JP5875851B2 - 薄膜製造方法、薄膜製造装置 - Google Patents
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Description
この付着膜114は、開口109の大きさの精度を悪化させたり、剥離してパーティクルになるため、定期的なクリーニングが行われている。
また、残渣物115の蒸発物や、反応性ガスとの反応生成物は真空槽内の残留ガスとなり、基板表面に形成する薄膜中に混入すると、薄膜の品質を悪化させる。
また、本発明は、前記薄膜用微粒子と前記犠牲層用微粒子とを、同じ放出装置から放出させる薄膜製造方法である。
また、本発明は、前記レーザー光は、前記放出装置が配置され、前記第一、第二の薄膜と、前記第一、第二の犠牲層が形成される真空槽内で、前記第一のマスクに照射する薄膜製造方法である。
また、本発明は、前記第二の犠牲層は、前記マスク本体の裏面に冷却板を配置し、前記マスク本体に前記冷却板を密着させた状態で形成する薄膜製造方法である。
また、本発明は、所定枚数の基板に前記薄膜用微粒子を到達させてパターニングされた薄膜を形成した後、前記付着膜に前記レーザー光を照射する薄膜製造方法である。
また、本発明は、真空槽と、前記真空槽内に配置された放出装置と、前記真空槽内でマスク本体と、前記マスク本体の前面に第一の犠牲層が形成された第一のマスクと、前記マスク本体に第二の犠牲層が形成された第二のマスクとを保持するマスクホルダと、前記真空槽内で基板を保持する基板ホルダと、基板表面に形成する薄膜の原料の薄膜用微粒子を前記放出装置に供給する薄膜蒸気供給装置と、前記マスク本体の前記前面に形成する前記第一、第二の犠牲層の原料の犠牲層用微粒子を前記放出装置に供給する犠牲層蒸気供給装置と、前記マスクホルダに保持された前記マスク本体にレーザー光を照射するレーザー光照射装置と、を有し、前記放出装置と前記基板は、前記マスク本体を間にして対面できるようにされた薄膜製造装置である。
また、本発明は、前記レーザー光照射装置は、前記レーザー光を射出するレーザー光源と、前記レーザー光源が射出した前記レーザー光を反射させる反射装置とを有し、前記反射装置は反射させる前記レーザー光の進行方向を変化させ、反射した前記レーザー光を前記マスクホルダに保持された前記第一のマスクに照射するように構成され、前記反射装置と、前記マスクホルダに保持された前記第一のマスクとは、相対的に移動するように構成された薄膜製造装置である。
また、本発明は、真空槽と、薄膜を形成する薄膜用微粒子を生成する薄膜蒸気供給装置と、前記真空槽内でマスク本体を保持するマスクホルダと、基板を保持して前記マスク本体の裏面に密着させる基板ホルダと、を有し、前記真空槽内に放出され、前記マスク本体の貫通孔を通過した前記薄膜用微粒子が前記基板に到達すると前記基板の表面にパターニングされた前記薄膜が形成される薄膜製造装置であって、前記薄膜用微粒子によって形成される前記薄膜よりも低温で蒸発する有機薄膜を形成する犠牲層用微粒子を生成する犠牲層蒸気供給装置と、レーザー光を射出するレーザー光照射装置と、前記薄膜用微粒子によって形成された付着膜であって、前記犠牲層用微粒子によって前記マスク本体に形成された前記有機薄膜である犠牲層に付着した前記付着膜に前記レーザー光が照射され、前記犠牲層が蒸発して剥離された前記付着膜が落下するトレイと、が設けられた薄膜製造装置である。
また、反応性ガスを用いずにクリーニングを行うことができるので、真空槽内はダメージを受けないで済む。
また、マスクを大気雰囲気に曝さずに薄膜を除去できるので、真空槽内に不純物が侵入しない。
真空槽21の外部には、真空排気装置22が配置されており、真空排気装置22を動作させると、真空槽21内が真空排気され、真空槽21内に真空雰囲気が形成されるように構成されている。
真空槽21の内部の天井側には、マスクホルダ20と基板ホルダ19とが、下方からこの順序で設けられており、マスクホルダ20にマスクを保持させ、基板ホルダ19に基板を保持させると、基板はマスクの真上に位置するようにされている。
真空槽21の外部には、蒸発装置23が配置されている。
放出装置24は、内部が中空にされた筺体42を有しており、放出装置24の鉛直上方を向く表面の部分の筺体42には、複数の放出孔41が形成されている。
マスク10は、金属で構成された板状のマスク本体11を有している。図1(a)はマスク本体11の断面図である。マスク本体11には一乃至複数の貫通孔9が形成されており、マスク本体11の片面には、有機薄膜から成る犠牲層12が形成されている。なお、マスク10はセラミックス等の絶縁物質で構成させてもよい。
先ず、真空槽21内の真空雰囲気を維持しながら、真空槽21に接続されたマスクストッカー室(不図示)から図1(a)のマスク本体11を搬入し、図3(a)、(b)に示すように、薄膜製造装置2内のマスクホルダ20に保持させる。犠牲層12の形成前のマスク本体11を搬入するときから、少なくともマスク本体11へ犠牲層12を形成するまでの間は、真空排気装置22による真空排気を継続し、真空槽21内の真空雰囲気を維持する。
犠牲層蒸気供給装置32の内部には、犠牲層12を形成する有機化合物の材料が配置されており、犠牲層蒸気供給装置32はこの材料を加熱し、この材料の蒸気を生成する。犠牲層12の材料は、C、HあるいはC、H、N元素で形成した化合物で構成され、この化合物は、例えば、NPB、CPB、ペンタセン、ペンゾ[b]アントラセン、アントラセン、ナフタリン等である。
材料蒸気は高温であり、材料蒸気が付着すると、マスク10が加熱されるが、裏面に密着された冷却板17によって吸熱され、マスク10の昇温が大きくならないようにされている。
位置合わせ後、基板ホルダ19とマスクホルダ20とを上下方向に相対的に移動させ、基板をマスク10の裏面に密着させる。
この状態では、基板13の表面の一部がマスク10の裏面と接触し、基板13の表面の他の一部は、マスク10の貫通孔9の底面に露出される。
マスク10は、マスク本体11の前面に犠牲層12が形成された後は、マスクホルダ20に対して移動されておらず、マスク本体11の表面のうち、犠牲層12の形成の際に、マスクホルダ20などの真空槽21内の部材によって隠蔽されていて、マスク本体11表面が露出する部分は、基板13の表面に薄膜を形成する際に真空槽21内に露出することはなく、従って、薄膜は、マスク本体11の表面に接触して形成されないようになっている。
ここでは、マスク10のクリーニングは、マスク本体11に犠牲層12を形成し、かつ、基板13の表面に薄膜15を形成した真空槽21の内部で行われる。
レーザー光照射装置25は、レーザー光を生成して射出するレーザー光源50と、射出されたレーザー光を反射し、マスク10に照射する反射装置51とを有している。
従って、反射装置51の移動と、射出鏡53の角度の変更によって、レーザスポットは、マスク10の前面の露出している部分に隈無く照射することができる。
反射装置51が移動し、マスク10の外側からマスク10の下方位置に入るところで、レーザー光源50からレーザー光を射出させ、反射装置51で反射してマスク10の表面に照射し、照射された部分とその周囲の犠牲層12を蒸発させ、薄膜14を剥離させる。
角度制御装置54によって、マスク10の前面と貫通孔9の内周面とを含む表面上のレーザー光60の照射位置は、反射装置51の移動方向とは垂直な方向に移動されており、マスク10の表面上で帯状の範囲に照射されると共に、反射装置51の移動によって、マスク10の前面上で、帯状の範囲が、帯が伸びる方向とは垂直な方向に移動し、マスク10の反射装置51と対面する範囲にレーザー光60が照射され、マスク10の前面と貫通孔9の内周側面に付着する薄膜14を剥離させ、マスク本体11の表面を露出させる。
搬出入室68以外の各室63〜67、69は、内部の真空雰囲気が維持されており、マスクやマスク本体が、薄膜形成とクリーニングと犠牲層形成とが行われる間に大気に曝されることはない。
また、レーザー光の波長は、犠牲層の吸収率が高い波長に設定しておくと、犠牲層を蒸発させやすい。
9……貫通孔
10……マスク
11……マスク本体
12……犠牲層
13……基板
14……薄膜
15……薄膜
17……冷却板
19……基板ホルダ
20……マスクホルダ
24……放出装置
31、38……薄膜蒸気供給装置
32、39……犠牲層蒸気供給装置
25……レーザー光照射装置
Claims (8)
- 犠牲層蒸気供給装置で生成された犠牲層用微粒子をマスク本体の前面に到達させ、薄膜蒸気供給装置で生成される薄膜用微粒子によって形成される薄膜よりも低温で蒸発する有機薄膜から成る第一の犠牲層を前記マスク本体の前記前面に形成して第一のマスクを構成させ、
前記第一のマスクの背面に第一の基板を配置し、真空雰囲気中で、前記薄膜蒸気供給装置で生成された前記薄膜用微粒子のうち、一部に前記第一のマスクの貫通孔を通過させ、前記第一の基板の表面に到達させて前記第一の基板の表面にパターニングされた第一の薄膜を形成し、他の一部を前記第一の犠牲層に付着させた後、
前記薄膜蒸気供給装置で生成され、前記第一のマスクに付着した前記薄膜用微粒子によって形成された付着膜に、真空雰囲気中でレーザー光を照射し、前記第一の犠牲層を蒸発させて前記付着膜を前記マスク本体から剥離させて落下させ、前記マスク本体の前記前面を露出させ、
前記犠牲層蒸気供給装置で生成された前記犠牲層用微粒子を前記マスク本体の前記前面に到達させ、前記薄膜蒸気供給装置で生成される薄膜用微粒子によって形成される薄膜よりも低温で蒸発する前記有機薄膜から成る第二の犠牲層を前記マスク本体の前記前面に形成して第二のマスクを構成させ、
前記第二のマスクの前記背面に第二の基板を配置し、真空雰囲気中で、前記薄膜蒸気供給装置で生成された前記薄膜用微粒子の一部に前記第二のマスクの貫通孔を通過させ、前記第二の基板の表面に到達させて前記第二の基板の表面にパターニングされた第二の薄膜を形成し、他の一部を前記第二の犠牲層に付着させる薄膜製造方法。 - 前記薄膜用微粒子と前記犠牲層用微粒子とを、同じ放出装置から放出させる請求項1記載の薄膜製造方法。
- 前記レーザー光は、前記放出装置が配置され、前記第一、第二の薄膜と、前記第一、第二の犠牲層が形成される真空槽内で、前記第一のマスクに照射する請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の薄膜製造方法。
- 前記第二の犠牲層は、前記マスク本体の裏面に冷却板を配置し、前記マスク本体に前記冷却板を密着させた状態で形成する請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の薄膜製造方法。
- 所定枚数の基板に前記薄膜用微粒子を到達させてパターニングされた薄膜を形成した後、前記付着膜に前記レーザー光を照射する請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の薄膜製造方法。
- 真空槽と、
前記真空槽内に配置された放出装置と、
前記真空槽内でマスク本体と、前記マスク本体の前面に第一の犠牲層が形成された第一のマスクと、前記マスク本体に第二の犠牲層が形成された第二のマスクとを保持するマスクホルダと、
前記真空槽内で基板を保持する基板ホルダと、
基板表面に形成する薄膜の原料の薄膜用微粒子を前記放出装置に供給する薄膜蒸気供給装置と、
前記マスク本体の前記前面に形成する前記第一、第二の犠牲層の原料の犠牲層用微粒子を前記放出装置に供給する犠牲層蒸気供給装置と、
前記マスクホルダに保持された前記マスク本体にレーザー光を照射するレーザー光照射装置と、
を有し、
前記放出装置と前記基板は、前記マスク本体を間にして対面できるようにされた薄膜製造装置。 - 前記レーザー光照射装置は、前記レーザー光を射出するレーザー光源と、前記レーザー光源が射出した前記レーザー光を反射させる反射装置とを有し、
前記反射装置は反射させる前記レーザー光の進行方向を変化させ、反射した前記レーザー光を前記マスクホルダに保持された前記第一のマスクに照射するように構成され、
前記反射装置と、前記マスクホルダに保持された前記第一のマスクとは、相対的に移動するように構成された請求項6記載の薄膜製造装置。 - 真空槽と、
薄膜を形成する薄膜用微粒子を生成する薄膜蒸気供給装置と、
前記真空槽内でマスク本体を保持するマスクホルダと、
基板を保持して前記マスク本体の裏面に密着させる基板ホルダと、
を有し、
前記真空槽内に放出され、前記マスク本体の貫通孔を通過した前記薄膜用微粒子が前記基板に到達すると前記基板の表面にパターニングされた前記薄膜が形成される薄膜製造装置であって、
前記薄膜用微粒子によって形成される前記薄膜よりも低温で蒸発する有機薄膜を形成する犠牲層用微粒子を生成する犠牲層蒸気供給装置と、
レーザー光を射出するレーザー光照射装置と、
前記薄膜用微粒子によって形成された付着膜であって、前記犠牲層用微粒子によって前記マスク本体に形成された前記有機薄膜である犠牲層に付着した前記付着膜に前記レーザー光が照射され、前記犠牲層が蒸発して剥離された前記付着膜が落下するトレイと、
が設けられた薄膜製造装置。
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