JP2012235132A - 液処理におけるノズル洗浄、処理液乾燥防止方法及びその装置 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 368
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 201
- 238000001035 drying Methods 0.000 title claims abstract description 79
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 49
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 349
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 43
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims abstract description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 242
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 14
- 230000001629 suppression Effects 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 57
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 49
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 38
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 238000011161 development Methods 0.000 description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
【解決手段】漏斗部65を有する洗浄室62と、漏斗部に溶剤を供給する第1の溶剤供給手段71と、漏斗部の上部側に溶剤を供給する第2の溶剤供給手段72と、ノズル吸引手段と、ノズルの先端部の周囲に位置する漏斗部の内周面の下端がノズルの先端部よりも上方に位置する洗浄室内の位置と、基板に対して処理液を吐出する位置と、の間でノズルを移動させるノズル移動手段44,46と、第1,第2の溶剤供給手段、吸引手段及び移動手段を制御するコントローラ100と、を具備する。第1の溶剤供給手段から洗浄室内に溶剤を供給し、溶剤の渦流を形成してノズルを洗浄し、第2の溶剤供給手段から洗浄室内に供給し、洗浄室内に溶剤の液溜りを形成し、吸引手段によりノズルを吸引して、ノズルの先端内部に処理液層と空気層と処理液の溶剤層とを形成する。
【選択図】 図6
Description
2 塗布装置
4 ノズルユニット
4A〜4J 処理液供給ノズル
6 待機ユニット
42A〜42J 処理液供給管路
44 昇降機構(移動手段)
46 水平方向移動機構(移動手段)
61 容器
62 洗浄室
64 円筒状胴部
65 漏斗部
67 液排出室
70,70A,70B 溶剤供給源
71 第1の溶剤供給手段
72 第2の溶剤供給手段
73 第1の溶剤供給管路
74 第1の 流入口
75 第2の溶剤供給管路
76,76a,76b 第2の 流入口
100 コントローラ
VA〜VJ サックバックバルブ(吸引手段)
CA〜CL 流量調整部
R レジスト液層(処理液層)
A 空気層
T シンナー液層(溶剤層)
Claims (19)
- 処理液供給用のノズルから基板に対して処理液を吐出する処理を行う液処理において、
上記ノズルを、該ノズルの先端周囲の内周面が漏斗状で、該漏斗部の下端はノズルの先端部より上方に位置するよう洗浄室内に収容する工程と、
処理液の溶剤を供給する第1の溶剤供給手段から上記洗浄室の漏斗部に設けられた第1の流入口を介して漏斗部の内周面に沿って周方向に上記溶剤を所定量流入し、上記ノズルの先端部の回りを旋回する上記溶剤の渦流によって洗浄を行う工程と、
処理液の溶剤を供給する第2の溶剤供給手段から上記洗浄室の上記第1の流入口よりも上部に設けられた第2の流入口を介して上記漏斗部の上部に上記溶剤を所定量流入し、上記洗浄室内に上記溶剤の液溜りを形成する工程と、
上記ノズルを吸引して、ノズル内の処理液の液面を処理液供給管路側に後退させると共に、上記液溜りの溶剤をノズルの先端部内に吸引して、ノズルの先端内部に、処理液供給管路側から順に処理液層と空気層と処理液の溶剤層とを形成する工程と、
を有することを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法。 - 請求項1記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法において、
上記第1の溶剤供給手段から上記洗浄室の漏斗部内に流入される上記溶剤の流量を第1の流量調整部によって調整し、上記第2の溶剤供給手段から上記洗浄室内の上記漏斗部の上部に流入される上記溶剤の流量を第2の流量調整部によって調整することを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法。 - 請求項1又は2記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法において、
上記ノズルの先端内部に、処理液供給管路側から順に処理液層と空気層と処理液の溶剤層とを形成する工程の後に、上記溶剤層の溶剤の液面を処理液供給管路側に後退する工程を有することを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法において、
上記第2の溶剤供給手段から上記洗浄室の内周面に沿って周方向に処理液の溶剤を流入する、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法において、
上記第2の溶剤供給手段から上記洗浄室の内周面に沿って、上記第1の溶剤供給手段から洗浄室内に流入される第1の溶剤の旋回方向と逆の周方向に処理液の溶剤を流入する、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法において、
上記第1の溶剤供給手段から流入される第1の溶剤の流量に対して上記第2の溶剤供給手段から流入される第2の溶剤の流量を同等以上とする、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法において、
上記第1の溶剤供給手段から流入される第1の溶剤と上記第2の溶剤供給手段から流入される第2の溶剤が同種類の溶剤である、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法において、
上記第1の溶剤供給手段から流入される第1の溶剤に対して上記第2の溶剤供給手段から流入される第2の溶剤が揮発性の低い溶剤である、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法。 - 請求項1ないし8のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法において、
上記溶剤の渦流によって洗浄する工程の際に、上記ノズルを上下移動させて行う、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法。 - 処理液供給用のノズルから基板に対して処理液を吐出する処理を行う液処理において、
上記ノズルを収容し、該ノズルの先端周囲の内周面が下方に向かって狭小となるテーパ状の漏斗部を有する洗浄室と、
上記洗浄室の上記漏斗部に設けられた第1の流入口を介して漏斗部の内周面に沿わせて処理液の溶剤を旋回供給する第1の溶剤供給手段と、
上記洗浄室の上記第1の流入口よりも上部に設けられた第2の流入口を介して上記漏斗部の上部側に処理液の溶剤を供給する第2の溶剤供給手段と、
上記ノズルを吸引する吸引手段と、
上記漏斗部の内周面が上記ノズルの先端部の周囲に位置し、かつ上記漏斗部の内周面の下端が上記ノズルの先端部よりも上方に位置するようになる上記洗浄室内の位置と、上記基板に対して処理液を吐出する位置と、の間で上記ノズルを移動させるノズル移動手段と、
上記第1及び第2の溶剤供給手段、上記吸引手段及び上記ノズル移動手段を制御する制御手段と、を具備してなり、
上記制御手段により、上記ノズルが上記洗浄室内に収容された際、上記第1の溶剤供給手段から上記第1の流入口を介して上記洗浄室内に溶剤を所定量供給することにより、上記ノズルの先端部の回りを旋回する溶剤の渦流を形成してノズルを洗浄し、その後、上記第2の溶剤供給手段から上記第2の流入口を介して上記洗浄室内に所定量供給することにより、上記洗浄室内に溶剤の液溜りを形成し、次いで、上記吸引手段により上記ノズルを吸引して、ノズルの先端内部に、処理液供給管路側から順に処理液層と空気層と処理液の溶剤層とを形成する、
ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置。 - 請求項10記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置において、
上記第1の溶剤供給手段により供給される溶剤の流量を調整する第1の流量調整部と、上記第2の溶剤供給手段により供給される溶剤の流量を調整する第2の流量調整部を更に具備し、上記第1及び第2の流量調整部を上記制御手段により制御可能に形成してなる、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置。 - 請求項10又は11記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置において、
上記制御手段により、上記ノズルの先端内部に、処理液供給管路側から順に処理液層と空気層と処理液の溶剤層とを形成した後に、上記溶剤層の溶剤の液面を処理液供給管路側に後退する、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置。 - 請求項10ないし12のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置において、
上記第1の溶剤供給手段が接続される上記洗浄室の第1の流入口を、洗浄室の漏斗部の内周面の接線方向に設けた、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置。 - 請求項10ないし12のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置において、
上記第1の溶剤供給手段が接続される上記洗浄室の第1の流入口を、洗浄室の漏斗部の内周面の接線方向に設け、
上記第2の溶剤供給手段が接続される上記洗浄室の第2の流入口を、洗浄室の漏斗部の上部内周面の接線方向に設け、かつ、上記第1の流入口と第2の流入口を同一の接線方向とした、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置。 - 請求項10ないし12のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置において、
上記第1の溶剤供給手段が接続される上記洗浄室の第1の流入口を、洗浄室の漏斗部の内周面の接線方向に設け、
上記第2の溶剤供給手段が接続される上記洗浄室の第2の流入口を、洗浄室の漏斗部の上部内周面の接線方向に設け、かつ、上記第1の流入口と第2の流入口を互いに対向する接線方向とした、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置。 - 請求項10ないし15のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置において、
上記第1の溶剤供給手段から流入される第1の溶剤の流量に対して上記第2の溶剤供給手段から流入される第2の溶剤の流量を同等以上とする、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置。 - 請求項10ないし16のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置において、
上記第1の溶剤供給手段から流入される第1の溶剤と上記第2の溶剤供給手段から流入される第2の溶剤が同種類の溶剤である、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置。 - 請求項10ないし16のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置において、
上記第1の溶剤供給手段から流入される第1の溶剤に対して上記第2の溶剤供給手段から流入される第2の溶剤が揮発性の低い溶剤である、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置。 - 請求項10ないし18のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置において、
上記制御手段は、ノズルの洗浄の際に、ノズル移動手段を駆動してノズルを上下移動させる、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012137687A JP5289605B2 (ja) | 2012-06-19 | 2012-06-19 | 液処理におけるノズル洗浄、処理液乾燥防止方法及びその装置 |
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JP2008226845A Division JP5036664B2 (ja) | 2008-09-04 | 2008-09-04 | 液処理におけるノズル洗浄、処理液乾燥防止方法及びその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012235132A true JP2012235132A (ja) | 2012-11-29 |
JP5289605B2 JP5289605B2 (ja) | 2013-09-11 |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5289605B2 (ja) |
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---|---|
JP5289605B2 (ja) | 2013-09-11 |
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