JP2012199327A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置は、インデクサロボット11と、主搬送ロボット12と、処理ユニット6と、受渡ユニット9と、ハンド洗浄ユニット15とを含む。インデクサロボット11および主搬送ロボット12は、基板を保持するインデクサハンド20および主搬送ハンド30をそれぞれ有している。インデクサロボット11と主搬送ロボット12とは、受渡ユニット9を介して基板を受渡する。ハンド洗浄ユニット15は、受渡ユニット9の上方または下方に配置され、インデクサハンド20および主搬送ハンド30を洗浄する。
【選択図】図1
Description
前記基板受渡場所は、前記第1および第2基板搬送ロボットの間に配置されていることが好ましい。
請求項2記載の発明は、前記基板受渡場所に配置され、基板を保持する基板保持ユニット(9,10)をさらに含む、請求項1に記載の基板処理装置である。この構成によれば、基板保持ユニットによって基板を保持することができるので、この基板保持ユニットによって、第1および第2基板搬送ロボット間の搬送を仲介することができる。この基板保持ユニットの上方または下方にハンド洗浄ユニットを配置することによって、基板処理装置の占有面積を大きくすることなく、ハンド洗浄機能を追加できる。
なお、基板受渡場所に基板保持ユニットを配置せず、第1および第2基板搬送ロボット間の基板の受け渡しを、一方のハンドから他方のハンドへの直接受け渡しによって行ってもよい。
請求項5記載の発明は、前記ハンド受け容れ口が、互いに異なる位置に形成された第1ハンド受け容れ口(45)および第2ハンド受け容れ口(46)を含む、請求項4に記載の基板処理装置である。より具体的には、請求項6に記載されているように、前記第1ハンド受け容れ口が前記第1基板搬送ロボットに向けられており、前記第2ハンド受け容れ口が前記第2基板搬送ロボットに向けられていることが好ましい。これにより、第1および第2基板搬送ロボットのハンドを共通のハンド洗浄ユニット(15)によって洗浄できる。これにより、基板処理装置内の空間をさらに効率的に利用して、ハンド洗浄機能を追加できる。
図1Aは、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の内部のレイアウトを説明するための図解的な平面図であり、図1Bは、図1Aの切断面線IB−IBから見た図解的な縦断面図である。
この基板処理装置は、半導体基板その他の処理対象基板を一枚ずつ処理するための枚葉型の装置であり、インデクサセクション1と、プロセスセクション2とを含む。
インデクサロボット11は、基板収容器保持部4に保持されたいずれかの基板収容器3から未処理の1枚の基板を搬出し、受渡ユニット9に搬入する。主搬送ロボット12は、受渡ユニット9から未処理の基板を搬出し、その基板を複数の処理ユニット6のうちのいずれかに搬入する。さらに、主搬送ロボット12は、処理済の基板を処理ユニット6から取り出して、この処理済の基板を受渡ユニット9に渡す。インデクサロボット11は、受渡ユニット9から処理済みの基板を搬出し、いずれかの基板収容器保持部4に保持された基板収容器3に搬入する。
ハンド洗浄ユニット15は、ハンド20,30を収容して、それらに対して洗浄処理を施すためのハンド処理空間43を区画するハウジング40を含む。ハウジング40は、たとえば、扁平な直方体の箱状に形成されており、一対の端面41,42をそれぞれインデクサロボット11および主搬送ロボット12に対向させて配置されている。インデクサロボット11側の第1端面41には、インデクサハンド20を受け容れるための第1ハンド受け容れ口45が形成されており、このハンド受け容れ口45を開閉するための第1シャッタ機構47が配置されている。同様に、主搬送ロボット12側の第2端面42には、主搬送ハンド30を受け容れるための第2ハンド受け容れ口46が形成されており、このハンド受け容れ口46を開閉するための第2シャッタ機構48が配置されている。第1ハンド受け容れ口45と、第2ハンド受け容れ口46とは、同じ高さに形成されていてもよいし、高さをずらして配置されていてもよい。高さをずらして配置されていれば、インデクサロボット11および主搬送ロボット12がそれぞれのハンド20,30を同時にハンド処理空間43に挿入しても、それらのハンド20,30が互いに干渉しないことを構造的に保証できる。
洗浄液ノズル51,52は、第1端面41に沿った3箇所と、第2端面42に沿った3箇所とに配置されている。第1端面41に沿って配置された3個のうちの中央の1個の洗浄液ノズル51は、ハンド処理空間43に挿入されたインデクサハンド20の基端部23に配置された基板ガイド25の配置に整合している。また、第1端面41に沿って配置された3個のうちの両端の2個の洗浄液ノズル52は、ハンド処理空間43に挿入された主搬送ハンド30の指状部32の先端に配置された一対の基板ガイド35の配置に整合している。一方、第2端面42に沿って配置された3個のうちの中央の1個の洗浄液ノズル52は、ハンド処理空間43に挿入された主搬送ハンド30の基端部33に配置された基板ガイド35の配置に整合している。また、第2端面42に沿って配置された3個のうちの両端の2個の洗浄液ノズル51は、ハンド処理空間43に挿入されたインデクサハンド20の指状部22の先端に配置された一対の基板ガイド25の配置に整合している。すなわち、3個の洗浄液ノズル51の配置は、インデクサハンド20の基板ガイド25の配置に整合しており、それらの基板ガイド25に向けて洗浄液を吐出するように構成されている。同様に、3個の洗浄液ノズル52の配置は、主搬送ハンド30の基板ガイド35の配置に整合しており、それらの基板ガイド35に向けて洗浄液を吐出するように構成されている。
紫外線ランプ57,58には、図示しない電源線から電力が供給されている。インデクサハンド20および主搬送ハンド30にそれぞれ対応する紫外線ランプ57,58は、共通に点灯/消灯されるようになっていてもよいし、個別に点灯/消灯されるように回路配線が構成されていてもよい。
さらに、ハンド洗浄ユニット15は、インデクサハンド20および主搬送ハンド30を収容して処理するためのハンド処理空間43を区画するハウジング40を備えている。そして、第1および第2シャッタ機構47,48によって第1および第2ハンド受け容れ口45,46を開閉できるようになっている。そのため、ハンド処理空間43は実質的に閉空間となっており、この閉空間内でハンド20,30を洗浄できる。これにより、ハンド洗浄のための処理の影響が基板に及ぶことを回避できる。また、ハンド洗浄を行わない期間は、ハンド受け容れ口45,46を閉塞できるから、ハンド処理空間43内の雰囲気の漏洩を抑制または防止できる。これによって、ハンド洗浄処理の影響が基板に及ぶことを一層効果的に回避できる。
また、乾燥促進剤ノズル53,54から乾燥促進剤を供給することにより、ハンド20,30の乾燥を短時間で行うことができるから、洗浄液によるハンドの洗浄の後、速やかにハンド20,30を乾燥させることができる。これにより、ハンド洗浄後、基板保持のためにハンドを用いることができるまでの時間を短縮できるから、ハンド洗浄の基板搬送への影響を最小限に抑制できる。
インデクサハンド20および/または主搬送ハンド30の洗浄を実行するタイミングを例示すれば次のとおりである。これらのうちの一つまたは複数のタイミングを組み合わせて、インデクサハンド20および主搬送ハンド30の洗浄タイミングを決めてもよい。
(2)予め定める枚数の基板を搬送または処理した後:多数枚の基板を搬送すると、基板ガイド25,35に汚染が蓄積されていき、搬送不良が生じるおそれがある。そこで、インデクサロボット11および/または主搬送ロボット12が搬送した基板の枚数や、当該基板処理装置で処理した基板の枚数を計数し、その計数値が所定値に達したときに、インデクサハンド20および主搬送ハンド30の洗浄を行うようにしてもよい。
(4)基板処理の種類の区切り:第1種類の基板処理工程を1枚または複数枚の基板に対して実行し、次に第1種類とは異なる第2種類の基板処理を別の1枚または複数枚の基板に対して実行する場合に、当該第2種類の基板処理を開始する前に、インデクサハンド20および主搬送ハンド30の洗浄を実行してもよい。
なお、図1Bに仮想線で示すように、ハンド洗浄ユニット15は、2つ以上設けてもよい。たとえば、2つのハンド洗浄ユニット15を設ける場合に、この2つのハンド洗浄ユニット15はいずれも受渡ユニット9の上方に配置されてもよいし、いずれも下方に配置されてもよいし、上方および下方に振り分けて配置されてもよい。図1Bには、上下に振り分けて配置する例を示した。2つ以上のハンド洗浄ユニット15を設けることによって、インデクサハンド20および主搬送ハンド30の洗浄期間を重複させることができる。すなわち、インデクサロボット11および主搬送ロボット12は、ハンド洗浄のタイミングをずらす必要がなく、したがって、そのタイミング調整の必要もなくなる。よって、基板搬送に対する影響を抑制しながら、ハンド20,30の洗浄を行うことができる。
図8は、前記第2の実施形態の他の変形例を示す図解的な縦断面図である。この変形例では、第1および第2ハンド洗浄ユニット151,152の両方が受渡ユニット9の下方に配置されている。図8では、第1ハンド洗浄ユニット151が第2ハンド洗浄ユニット152よりも上方に配置されているが、これの上下関係を反転してもよい。
第1ハンド洗浄ユニット151と第2ハンド洗浄ユニット152との上下関係を反対にして、第1ハンド洗浄ユニット151を受渡ユニット9の下方に配置し、第2ハンド洗浄ユニット152を受渡ユニット9の上方に配置してもよい。また、受渡ユニット9の上方に、第1および第2ハンド洗浄ユニット151,152の両方を配置してもよいし、受渡ユニット9の下方に第1および第2ハンド洗浄ユニット151,152の両方を配置してもよい。この場合、第1および第2ハンド洗浄ユニット151,152は、いずれが上方に配置されてもよい。
2 プロセスセクション
3 基板収容器
4 基板収容器保持部
6 処理ユニット
8 搬送路
9 受渡ユニット
10 シャトル搬送機構
11 インデクサロボット
12 主搬送ロボット
15 ハンド洗浄ユニット
151 第1ハンド洗浄ユニット
152 第2ハンド洗浄ユニット
18 制御装置
20 インデクサハンド
21 ハンド駆動機構
22 指状部
23 基端部
25 基板ガイド
30 主搬送ハンド
31 ハンド駆動機構
32 指状部
33 基端部
35 基板ガイド
40 ハウジング
41 第1端面
42 第2端面
43 ハンド処理空間
45 第1ハンド受け容れ口
46 第2ハンド受け容れ口
47 第1シャッタ機構
471 固定シャッタ板
472 可動シャッタ板
473 シャッタ駆動機構
474 凹部
48 第2シャッタ機構
481 固定シャッタ板
482 可動シャッタ板
483 シャッタ駆動機構
484 凹部
51 洗浄液ノズル
52 洗浄液ノズル
53 乾燥促進剤ノズル
54 乾燥促進剤ノズル
55 不活性ガスノズル
56 不活性ガスノズル
57 紫外線ランプ
58 紫外線ランプ
61〜64 処理ユニット群
71 洗浄液供給源
72 洗浄液供給路
73 洗浄液バルブ
74 超音波振動ユニット
75 乾燥促進剤供給源
76 乾燥促進剤供給路
77 乾燥促進剤バルブ
79 不活性ガス供給源
80 不活性ガス供給路
81 不活性ガスバルブ
83 排液管
84 排気管
P1 第1基板受渡位置
P2 第2基板受渡位置
Claims (14)
- 基板を保持するハンドを有する第1基板搬送ロボットと、
基板を保持するハンドを有する第2基板搬送ロボットと、
前記第1基板搬送ロボットおよび前記第2の基板搬送ロボットがそれぞれのハンドをアクセスさせることができ、前記第1および第2基板搬送ロボット間で基板を受け渡す基板受渡場所の上方または下方に配置され、前記第1基板搬送ロボットおよび前記第2基板搬送ロボットのそれぞれのハンドを洗浄するハンド洗浄ユニットとを含む、基板処理装置。 - 前記基板受渡場所に配置され、基板を保持する基板保持ユニットをさらに含む、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記ハンド洗浄ユニットは、ハンドを収容して処理するためのハンド処理空間を区画するハウジングを含む、請求項1または2に記載の基板処理装置。
- ハンドを前記ハンド処理空間に出し入れするためのハンド受け容れ口が前記ハウジングに形成されている、請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記ハンド受け容れ口が、互いに異なる位置に形成された第1ハンド受け容れ口および第2ハンド受け容れ口を含む、請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記第1ハンド受け容れ口が前記第1基板搬送ロボットに向けられており、前記第2ハンド受け容れ口が前記第2基板搬送ロボットに向けられている、請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記ハウジングには前記ハンド受け容れ口が一つだけ形成されている、請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記ハンド洗浄ユニットは、前記ハンド受け容れ口を前記第1基板搬送ロボットに向けて配置された第1ハンド洗浄ユニットと、前記ハンド受け容れ口を前記第2基板搬送ロボットに向けて配置された第2ハンド洗浄ユニットとを含む、請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記ハンド受け容れ口を開閉するシャッタ機構をさらに含む、請求項4〜8のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記ハンド処理空間内を排気するための排気路が前記ハウジングに結合されている、請求項4〜9のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記ハンド洗浄ユニットは、前記ハンド処理空間に導入されたハンドに洗浄液を供給する洗浄液供給手段を含み、前記ハンド処理空間内の液体を排液するための排液路が前記ハウジングに結合されている、請求項4〜11のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記洗浄液供給手段は、ハンドの基板接触部に対応するように前記ハンド処理空間内に配置された洗浄液ノズルを含む、請求項11に記載の基板処理装置。
- 前記ハンド処理空間に導入されたハンドに乾燥促進剤を供給する乾燥促進剤供給手段をさらに含む、請求項11または12に記載の基板処理装置。
- 前記ハンド洗浄ユニットは、ハンドに紫外線を照射する紫外線ランプを含む、請求項1〜13のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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