JP2012197468A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012197468A5
JP2012197468A5 JP2011060964A JP2011060964A JP2012197468A5 JP 2012197468 A5 JP2012197468 A5 JP 2012197468A5 JP 2011060964 A JP2011060964 A JP 2011060964A JP 2011060964 A JP2011060964 A JP 2011060964A JP 2012197468 A5 JP2012197468 A5 JP 2012197468A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
vapor deposition
chamber
substrate
mask holder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011060964A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2012197468A (ja
JP5877955B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2011060964A priority Critical patent/JP5877955B2/ja
Priority claimed from JP2011060964A external-priority patent/JP5877955B2/ja
Priority to KR1020137026823A priority patent/KR101958500B1/ko
Priority to PCT/JP2012/054590 priority patent/WO2012127981A1/ja
Priority to TW101108852A priority patent/TW201305355A/zh
Publication of JP2012197468A publication Critical patent/JP2012197468A/ja
Publication of JP2012197468A5 publication Critical patent/JP2012197468A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5877955B2 publication Critical patent/JP5877955B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2011060964A 2011-03-18 2011-03-18 蒸着装置並びに蒸着方法 Active JP5877955B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011060964A JP5877955B2 (ja) 2011-03-18 2011-03-18 蒸着装置並びに蒸着方法
KR1020137026823A KR101958500B1 (ko) 2011-03-18 2012-02-24 증착 장치 및 증착 방법
PCT/JP2012/054590 WO2012127981A1 (ja) 2011-03-18 2012-02-24 蒸着装置並びに蒸着方法
TW101108852A TW201305355A (zh) 2011-03-18 2012-03-15 蒸鍍裝置及蒸鍍方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011060964A JP5877955B2 (ja) 2011-03-18 2011-03-18 蒸着装置並びに蒸着方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012197468A JP2012197468A (ja) 2012-10-18
JP2012197468A5 true JP2012197468A5 (ko) 2014-05-01
JP5877955B2 JP5877955B2 (ja) 2016-03-08

Family

ID=46879141

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011060964A Active JP5877955B2 (ja) 2011-03-18 2011-03-18 蒸着装置並びに蒸着方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5877955B2 (ko)
KR (1) KR101958500B1 (ko)
TW (1) TW201305355A (ko)
WO (1) WO2012127981A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6053814B2 (ja) * 2012-11-15 2016-12-27 三菱重工業株式会社 付着物除去装置と、該付着物除去装置を用いた蒸着システムおよび除去方法
JP5534093B1 (ja) * 2013-01-11 2014-06-25 大日本印刷株式会社 メタルマスクおよびメタルマスクの製造方法
KR102223849B1 (ko) * 2017-10-05 2021-03-05 가부시키가이샤 아루박 스퍼터링 장치

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005076089A (ja) * 2003-09-01 2005-03-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 成膜方法および成膜装置
JP4166664B2 (ja) * 2003-10-22 2008-10-15 トッキ株式会社 有機ｅｌ素子製造装置
JP4421322B2 (ja) * 2004-02-19 2010-02-24 株式会社トクヤマ 物品の洗浄方法
JP4644565B2 (ja) * 2004-09-01 2011-03-02 三洋電機株式会社 洗浄装置
JP2008013828A (ja) * 2006-07-07 2008-01-24 Canon Inc 基板ホルダー及び成膜装置
US20080131587A1 (en) 2006-11-30 2008-06-05 Boroson Michael L Depositing organic material onto an oled substrate
JP2009185362A (ja) * 2008-02-08 2009-08-20 Seiko Epson Corp 蒸着装置およびマスクのクリーニング方法
JP5042195B2 (ja) * 2008-10-29 2012-10-03 株式会社日立ハイテクノロジーズ 蒸着マスクの洗浄装置および洗浄方法
JP5620146B2 (ja) * 2009-05-22 2014-11-05 三星ディスプレイ株式會社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． 薄膜蒸着装置
JP5328726B2 (ja) * 2009-08-25 2013-10-30 三星ディスプレイ株式會社 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102106414B1 (ko) 증착 챔버, 이를 포함하는 증착 시스템 및 유기 발광 표시장치 제조방법
CN101677122A (zh) 有机el用掩模清洁装置及方法、有机el显示器及其制造装置
US20100310759A1 (en) Method and apparatus for cleaning organic deposition materials
US20130276701A1 (en) Deposition device, and collection device
JP6799601B2 (ja) Ｏｌｅｄデバイスの製造に使用される真空システムを洗浄するための方法、ｏｌｅｄデバイスを製造するための基板の上での真空堆積のための方法、及びｏｌｅｄデバイスを製造するための基板の上での真空堆積のための装置
JP5285187B2 (ja) 蒸着装置及び蒸着方法
JP2010236088A (ja) マスク部材のクリーニング装置及びクリーニング方法並びに有機ｅｌディスプレイ
US10792709B2 (en) Mask cleaning method and mask cleaning apparatus for performing the same
TWI582256B (zh) 薄型基板處理裝置
JP5424972B2 (ja) 真空蒸着装置
JP5877955B2 (ja) 蒸着装置並びに蒸着方法
JP2012197468A5 (ko)
CN104128342A (zh) 用于清洗有机材料的方法和设备
KR102495121B1 (ko) 기판을 프로세싱하는 진공 프로세싱 장치 및 방법
JP2019512045A (ja) 基板の真空処理のための装置、有機材料を有するデバイスの製造のためのシステム、及び処理真空チャンバと保守真空チャンバを互いから密封するための方法
JP5875851B2 (ja) 薄膜製造方法、薄膜製造装置
KR102165998B1 (ko) 유기물 증착용 마스크 및 이를 포함하는 유기물 증착 장치
KR101537287B1 (ko) 식각장치
JP6436829B2 (ja) 成膜装置
KR101341850B1 (ko) 유기 증착 마스크의 플라즈마 건식세정을 위한 시스템
JP5478324B2 (ja) クリーニング装置、成膜装置、成膜方法
JP2014132101A (ja) 成膜装置及び成膜方法
JP5816067B2 (ja) 薄膜製造方法及び薄膜製造装置
KR20140011884A (ko) 플라즈마 코팅 장치 및 그것을 이용한 플라즈마 코팅 방법
KR20160003367A (ko) 세정도 측정이 가능한 연속식 마스크 처리 장치