KR101958500B1 - 증착 장치 및 증착 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 고정밀도의 증착을 할 수 있고, 장시간의 연속 가동도 가능한 증착 장치 및 증착 방법의 제공한다. 본 발명의 증착 장치는, 성막실(30)에 있어서, 증발원(1)으로부터 증발된 성막 재료를, 증착 마스크(2)의 마스크 개구부를 통해 기판(4) 상에 퇴적하고, 이 증착 마스크(2)에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막이 기판(4) 상에 형성되도록 구성한 증착 장치로서, 상기 증발원(1)으로부터 증발된 증발 입자의 비산 방향을 제한하는 제한용 개구부(5)를 마련한 비산 제한부를 가지며, 상기 증착 마스크(2)가 부설된 마스크 홀더(6)를 구비하고, 이 증착 마스크(2)가 부설된 상기 마스크 홀더(6)가 상기 성막실(30)과 왕래할 수 있는 로드록실(32), 상기 마스크 홀더(6)가 상기 로드록실(32)과 왕래할 수 있는 대기실(33) 및 장치 외부에 상기 마스크 홀더(6)를 취출 가능한 취출실(34)을 갖는 교환실(31)을 구비한 것을 특징으로 하는 증착 장치.

Description

증착 장치 및 증착 방법{VAPOR-DEPOSITION DEVICE AND VAPOR-DEPOSITION METHOD}

본 발명은, 증착 마스크에 의한 성막 패턴의 증착막을 기판 상에 형성시키는 증착 장치 및 증착 방법에 관한 것이다.

최근, 유기 일렉트로 루미네센스 소자를 이용한 유기 EL 표시 장치가, CRT나 LCD를 대신하는 표시 장치로서 주목받고 있다.

이 유기 EL 표시 장치는, 기판에 전극층과 복수의 유기 발광층을 적층 형성하고, 추가로 밀봉층을 피복 형성한 구성이며, 자발광으로, LCD에 비해 고속 응답성이 우수하고, 고시야각 및 고콘트라스트를 실현할 수 있는 것이다.

이러한 유기 EL 디바이스는, 일반적으로 진공 증착법에 의해 제조되어 있으며, 진공 챔버 안에서 기판과 증착 마스크를 얼라인먼트하고 밀착시켜 증착을 행하며, 이 증착 마스크에 의해 원하는 성막 패턴의 증착막을 기판에 형성하고 있다.

또한, 이러한 유기 EL 디바이스의 제조에서는, 기판의 대형화에 수반하여 원하는 성막 패턴을 얻기 위한 증착 마스크도 대형화하지만, 이 대형화를 위해서는 증착 마스크에 텐션을 건 상태로 마스크 프레임에 용접 고정하여 제작해야 하기 때문에, 대형의 증착 마스크의 제조는 용이하지 않고, 또한 이 장력이 충분하지 않으면 마스크의 대형화에 수반하여, 마스크 중심에 뒤틀림이 생겨 증착 마스크와 기판의 밀착도가 저하되어 버리거나, 이들을 고려하기 위해 마스크 프레임이 대형이 되어, 후육화나 중량의 증대가 현저해진다.

이와 같이, 기판 사이즈의 대형화에 수반하여 증착 마스크의 대형화가 요구되고 있지만, 고세밀한 마스크의 대형화는 곤란하고, 또한 제작할 수 있어도 상기 뒤틀림의 문제에 의해 실용상 여러 문제를 발생시키고 있다.

또한, 예컨대 일본 특허 공표 제2010-511784호 등에 개시된 바와 같이, 기판과 증착 마스크를 이격 배치하고, 증발원과 지향성을 갖는 증발 입자를 발생시키는 개구부에 의해 유기 발광층을 고정밀도로 성막시키는 방법도 있지만, 상기 증발원과 지향성을 발생시키는 상기 개구부가 일체 구조를 하고 있고, 개구부로부터 증발 입자를 발생시키기 위해서는 상기 일체 구조를 고온으로 가열하는 구성으로 되어 있기 때문에, 증발원으로부터의 복사열을 증착 마스크에서 받는 것이 되어, 증착 마스크의 열팽창에 의한 성막 패턴의 위치 정밀도의 저하를 막을 수 없다.

또한, 증발원과 증착 마스크의 거리가 근접해 있기 때문에, 성막시에 증착 마스크에 대량의 재료가 부착되어, 빈번히 교환해야 한다고 하는 문제점이 있었다.

특허문헌 1: 일본 특허 공표 제2010-511784호 공보

본 발명은, 이러한 여러 문제를 해결하며, 기판의 대형화에 수반하여 증착 마스크를 동등하게 대형화하지 않고 기판보다 소형의 증착 마스크로도, 기판을 이격 상태로 상대 이동시킴으로써 광범위하게 증착 마스크에 의한 성막 패턴의 증착막을 증착할 수 있고, 또한 이격 상태인 채 상대 이동시킴으로써 구조도 간이하고 효율적으로 스피디하게 증착할 수 있으며, 또한 이격 상태인 채라도 제한용 개구부를 증발원과 증착 마스크 사이에 마련함으로써, 증발 입자의 비산 방향을 제한하여 인접하거나 또는 떨어진 위치의 증발구부로부터의 증발 입자를 통과시키지 않고 성막 패턴의 중첩을 방지하고, 이 제한용 개구부를 마련한 비산 제한부를 갖는 마스크 홀더에 증착 마스크를 부설(付設)한 구성으로 하며, 이 마스크 홀더는 비산 제한부로서 뿐만 아니라 증발원으로부터의 복사열의 입사를 억제하고, 기판과 증착 마스크를 이격 상태로 상대 이동시키는 구성이면서 고정밀도인 증착을 할 수 있으며, 교환실을 병설함으로써 증착 마스크가 부설된 마스크 홀더의 교환을 행할 수 있는 것에 의해 장시간의 연속 가동이 가능한 증착 장치 및 증착 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.

첨부 도면을 참조하여 본 발명의 요지를 설명한다.

성막실(30)에 있어서, 증발원(1)으로부터 증발된 성막 재료를, 증착 마스크(2)의 마스크 개구부를 통해 기판(4) 상에 퇴적하고, 이 증착 마스크(2)에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막이 기판(4) 상에 형성되도록 구성한 증착 장치로서, 상기 증발원(1)과 이 증발원(1)에 대향 상태로 배치하는 상기 기판(4)의 사이에, 상기 증발원(1)으로부터 증발된 상기 성막 재료의 증발 입자의 비산 방향을 제한하는 제한용 개구부(5)를 마련한 비산 제한부를 갖는 마스크 홀더(6)를 배치하고, 이 마스크 홀더(6)에 상기 기판(4)과 이격 상태로 배치하는 상기 증착 마스크(2)를 부설하며, 상기 기판(4)을, 상기 증착 마스크(2)를 부설한 상기 마스크 홀더(6) 및 상기 증발원(1)에 대하여, 상기 증착 마스크(2)와의 이격 상태를 유지한 채 상대 이동 가능하게 구성하고, 상기 증착 마스크(2)가 부설된 상기 마스크 홀더(6)가 상기 성막실(30)과 왕래할 수 있는 로드록실(32), 상기 증착 마스크(2)가 부설된 상기 마스크 홀더(6)가 상기 로드록실(32)과 왕래할 수 있는 대기실(33) 및 장치 외부에 상기 증착 마스크(2)가 부설된 상기 마스크 홀더(6)를 취출 가능한 취출실(34)을 갖는 교환실(31)을 구비하며, 상기 마스크 홀더(6)는, 상기 성막실(30)의 밖에 온도 제어부(9C)를 갖는 피온도 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 증착 장치에 관한 것이다.

삭제

또한, 상기 마스크 홀더(6)는, 상기 성막실(30)과 상기 교환실(31)을 자유롭게 이동할 수 있도록, 피온도 제어부와 온도 제어부(9C)를 착탈 가능하게 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 1 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 성막실(30)에 있어서, 증발원(1)으로부터 증발된 성막 재료를, 증착 마스크(2)의 마스크 개구부(3)를 통해 기판(4) 상에 퇴적하고, 이 증착 마스크(2)에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막이 기판(4) 상에 형성되도록 구성한 증착 장치로서, 상기 증발원(1)과 이 증발원(1)에 대향 상태로 배치하는 상기 기판(4)의 사이에, 상기 증발원(1)으로부터 증발된 상기 성막 재료의 증발 입자의 비산 방향을 제한하는 제한용 개구부(5)를 마련한 비산 제한부를 갖는 마스크 홀더(6)를 배치하고, 이 마스크 홀더(6)에 상기 기판(4)과 이격 상태로 배치하는 상기 증착 마스크(2)를 부설하며, 상기 기판(4)을, 상기 증착 마스크(2)를 부설한 상기 마스크 홀더(6) 및 상기 증발원(1)에 대하여, 상기 증착 마스크(2)와의 이격 상태를 유지한 채 상대 이동 가능하게 구성하고, 상기 증착 마스크(2)가 부설된 상기 마스크 홀더(6)가 상기 성막실(30)과 왕래할 수 있는 로드록실(32), 상기 증착 마스크(2)가 부설된 상기 마스크 홀더(6)가 상기 로드록실(32)과 왕래할 수 있는 대기실(33) 및 상기 증착 마스크(2)와 상기 마스크 홀더(6)를 세정하는 세정실(37)을 갖는 교환실(31)을 구비하며, 상기 마스크 홀더(6)는, 상기 성막실(30)의 밖에 온도 제어부(9C)를 갖는 피온도 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 세정실(37)은, 세정액이 저류된 액조(38)를 구비한 것을 특징으로 하는 청구항 3 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 교환실(31)은, 린스액이 저류된 액조(41)를 갖는 린스실(40)을 구비한 것을 특징으로 하는 청구항 4 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 증착 마스크(2)와 상기 마스크 홀더(6) 중 적어도 하나의 세정 또는 린스는, 초음파를 병용하면서 행하는 것을 특징으로 하는 청구항 5 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 세정액과 린스액 중 적어도 하나는, 상기 세정실 밖 또는 린스실 밖에 마련한 용액 제어 기구에 의해 액량 또는 온도가 제어되도록 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 5 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 증착 마스크(2)와 상기 마스크 홀더(6) 중 적어도 하나를, 세정 후 건조하는 건조 기구를 마련한 것을 특징으로 하는 청구항 3 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

삭제

또한, 상기 마스크 홀더(6)는, 상기 성막실(30)과 상기 교환실(31)을 자유롭게 이동할 수 있도록, 피온도 제어부와 온도 제어부(9C)를 착탈 가능하게 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 3 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 성막실(30)에 있어서, 증발원(1)으로부터 증발된 성막 재료를, 증착 마스크(2)의 마스크 개구부(3)를 통해 기판(4) 상에 퇴적하고, 이 증착 마스크(2)에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막이 기판(4) 상에 형성되도록 구성한 증착 장치로서, 상기 증발원(1)과 이 증발원(1)에 대향 상태로 배치하는 상기 기판(4)의 사이에, 상기 증발원(1)으로부터 증발된 상기 성막 재료의 증발 입자의 비산 방향을 제한하는 제한용 개구부(5)를 마련한 비산 제한부를 갖는 마스크 홀더(6)를 배치하고, 이 마스크 홀더(6)에 상기 기판(4)과 이격 상태로 배치하는 상기 증착 마스크(2)를 부설하며, 상기 기판(4)을, 상기 증착 마스크(2)를 부설한 상기 마스크 홀더(6) 및 상기 증발원(1)에 대하여, 상기 증착 마스크(2)와의 이격 상태를 유지한 채 상대 이동 가능하게 구성하고, 상기 증착 마스크(2)가 부설된 상기 마스크 홀더(6)가 상기 성막실(30)과 왕래할 수 있는 로드록실(32), 상기 증착 마스크(2)가 부설된 상기 마스크 홀더(6)가 상기 로드록실(32)과 왕래할 수 있는 대기실(33), 상기 증착 마스크(2)가 부설된 상기 마스크 홀더(6)를 세정하는 세정실(37) 및 상기 증착 마스크(2)와 상기 마스크 홀더(6) 중 적어도 하나에 부착된 재료를 박리시켜 회수하는 재료 박리 기구를 구비한 재료 박리 회수실(43)을 갖는 교환실(31)을 구비하며, 상기 마스크 홀더(6)는, 상기 성막실(30)의 밖에 온도 제어부(9C)를 갖는 피온도 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 재료 박리 회수실(43)의 재료 박리 기구는, 드라이 아이스 블라스트를 이용하는 것을 특징으로 하는 청구항 10 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 재료 박리 회수실(43)은, 크린에어의 도입 기구 및 크린에어와 이산화탄소의 배기 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 청구항 11 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 드라이 아이스 블라스트를 이용하여, 증착 마스크(2)에 부착된 재료를 박리시킬 때에, 증착 마스크(2)의 기판(4)측에 마스크 흡착판(47)을 붙이는 것을 특징으로 하는 청구항 11 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 마스크 흡착판(47)은, 자석판, 전자석판 및 정전기판 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 청구항 13 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 재료 박리 회수실(43)은, 상기 재료 박리 기구로 박리시킨 재료를 흡인하는 흡인 기구 및 흡인한 재료를 수집하고 상기 교환실(31) 밖으로 배출하는 배출 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 청구항 10 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

삭제

또한, 상기 마스크 홀더(6)는, 상기 성막실(30)과 상기 교환실(31)을 자유롭게 이동할 수 있도록, 피온도 제어부와 온도 제어부(9C)를 착탈 가능하게 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 10 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 교환실(31)은, 상기 성막실(30)의 상기 기판(4)의 상대 이동 방향에 대하여 직교하는 가로 방향으로 병설하는 것을 특징으로 하는 청구항 1 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 마스크 홀더(6)는, 상기 제한용 개구부(5)의 형상을, 상기 기판(4)측의 개구 면적보다 상기 증발원(1)측의 개구 면적을 작은 형상으로 형성한 것을 특징으로 하는 청구항 1 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 성막 재료를, 유기 재료로 한 것을 특징으로 하는 청구항 1 기재의 증착 장치에 관한 것이다.

또한, 상기 청구항 1~19 중 어느 한 항에 기재된 증착 장치를 이용하여, 상기 기판(4) 상에 상기 증착 마스크(2)에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막을 형성하는 것을 특징으로 하는 증착 방법에 관한 것이다.

본 발명은 전술한 바와 같이 구성했기 때문에, 기판의 대형화에 수반하여 증착 마스크를 동등하게 대형화하지 않고 기판보다 소형의 증착 마스크로도, 기판을 이격 상태로 상대 이동시킴으로써 광범위하게 증착 마스크에 의한 성막 패턴의 증착막을 증착할 수 있고, 또한 이격 상태인 채 상대 이동시킴으로써 구조도 간이하고 효율적으로 스피디하게 증착할 수 있으며, 또한 이격 상태인 채라도 제한용 개구부를 증발원과 증착 마스크의 사이에 마련함으로써, 증발 입자의 비산 방향을 제한하여 인접하거나 또는 떨어진 위치의 증발구부로부터의 증발 입자를 통과시키지 않고 성막 패턴의 중첩을 방지하고, 이 제한용 개구부를 마련한 비산 제한부를 갖는 마스크 홀더에 증착 마스크를 접촉시켜 부설한 구성으로 하며, 상기 증착 마스크가 부설된 상기 마스크 홀더가 성막실과 왕래할 수 있는 로드록실, 상기 증착 마스크가 부설된 상기 마스크 홀더가 상기 로드록실과 왕래할 수 있는 대기실 및 장치 외부에 상기 증착 마스크가 부설된 상기 마스크 홀더를 취출 가능한 취출실을 갖는 교환실을 구비하는 것에 의해, 증착 마스크가 부설된 마스크 홀더가 로드록실과 대기실과 취출실을 왕래할 수 있도록 함으로써 증착 마스크의 투입, 취출이 용이해지고, 마스크 홀더의 교환에 수반되는 성막 공정의 정지 시간이 짧아져, 증착 장치의 가동률이 향상되며, 기판과 증착 마스크를 이격 상태로 상대 이동시키는 구성이면서 고정밀도의 증착을 행할 수 있는 증착 장치 및 증착 방법이 된다.

특히 유기 EL 디바이스의 제조에 있어서, 기판의 대형화에 대응할 수 있고, 유기 발광층의 증착도 정밀도 좋게 행하여, 마스크 접촉에 의한 기판, 증착 마스크, 증착막의 손상도 방지할 수 있으며, 기판보다 작은 증착 마스크에 의해 고정밀도의 증착을 실현할 수 있는 유기 EL 디바이스 제조용의 증착 장치 및 증착 방법이 된다.

또한, 본 발명에서는, 마스크 홀더가 성막실의 밖에 온도 제어부를 갖는 피온도 제어부를 구비함으로써, 마스크 홀더의 온도를 일정하게 유지할 수 있고, 마스크 홀더에 부설되어 있는 증착 마스크의 열팽창을 억제하여, 고정밀도로 성막 패턴을 증착할 수 있다.

또한, 청구항 2 기재의 발명에서는, 예컨대 마스크 홀더의 피온도 제어부와 성막실 밖의 온도 제어부 사이의 매체 반송로를 착탈 가능하게 구성함으로써, 마스크 홀더가 온도 제어 기구를 가져도, 성막실과 로드록실을 자유롭게 왕래할 수 있다.

또한, 청구항 3 기재의 발명에서는, 교환실에 로드록실 및 대기실, 추가로 취출실 대신에 세정실을 구비함으로써, 증착 마스크가 부설된 마스크 홀더를 교환실 밖으로 반출하지 않고도 교환실 안에서 세정 가능하게 된다.
또한, 본 발명에서는, 마스크 홀더가 성막실의 밖에 온도 제어부를 갖는 피온도 제어부를 구비함으로써, 마스크 홀더의 온도를 일정하게 유지할 수 있고, 마스크 홀더에 부설되어 있는 증착 마스크의 열팽창을 억제하여, 고정밀도로 성막 패턴을 증착할 수 있다.

또한, 청구항 4 기재의 발명에서는, 증착 마스크 및 마스크 홀더는, 세정액이 저류된 액조 안에 침지하고 세정함으로써, 세부까지 세정액이 널리 퍼져, 구석구석까지 세정할 수 있다.

또한, 청구항 5 기재의 발명에서는, 세정실과 병설하여 린스실을 구비함으로써, 증착 마스크 및 마스크 홀더에 잔류하는 세정액을 제거할 수 있다.

또한, 청구항 6 기재의 발명에서는, 증착 마스크 및 마스크 홀더를, 용액이 저류된 액조 안에 침지하고, 초음파를 병용함으로써 세정 효과가 높아진다.

또한, 청구항 7 기재의 발명에서는, 세정액과 린스액 중 적어도 하나는, 세정실 밖에 용액 제어 기구를 구비함으로써, 세정실 또는 린스실의 밖에서부터 용액의 액량, 온도를 조정할 수 있어 실용성이 우수하다.

또한, 청구항 8 기재의 발명에서는, 건조 기구를 구비함으로써, 증착 마스크 및 마스크 홀더를 재이용하기까지의 시간을 짧게 할 수 있다.

또한, 청구항 9 기재의 발명에서는, 청구항 3 기재의 발명에, 교환실에 세정실을 구비한 구성으로 함으로써, 한층 더 실용성이 우수하다.

또한, 청구항 10 기재의 발명에서는, 교환실에 로드록실, 대기실 및 세정실에 추가로 재료 박리 회수실을 구비함으로써, 증착 마스크 및 마스크 홀더에 부착된 재료의 재이용이 가능해져, 재료 사용 효율이 향상된다.
또한, 본 발명에서는, 마스크 홀더가 성막실의 밖에 온도 제어부를 갖는 피온도 제어부를 구비함으로써, 마스크 홀더의 온도를 일정하게 유지할 수 있고, 마스크 홀더에 부설되어 있는 증착 마스크의 열팽창을 억제하여, 고정밀도로 성막 패턴을 증착할 수 있다.

또한, 청구항 11 기재의 발명에서는, 증착 마스크 또는 마스크 홀더에 부착된 성막 재료를 드라이 아이스 블라스트로 박리시킴으로써, 재료의 분해가 억제되어, 성막 재료의 재이용률이 향상된다.

또한, 청구항 12 기재의 발명에서는, 재료 박리 회수실은, 크린에어의 도입 기구 및 크린에어와 이산화탄소의 배기 기구를 구비함으로써, 증착 마스크 또는 마스크 홀더에 부착된 성막 재료를 드라이 아이스 블라스트로 박리시킬 때에, 성막 재료의 열화(劣化)를 막을 수 있고, 또한 재료 박리 회수실 안을 적절한 압력으로 관리함으로써 박리 효과를 최대한 발휘할 수 있게 된다.

또한, 청구항 13 기재의 발명에서는, 증착 마스크는 얇은 박(箔)으로 형성되어 있어, 청구항 11 기재의 드라이 아이스 블라스트로 부착된 성막 재료를 박리시키면, 증착 마스크가 손상될 우려가 있기 때문에, 드라이 아이스 블라스트시에 증착 마스크 배면(背面)에 마스크 흡착판을 댐으로써 증착 마스크의 손상을 방지하고 있다.

또한, 청구항 14 기재의 발명에서는, 청구항 13 기재의 증착 마스크 배면에 대는 마스크 흡착판을, 자석판, 전자석판 또는 정전기판으로 형성함으로써, 증착 마스크와 배면판의 밀착성이 향상되어, 증착 마스크의 손상을 보다 방지할 수 있다.

또한, 청구항 15 기재의 발명에서는, 재료 박리 회수실에, 재료 흡인 기구를 구비함으로써, 박리된 재료를 효율적으로 회수할 수 있고, 흡인한 재료를 수집하여, 재료 박리 회수실 밖으로 배출하는 기구를 구비함으로써, 재료 박리 회수실을 대기 개방하지 않고도 재료를 취출할 수 있어, 박리·회수 공정의 가동률이 향상된다.

또한, 청구항 16 기재의 발명에서는, 청구항 10 기재의 발명에, 교환실에 재료 박리 회수실을 구비한 구성으로 함으로써, 한층 더 실용성이 우수하다.

또한, 청구항 17 기재의 발명에서는, 교환실을, 성막실에 대하여 기판의 상대 이동 방향과 직교하는 가로 방향으로 병설함으로써, 증착 마스크 및 마스크 홀더의 교환이 효율적이며, 공간을 절약할 수 있다.

또한, 청구항 18 기재의 발명에서는, 마스크 홀더의 제한용 개구부의 형상을, 기판측의 개구 면적보다 증발원측의 개구 면적이 작은 형상으로 했기 때문에, 증발원으로부터 증발된 성막 재료의 증발 입자를 제한용 개구부의 증발원측에서 보다 많이 포착할 수 있게 되어, 제한용 개구부 측면에 부착되는 성막 재료를 저감할 수 있고, 마스크 홀더를 교환한 후의 부착된 성막 재료의 박리·회수가 용이하게 된다.

또한, 청구항 19 기재의 발명에서는, 유기 재료의 증발 장치가 되고, 한층 더 실용성이 우수하다.

또한, 청구항 20 기재의 발명에서는, 상기 작용·효과를 발휘하는 우수한 증착 방법이 된다.

도 1은 실시예 1의 증착 기구의 개략 설명도이다.
도 2는 실시예 1의 성막실 및 교환실을 설명하는 평면도이다.
도 3은 실시예 2의 교환실을 설명하는 측면도이다.
도 4는 실시예 3의 교환실을 설명하는 측면도이다.
도 5는 실시예 3의 교환실의 다른 구성예를 설명하는 측면도이다.
도 6은 실시예 4의 교환실을 설명하는 측면도이다.
도 7은 실시예 4의 드라이 아이스 분사부의 이동 기구의 설명도이다.
도 8은 실시예 4의 마스크 흡착판의 설명도이다.

적합한 것으로 고려되는 본 발명의 실시형태를, 도면에 기초하여 본 발명의 작용을 나타내며 간단히 설명한다.

도 1에서, 증발원(1)으로부터 증발된 성막 재료는, 비산 제한부로서 구성한 마스크 홀더(6)의 제한용 개구부(5)를 통과하고, 증착 마스크(2)의 마스크 개구부(3)를 통해 기판(4) 상에 퇴적하며, 이 증착 마스크(2)에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막이 기판(4) 상에 형성된다.

이때, 상기 기판(4)과 상기 증착 마스크(2)를 이격 상태로 배치하고, 이 기판(4)을, 상기 증착 마스크(2)나 상기 증발원(1)에 대하여 이 이격 상태를 유지한 채 상대 이동 가능하게 구성하여, 이 기판(4)을 상대 이동시키는 것에 의해, 증착 마스크(2) 자체보다 넓은 범위에 이 증착 마스크(2)에 의해 정해지는 성막 패턴의 증착막이 기판(4) 상에 형성된다.

또한, 이 증착 마스크(2)와 증발원(1)의 사이에, 증발원(1)으로부터 증발된 성막 재료의 증발 입자의 비산 방향을 제한하는 상기 제한용 개구부(5)를 마련한 비산 제한부를 갖는 마스크 홀더(6)를 마련하여, 제한용 개구부(5)에 의해 인접하거나 또는 떨어진 위치의 증발구부(8)로부터의 증발 입자를 통과시키지 않고 증착 마스크(2)와 기판(4)이 이격 상태에 있어도 성막 패턴의 중첩을 방지하고 있다.

또한, 예컨대 추가로 이 비산 제한부를 구성하는 마스크 홀더(6)에 증착 마스크(2)를 접합시켜 부설한 구성으로 하고, 이 마스크 홀더(6)와 증착 마스크(2) 중 적어도 하나에 증착 마스크(2)의 온도를 유지하는 온도 제어 기구(9)를 마련한 경우에는, 상기 증발원(1)으로부터의 열의 입사가 억제되어 마스크 홀더(6)나 증착 마스크(2)의 온도 상승이 억제되고, 또한 증착 마스크(2)가 기판(4)과 이격 상태여도 이 마스크 홀더(6)와 접합되어 있음으로써 증착 마스크(2)의 열은 마스크 홀더(6)에 전도되어, 증착 마스크(2)를 일정한 온도로 유지하는 온도 유지 기능이 향상된다.

따라서, 이 비산 제한부를 갖는 마스크 홀더(6)는, 증발 입자의 비산 방향의 제한 기능과 함께 온도 유지 기능도 담당하여, 증착 마스크(2)의 온도 상승을 억제할 수 있어 증착 마스크(2)를 일정한 온도로 유지하고, 열에 의한 증착 마스크(2)의 뒤틀림도 생기기 어렵게 된다.

따라서, 기판(4)을, 증착 마스크(2), 이 증착 마스크(2)를 부설한 마스크 홀더(6) 및 증발원(1)에 대하여 이 증착 마스크(2)와의 이격 상태를 유지한 채 상대 이동시킴으로써, 이 상대 이동 방향으로 증착 마스크(2)에 의한 상기 성막 패턴의 증착막을 연속시켜 기판(4)보다 작은 증착 마스크(2)로도 광범위하게 증착막이 형성되고, 인접하거나 또는 떨어진 위치의 증발구부(8)로부터의 입사에 의한 성막 패턴의 중첩도, 열에 의한 뒤틀림 등도 충분히 억제되어 고정밀도의 증착을 행할 수 있는 증착 장치가 된다.

또한, 증착 마스크(2)가 부설된 마스크 홀더(6)가 성막실과 왕래할 수 있는 로드록실을 갖는 교환실을 구비함으로써, 성막실을 대기에 노출시키지 않고 마스크 홀더(6)를 교환 가능해져, 그만큼 증착 마스크(2)[마스크 홀더(6)]의 투입, 취출이 용이해지고, 마스크 홀더(6)의 교환에 수반되는 성막 공정의 정지 시간이 짧아져, 증착 장치의 가동률이 향상된다. 또한, 예컨대 교환실 안에 세정실을 마련한 경우에는, 장치 외부에 마스크 홀더(6)를 반출하지 않고 교환실 안에서 세정하는 것이 가능해져, 한층 더 효율적으로 마스크 홀더(6)의 교환 세정이 가능해진다. 또한, 예컨대 교환실 안에 재료 박리 회수실을 마련한 경우에는, 재료 세정시에 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)로부터 박리된 재료를 회수하고 재이용하는 것이 가능해져, 재료 사용 효율이 향상된다.

실시예 1

본 발명의 구체적인 실시예 1에 대해서 도면에 기초하여 설명한다.

도 1은, 증착 기구의 개략 설명도이다.

본 실시예는, 증발원(1)으로부터 증발된 성막 재료(예컨대, 유기 EL 디바이스 제조를 위한 유기 재료)를, 증착 마스크(2)의 마스크 개구부(3)를 통해 기판(4) 상에 퇴적하고, 이 증착 마스크(2)에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막이 기판(4) 상에 형성되도록 구성한 증착 장치에 있어서, 기판(4)과 증착 마스크(2)를 이격 상태로 배치하고, 이 기판(4)을, 증착 마스크(2), 제한용 개구부를 마련한 비산 제한부로서 구성한 마스크 홀더(6) 및 증발원(1)에 대하여, 증착 마스크(2)와의 이격 상태를 유지한 채 상대 이동 가능하게 구성하고, 이 상대 이동에 의해 증착 마스크(2)보다 넓은 범위에 이 증착 마스크(2)에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막이 기판(4) 상에 형성되도록 구성하고 있다.

또한, 이 증착 마스크(2)와 증발원(1)의 사이에, 복수 병설한 증발원(1)의 증발구부(8)로부터 증발된 성막 재료의 증발 입자의 비산 방향을 제한하는 제한용 개구부(5)를 마련한 비산 제한부로서 구성한 마스크 홀더(6)를 마련하고, 비산 각도(θ)가 큰 증발 입자를 제한함으로써, 인접하거나 또는 떨어진 위치의 증발구부(8)로부터의 증발 입자를 통과시키지 않도록 하고 있다.

즉, 복수의 증발구부(8)로부터의 증발 입자에 의해 증착하는 구성으로서, 대면적의 기판(4)에 증착할 수 있도록 하고, 제한용 개구부(5)에 의해 인접하거나 또는 떨어진 위치의 증발구부(8)로부터의 입사를 방지하여 증착 마스크(2)와 기판(4)이 이격 상태에 있어도 성막 패턴의 중첩도 방지되도록 구성하고 있다.

또한, 가로 방향으로 병설하는 각 증발구부(8)를, 상기 증발원(1)의 상기 가로로 긴 확산부(27)에 돌출된 도입부(28)의 선단에 마련하고, 이 도입부(28)의 주위 또는 이 도입부(28) 사이에, 증발원(1)의 열을 차단하는 열 차단부(19)를 배치하고 있다. 부호 26은 증발 입자 발생부(도가니)이다.

이 열 차단부(19)는, 열을 차폐하는 것이면 되지만, 본 실시예는 냉각판을 채용하고, 냉각 매체를 공급하는 매체로를 가지며, 냉각 매체가 증발원(1)으로부터의 열을 빼앗으면서 매체를 통과하여, 이 열을 교환하는 열 교환부를 마련하여, 열 차폐 효과를 높이고 있다.

도 2는, 성막실(30) 및 교환실(31)의 평면도이다.

교환실(31)은, 기판(4)의 상대 이동 방향과 직교하는 가로 방향으로 상기한 증착 기구가 마련되는 성막실(30)과 병설되고, 성막실(30)에서 증착 후의 재료가 부착된 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)를 신규 또는 세정 후의 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)와 교환 가능하게 구성함으로써, 장시간 연속 운전이 가능한 생산성이 높은 증착 장치가 된다.

구체적으로는, 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)는, 성막실(30)에서 성막에 사용되고 있어 재료가 잇달아 증착 마스크(2)[및 마스크 홀더(6)]에 부착되어 퇴적해 오는 것에 의해, 성막 패턴에 영향을 부여하지 않도록, 또한 증착막의 박리에 의한 티끌의 발생을 억제하기 위해 정기적으로 교환해야 한다.

실시예 2

실시예 2는, 도 3에 도시한 바와 같이, 실시예 1의 교환실(31)이 로드록실(32)과 대기실(33)과 취출실(34)로 구성된 것이다.

로드록실(32)은 (도 3중 깊이 방향으로 있는) 성막실(30)과, 대기실(33) 및 취출실(34)과 각각 게이트 밸브를 통해 연달아 설치된다. 또한, 대기실(33)에는 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)를 실외로부터 반입하기 위한 게이트 밸브가 마련되고, 취출실(34)에는 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)를 실외로 반출하기 위한 게이트 밸브가 마련된다.

우선, 증착 후에 교환하는 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)는, 교환실(31) 내의 로드록실(32)로 이동한다. 이때, 마스크 홀더(6)가 피온도 제어부를 갖는 경우는, 마스크 홀더(6)가 성막실(30)과 로드록실(32)을 왕래할 수 있도록, 마스크 홀더(6)의 피온도 제어부와 (실외에 마련한) 외부 온도 제어부(9C)의 사이의 매체 반송로(35)가 착탈 가능하게 구성되어 있다. 즉, 마스크 홀더(6)를 성막실(30)로부터 로드록실(32)로 이동시킬 때, 매체 반송로(35)[의 마스크 홀더(6)의 피온도 제어부와의 접속부(36)]를 마스크 홀더(6)의 피온도 제어부로부터 떼어낼 수 있도록 구성하고 있다. 또한, 피온도 제어부로서는 물 등의 냉매가 유통하는 매체로 등을 채용할 수 있고, 온도 제어부(9C)로서는 상기 냉매를 냉각하는 열 교환부 등을 채용할 수 있다.

로드록실(32)로 이동한 성막 재료 부착 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)는, 로드록실(32)로부터 취출실(34)로 이동하고, 취출실(34)의 취출구(반출용 게이트 밸브)로부터 교환실(31) 밖으로 반출한다. 대기실(33)의 투입구(반입용 게이트 밸브)로부터 대기실(33)에 반입한 신규로 성막에 사용하는 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)는, 로드록실(32)로 이동하고, 로드록실(32)로부터 성막실(30)로 이동하여, 성막 공정에서 사용된다.

교환실(31) 밖으로 반출한 성막 재료 부착 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)는, 성막실 밖에 별도 구비된 세정실에서 세정되어, 부착되어 있는 성막 재료 및 파티클이나 오염물 등의 오염을 제거하고, 대기실(33)에 다시 반입하여, 로드록실(32)을 경유하여, 성막실(30)로 이동된다.

실시예 3

실시예 3은, 도 4에 도시한 바와 같이, 실시예 1, 2의 교환실(31)이 로드록실(32)과 대기실(33)과 세정실(37)로 구성된 것이다.

실시예 2와 마찬가지로, 증착 후에 교환하는 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)는, 교환실(31) 내의 로드록실(32)로 이동하고, 또한 로드록실(32)에 병설된 세정실(37)로 이동하며, 세정된다. 또한, 세정 후의 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)는, 로드록실(32)을 경유하여, 대기실(33)로 이동하여 다음번 성막에 대비한다.

세정실(37)에는, 세정액이 저류된 액조(38), 세정실 밖에 마련되어 세정액의 액량 및 온도 등을 제어하는 외부 세정액 제어 기구(39)를 구비하고, 성막 재료 부착 증착 마스크 및 마스크 홀더(6)를 액조에 침지하여, 세정한다. 이때, 초음파를 병용하면 세정 효과가 향상된다.

또한, 세정 후의 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)에 부착되어 있는 잔류 세정액을 기화시키기 위해, 세정실(37)에 건조 기구를 구비하면 한층 더 실용성이 우수하다.

또한, 성막 재료 부착 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)의 세정 후에 린스 처리를 실시하는 경우는, 도 5에 도시한 바와 같이, 세정실(37)과 병설하여 린스실(40)을 마련한다. 부호 41은 린스액이 저류된 액조, 42는 린스실 밖에 마련되며 린스액의 액량 및 온도 등을 제어하는 외부 린스액 제어 기구이다. 세정 후의 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)는, 예컨대 세정실(37)에서의 유기 용매로의 세정 후, 린스실(40)에서 순수로 린스 처리를 행하여, 잔류 세정액을 제거하고, 대기실(33)로 이동하여 다음번 성막에 대비하도록 구성하여도 좋다. 세정실(37) 및 린스실(40)은, 용액 제어 기구를 구비함으로써, 세정액의 온도, 양 등을 외부로부터 관리할 수 있게 되어, 실용성이 우수하다.

또한, 세정실(37) 및 린스실(40)의 외부 용액 제어 기구에 증류 기구를 구비함으로써, 세정 후의 용액을 분리할 수 있어, 용액의 재이용이 가능하게 되어, 사용량을 삭감할 수 있다.

실시예 4

실시예 4는, 도 6에 도시한 바와 같이, 실시예 1~3의 교환실(31)이 로드록실(32)과, 재료 박리 회수실(43)과, 세정실(37)과, 대기실(33)로 구성된 것이며, 실시예 4는, 성막 후의 재료가 부착되어 있는 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)로부터, 성막 재료를 박리시켜, 박리한 재료를 회수하고, 재이용함으로써 재료 사용 효율이 향상되는 구성으로 하고 있다.

성막 재료가 부착된 교환되는 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)를 마스크 유닛 A로 하고, 다음에 사용하는 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)를 마스크 유닛 B로 하여, 교환시의 흐름을 설명하면, 우선, 마스크 유닛 A가 성막실(30)로부터 로드록실(32)로 이동하고, 로드록실(32)로부터 재료 박리 회수실(43)로 이동한다. 마스크 유닛 B는 대기실(33)로부터, 로드록실(32)로 이동하고, 로드록실(32)로부터 성막실(30)로 이동한다. 재료 박리 회수실(43)로 이동한 마스크 유닛 A는, 재료 박리 공정 후, 세정실(37)로 이동한다. 또는 로드록실(32)로 이동하고, 로드록실(32)에서부터 대기실(33)로 이동하며, 대기실(33)에서부터 세정실(37)로 이동하도록 하여도 좋다. 세정 후의 마스크 유닛 A는, 대기실(33)로 이동하여, 다음번 교환시에 대비하는 구성으로 하고 있다.

재료 박리 회수실(43)에서의 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)에 부착된 성막 재료의 박리는, 드라이 아이스 블라스트를 이용하여 행해진다. 드라이 아이스 블라스트는, 고속으로 드라이 아이스 펠릿을 내뿜는 것에 의한 운동 에너지, 저온에 의한 서멀 쇼크, 모재와의 사이에 드라이 아이스가 들어가 급격히 기화할 때의 승화 에너지에 의해 박리시키지만, 예컨대 플라즈마, 자외선, 오존, 레이저 등의 드라이 세정 방법과 비교하여도, 유기 재료가 잘 분해되지 않는 이점이 있다. 이 때문에, 모재로부터 유기 재료를 박리시키는 방법은 여러 가지 있지만, 부착되어 있는 유기 재료를 박리시켜 다시 성막 재료로서 이용하는 경우는, 드라이 아이스 블라스트가 바람직하다.

또한, 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)는, 증발원측의 면에 증발 입자가 다수 부착되기 때문에, 드라이 아이스를 증발원측으로부터 조사한다. 또한, 마스크 홀더(6)의 제한용 개구부(5)의 형상을, 기판(4)측의 개구 면적보다 증발원(1)측의 개구 면적이 작은 형상으로 함으로써, 마스크 홀더(6)의 증발원(1)측의 면에 성막 재료가 많이 부착되어 있기 때문에, 부착되어 있는 대부분의 성막 재료의 박리가 용이해진다. 또한, 기판(4)의 상대 이동 방향과 직교하는 가로 방향으로 긴 마스크 유닛 전체면에 드라이 아이스를 조사할 수 있도록 하기 위해, 도 7에 도시하는 바와 같이, 드라이 아이스를 조사하는 선단 부분[드라이 아이스 분사부(44)]이, 이동하는 메카니즘으로 되어 있다. 부호 45는 드라이 아이스 발생부, 46은 분사부 이동 기구이다. 또한, 증착 마스크(2)는, 얇은 박(箔)형이기 때문에, 드라이 아이스 블라스트를 행하면 손상되어 버릴 우려가 있으므로, 도 8에 도시하는 바와 같이, 자석판, 전자석판 또는 정전기판으로 이루어지는 마스크 흡착판(47)에 이동 기구가 구비되어, 증착 마스크(2)에 대하여 붙일 수 있게 구성할 수 있고, 드라이 아이스 블라스트시에는 증착 마스크와 밀착함으로써, 증착 마스크가 손상되지 않도록 하고 있다.

또한, 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)로부터 박리시킨 성막 재료는, 재료 회수 기구(17)에서 회수된다. 재료 회수 기구(17)는, 마스크 홀더(6)의 하부에 배치되어, 박리시킨 재료가 낙하하여 재료 회수 기구(17)에 수용되도록 되어 있다. 또한, 드라이 아이스 블라스트는 크린에어 중에서 행하지만, 재료 회수 기능을 높이기 위해, 재료 박리 회수실(43)의 상부에 크린에어 도입 기구를 마련하고, 배기 기구를 재료 회수 기구(17)의 하부에 마련하는 구성으로 하고 있다. 이것은, 재료 박리 회수실(43)의 상부로부터 크린에어를 도입시키면서, 재료 회수 기구(17)에 배치된 배기 기구로 크린에어와 드라이 아이스가 기화한 이산화탄소를 배기하는 것에 의해, 재료 박리 회수실(43)의 압력은 일정하게 유지하면서, 기체의 흐름이, 재료 회수 기구(17)를 통과하도록 함으로써, 재료 박리 회수실(43)에 비산한 성막 재료도 포착할 수 있도록 되어 있다.

또한, 재료 회수 기구(17)는, 재료 박리 회수실(43)과 착탈 가능하게 구성됨으로써, 재료 박리 회수실(43)을 대기 개방하지 않고, 회수한 재료를 교환실 밖으로 취출할 수 있게 된다.

그 후의 세정실(37)에서의 세정 공정은, 재료 박리 공정에서 제거할 수 없었던 성막 재료 및 파티클이나 오염물을 제거할 목적으로 행해지고, 전술한 세정 방법과 동일하게 세정액을 이용한 웨트 프로세스가 적합하다. 또한, 성막 재료가 부착된 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)는, 재료 박리 공정 후에 액체 세정을 행하므로, 세정 전의 증착 마스크(2) 및 마스크 홀더(6)에 부착되어 있는 재료가 소량이기 때문에, 세정액에 용해하는 재료도 적어져서, 세정액의 보충·교환 주기가 길어지고, 환경 부하가 적은 증착 장치가 된다.

또한, 본 발명은, 실시예 1~4에 한정되는 것이 아니라, 각 구성 요건의 구체적 구성은 적절하게 설계할 수 있는 것이다.

Claims (23)

1. 성막실에 있어서, 증발원으로부터 증발된 성막 재료를, 증착 마스크의 마스크 개구부를 통해 기판 상에 퇴적하고, 이 증착 마스크에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막이 기판 상에 형성되도록 구성한 증착 장치로서, 상기 증발원과 이 증발원에 대향 상태로 배치하는 상기 기판의 사이에, 상기 증발원으로부터 증발된 상기 성막 재료의 증발 입자의 비산 방향을 제한하는 제한용 개구부를 마련한 비산 제한부를 갖는 마스크 홀더를 배치하고, 이 마스크 홀더에 상기 기판과 이격 상태로 배치하는 상기 증착 마스크를 부설(付設)하며, 상기 기판을, 상기 증착 마스크를 부설한 상기 마스크 홀더 및 상기 증발원에 대하여, 상기 증착 마스크와의 이격 상태를 유지한 채 상대 이동 가능하게 구성하고, 상기 증착 마스크가 부설된 상기 마스크 홀더가 상기 성막실과 왕래할 수 있는 로드록실, 상기 증착 마스크가 부설된 상기 마스크 홀더가 상기 로드록실과 왕래할 수 있는 대기실 및 장치 외부에 상기 증착 마스크가 부설된 상기 마스크 홀더를 취출 가능한 취출실을 갖는 교환실을 구비하며,
   상기 마스크 홀더에 피온도 제어부를 마련하고, 이 피온도 제어부의 온도를 제어하는 온도 제어부를 상기 성막실의 실외에 마련하며, 이 성막실 내에 배치된 마스크 홀더에 마련한 상기 피온도 제어부와 상기 성막실의 실외에 마련한 상기 온도 제어부를 연결하는 매체 반송로를 착탈 가능하게 마련하고,
   이 매체 반송로를 착탈하여 상기 피온도 제어부와 상기 온도 제어부와의 연결을 해제함으로써, 상기 마스크 홀더를 상기 성막실에서 상기 로드록실로 이동시키도록 구성하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
2. 성막실에 있어서, 증발원으로부터 증발된 성막 재료를, 증착 마스크의 마스크 개구부를 통해 기판 상에 퇴적하고, 이 증착 마스크에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막이 기판 상에 형성되도록 구성한 증착 장치로서, 상기 증발원과 이 증발원에 대향 상태로 배치하는 상기 기판의 사이에, 상기 증발원으로부터 증발된 상기 성막 재료의 증발 입자의 비산 방향을 제한하는 제한용 개구부를 마련한 비산 제한부를 갖는 마스크 홀더를 배치하고, 이 마스크 홀더에 상기 기판과 이격 상태로 배치하는 상기 증착 마스크를 부설하며, 상기 기판을, 상기 증착 마스크를 부설한 상기 마스크 홀더 및 상기 증발원에 대하여, 상기 증착 마스크와의 이격 상태를 유지한 채 상대 이동 가능하게 구성하고, 상기 증착 마스크가 부설된 상기 마스크 홀더가 상기 성막실과 왕래할 수 있는 로드록실, 상기 증착 마스크가 부설된 상기 마스크 홀더가 상기 로드록실과 왕래할 수 있는 대기실 및 상기 증착 마스크와 상기 마스크 홀더를 세정하는 세정실을 갖는 교환실을 구비하며,
   상기 마스크 홀더에 피온도 제어부를 마련하고, 이 피온도 제어부의 온도를 제어하는 온도 제어부를 상기 성막실의 실외에 마련하며, 이 성막실 내에 배치된 마스크 홀더에 마련한 상기 피온도 제어부와 상기 성막실의 실외에 마련한 상기 온도 제어부를 연결하는 매체 반송로를 착탈 가능하게 마련하고,
   이 매체 반송로를 착탈하여 상기 피온도 제어부와 상기 온도 제어부와의 연결을 해제함으로써, 상기 마스크 홀더를 상기 성막실에서 상기 로드록실로 이동시키도록 구성하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 세정실은, 세정액이 저류된 액조를 구비한 것을 특징으로 하는 증착 장치.
4. 제3항에 있어서, 상기 교환실은, 린스액이 저류된 액조를 갖는 린스실을 구비한 것을 특징으로 하는 증착 장치.
5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 증착 마스크와 상기 마스크 홀더 중 적어도 하나의 세정 또는 린스는, 초음파를 병용하면서 행하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
6. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 세정액과 린스액 중 적어도 하나는, 상기 세정실 밖 또는 린스실 밖에 마련한 용액 제어 기구에 의해 액량 또는 온도가 제어되도록 구성한 것을 특징으로 하는 증착 장치.
7. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 증착 마스크와 상기 마스크 홀더 중 적어도 하나를, 세정 후 건조하는 건조 기구를 마련한 것을 특징으로 하는 증착 장치.
8. 성막실에 있어서, 증발원으로부터 증발된 성막 재료를, 증착 마스크의 마스크 개구부를 통해 기판 상에 퇴적하고, 이 증착 마스크에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막이 기판 상에 형성되도록 구성한 증착 장치로서, 상기 증발원과 이 증발원에 대향 상태로 배치하는 상기 기판의 사이에, 상기 증발원으로부터 증발된 상기 성막 재료의 증발 입자의 비산 방향을 제한하는 제한용 개구부를 마련한 비산 제한부를 갖는 마스크 홀더를 배치하고, 이 마스크 홀더에 상기 기판과 이격 상태로 배치하는 상기 증착 마스크를 부설하며, 상기 기판을, 상기 증착 마스크를 부설한 상기 마스크 홀더 및 상기 증발원에 대하여, 상기 증착 마스크와의 이격 상태를 유지한 채 상대 이동 가능하게 구성하고, 상기 증착 마스크가 부설된 상기 마스크 홀더가 상기 성막실과 왕래할 수 있는 로드록실, 상기 증착 마스크가 부설된 상기 마스크 홀더가 상기 로드록실과 왕래할 수 있는 대기실, 상기 증착 마스크가 부설된 상기 마스크 홀더를 세정하는 세정실 및 상기 증착 마스크와 상기 마스크 홀더 중 적어도 하나에 부착된 재료를 박리시켜 회수하는 재료 박리 기구를 구비한 재료 박리 회수실을 갖는 교환실을 구비하며,
   상기 마스크 홀더에 피온도 제어부를 마련하고, 이 피온도 제어부의 온도를 제어하는 온도 제어부를 상기 성막실의 실외에 마련하며, 이 성막실 내에 배치된 마스크 홀더에 마련한 상기 피온도 제어부와 상기 성막실의 실외에 마련한 상기 온도 제어부를 연결하는 매체 반송로를 착탈 가능하게 마련하고,
   이 매체 반송로를 착탈하여 상기 피온도 제어부와 상기 온도 제어부와의 연결을 해제함으로써, 상기 마스크 홀더를 상기 성막실에서 상기 로드록실로 이동시키도록 구성하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
9. 제8항에 있어서, 상기 재료 박리 회수실의 재료 박리 기구는, 드라이 아이스 블라스트를 이용하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
10. 제9항에 있어서, 상기 재료 박리 회수실은, 크린에어의 도입 기구 및 크린에어와 이산화탄소의 배기 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 증착 장치.
11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 드라이 아이스 블라스트를 이용하여, 증착 마스크에 부착된 재료를 박리시킬 때에, 증착 마스크의 기판측에 마스크 흡착판을 붙이는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
12. 제11항에 있어서, 상기 마스크 흡착판은, 자석판, 전자석판 및 정전기판 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
13. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 재료 박리 회수실은, 상기 재료 박리 기구로 박리시킨 재료를 흡인하는 흡인 기구 및 흡인한 재료를 수집하고 상기 교환실 밖으로 배출하는 배출 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 증착 장치.
14. 제1항 내지 제4항 및 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 교환실은, 상기 성막실의 상기 기판의 상대 이동 방향에 대하여 직교하는 가로 방향으로 병설하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
15. 제1항 내지 제4항 및 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 마스크 홀더는, 상기 제한용 개구부의 형상을, 상기 기판측의 개구 면적보다 상기 증발원측의 개구 면적을 작은 형상으로 형성한 것을 특징으로 하는 증착 장치.
16. 제1항 내지 제4항 및 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 성막 재료를, 유기 재료로 한 것을 특징으로 하는 증착 장치.
17. 제1항 내지 제4항 및 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 증착 장치를 이용하여, 상기 기판 상에 상기 증착 마스크에 의해 정해진 성막 패턴의 증착막을 형성하는 것을 특징으로 하는 증착 방법.
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