JP2012212819A5 - - Google Patents

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  1. 前記処理室内に、処理に使用されたガスが縦方向に流れる排気通路を有し、
    前記被処理体の縁から前記処理室の内壁面までの距離を、前記排気通路以外の部分では距離ｄ１とし、前記排気通路の部分では距離ｄ２としたとき、ｄ１＜ｄ２に設定されていることを特徴とする請求項１に記載の縦型バッチ式成膜装置。
JP2011078481A 2011-03-31 2011-03-31 縦型バッチ式成膜装置 Active JP5595963B2 (ja)

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