。
- 前記エッジリングの少なくとも一部は固体イットリウムから 製造される、請求項24に記載の装置。
- 前記エッジリングの少なくとも一部は酸化アルミニウムから製造される、請求項24に記載の装置。
- 前記酸化アルミニウムの少なくとも一部には酸化イットリウムが塗布される、請求項28に記載の装置。
- 前記複数のピンスロットは前記複数のピン周囲に使用時温度で摩擦嵌合をもたらすように製造されている、請求項24に記載の装置。
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