JP2012151255A - 多数個取り配線基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の絶縁層を積層してなり、厚み方向に沿った平面視で矩形を呈する複数の配線基板pを縦横に沿って配列した製品領域と、上記同様に絶縁層を積層してなり、製品領域の外周に沿って位置し且つ平面視が矩形枠状である耳部5と、該耳部5の外側面4に形成したメッキ用電極6と、耳部5に形成され、メッキ用電極6と、製品領域内の最外側に位置する複数の配線基板pの導体部分8から延びた接続配線9jごと、との間を導通するメッキ用タイバー15とを含み、該メッキ用タイバー15の幅は、メッキ用電極6に近接する位置から該メッキ用電極6から離れた位置に向かってテーパ状(漸次的)15tに広くなっている、多数個取り配線基板1a。
【選択図】図3
Description
そのため、前記コーナ部付近のメッキ用タイバーの表面には、Auなどのメッキ被膜が比較的厚めに被覆される反面、製品領域内の特に中心部付近に位置する配線基板の導体部分には、メッキ被膜が比較的薄く被覆され易くなるため、製品領域内の位置ごとに配線基板によって、メッキ被膜の厚みが不均一になる、という問題があった。かかる問題を解決するため、矩形枠状を呈する耳部のうち、該耳部のコーナ部ごとの領域に位置するメッキ用タイバーの幅を、他の直線部に位置するメッキ用タイバーの幅よりも広くした多数個取り配線基板が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
即ち、本発明の多数個取り配線基板(請求項1)は、複数の絶縁層を積層してなり、厚み方向に沿った平面視で矩形を呈する複数の配線基板を縦横に沿って配列した製品領域と、上記同様に絶縁層を積層してなり、上記製品領域の外周に沿って位置し且つ平面視が矩形枠状である耳部と、該耳部の外側面に形成したメッキ用電極と、上記耳部に形成され、上記メッキ用電極と、上記製品領域内の最外側に位置する複数の配線基板の導体部分から延びた接続配線ごと、との間を導通するメッキ用タイバーとを含み、該メッキ用タイバーの幅は、上記メッキ用電極に近接する位置から該メッキ用電極から離れた位置に向かって広くなっている、ことを特徴とする。
従って、メッキ用電極、メッキ用タイバー、および接続配線を介してメッキ電流が、製品領域のどの位置における配線基板に対しても、比較的均一に流されているので、該配線基板ごとの表面などに位置する導体部分に厚みが近似した金属メッキ被膜の被覆された多数個取り配線基板となっている。
また、前記製品領域は、複数の配線基板を縦横に直接隣接させた形態と、複数の配線基板を絶縁層を介して縦横に配列させた形態との双方を含んでいる。
更に、前記メッキ用タイバーは、複数のセラミック層などが積層されてなる前記耳部の表面、裏面、あるいは複数のセラミック層などの層間に形成されている。
また、前記メッキ用タイバーと、前記製品領域内の最外側に位置する配線基板ごとの導体部分との間は、専用の前記接続導体によって、個別に接続されていると共に、前記製品領域内で隣接する配線基板ごとの導体部同士の間も、同様な中継導体で接続されている。
更に、配線基板の導体部分とは、内部配線層、表面または裏面の接続端子(パッド)、キャビティ底面のパッド、スルーホール導体、あるいはキャビティを囲む表面の封止用導体枠などである。
また、前記製品領域と耳部との間、および製品領域内で隣接する配線基板同士の間には、仮想の切断予定面が位置しているか、あるいは該切断予定面に沿った分割溝が表面および裏面の少なくとも一方に形成されている。
更に、前記耳辺は、矩形枠状の耳部を構成する何れか1つの辺を指す。
これによれば、前記メッキ用タイバーの幅が、前記メッキ用電極に近接する位置から該メッキ用電極から離れた位置に向かって、漸次的または段階的に広くなるように前記耳部に形成されている。その結果、製品領域のどの位置における配線基板に対しても、比較的均一なメッキ電流が流れるので、配線基板ごとの導体部分に厚みが近似した金属メッキ被膜の被覆された多数個取り配線基板となっている。しかも、セラミック層などからなる複数の絶縁層を積層してなる前記耳部の表面、裏面、あるいは内部の絶縁層間に、製造工程において導電性ペーストを、例えば、テーパ状のように漸次的に幅が変化するか、例えば、階段状のように段階的に幅が変化するパターンで印刷することで、工数を大きく増やしたり、複雑にすることなく、容易に前記メッキ用タイバーを形成することができる。
尚、前記「漸次的」とは、メッキ用電極に近接する位置から該メッキ用電極から離れた位置に向かって、例えば、テーパ状のパターンで幅が広くなることを指している。また、前記「段階的」とは、例えば、複数段の階段形状のパターンで幅が広くなることを指している。
これによれば、製品領域において、前記隣接する2つのメッキ用電極の何れかに比較的接近する外周側の配線基板と、何れのメッキ用電極からも比較的離れている配線基板とのどちらであっても、導通経路の長短に伴う導通抵抗の差が小さいので、該配線基板ごとの導体部分に厚みが近似した金属メッキ被膜の被覆された多数個取り配線基板となっている。
これによれば、製品領域を挟んで対向する一対の耳辺ごとに複数のメッキ用電極が形成され、各耳辺で隣接する2つのメッキ用電極の間を接続する前記メッキ用タイバーの幅が、各メッキ用電極に近接する位置で最も狭くされ、且つ各メッキ用電極から最も離れた位置で最も広くなっている。その結果、製品領域におけるどの位置の配線基板に対しても、比較的均一なメッキ電流が流されているので、配線基板ごとの導体部分に厚みが近似した金属メッキ被膜の被覆された多数個取り配線基板となっている。
これによれば、メッキ用タイバーは、メッキ用電極に近接する位置から該メッキ用電極から離れた位置に向かって、幅と共に厚みも増大しているので、製品領域におけるどの位置の配線基板であっても、メッキ用電極との導通経路の長短に伴う導通抵抗の差を一層低減している。従って、配線基板ごとの導体部分に厚みが近似した金属メッキ被膜の被覆された多数個取り配線基板となっている。しかも、耳部の表・裏面の幅寸法を抑制できのため、多数個取り配線基板の小型化も可能となる
これによれば、メッキ用タイバーは、メッキ用電極に近接する位置から該メッキ用電極から離れた位置に向かって、幅と共に厚みも漸次的または段階的に増大しているので、製品領域におけるどの位置の配線基板であっても、メッキ用電極との導通経路の長短に伴う導通抵抗の差を一層確実に低減することが可能となる。
尚、前記メッキ用タイバーにおいて、該タイバーの幅と共に厚みも大となる部分には、耳部の表面または裏面から外側に突出する形態、あるいは該耳部の内部に食い込む形態とが含まれる。
図1は、本発明による一形態の多数個取り配線基板1aを示す平面図、図2は、図1中のX−X線の矢視に沿った垂直断面図、図3は、図2中のY−Y線の矢視に沿った水平断面図である。
多数個取り配線基板1aは、図1〜図3に示すように、表面2および裏面3を有し且つ2層(複数)のセラミック層(絶縁層)s1,s2を積層してなり、厚み方向に沿った平面視で長方形(矩形)を呈する複数の配線基板pを縦横に沿って配列した製品領域Paと、上記と同じセラミック層s1,s2を積層してなり、上記製品領域Paの外周に沿って位置し且つ平面視が矩形枠状の耳部5と、該耳部5のうち、図1,図3で左右一対の耳辺5の外側面4に一対(複数)ずつ形成したメッキ用電極6と、を含んでいる。該メッキ用電極6は、耳部5の外側面4に設けた平面視がほぼ半円形の凹部7の内壁面に沿ったほぼ半円筒体である。
尚、上記表面2および裏面3は、製品領域Paと耳部5とに共通している。
また、上記セラミック層s1,s2は、例えば、アルミナを主成分としている。
更に、図1,図3中の破線は、仮想の切断予定面cfを示している。
図2,図3に示すように、前記セラミック層s1,s2間の耳部5のうち、左右一対の長辺の耳辺5には、メッキ用タイバー15が対向して形成され、上下一つの短辺の耳辺5には、接続用タイバー18が対向して形成されている。上記メッキ用タイバー15は、接続線14を介してメッキ用電極6の中央部と接続し且つ該メッキ用電極6に近接する位置16から、上記メッキ用電極6より最も離れた位置17に向かって、幅がテーパ状(漸次的)15tに広くなるように形成されている。上下に隣接するメッキ用電極6,6間に位置するメッキ用タイバー15においても、各メッキ用電極6から最も離れた位置17に向かって漸次的に広くなっている。一方、左右の上記メッキ用タイバー15の上・下端の位置17,17間を接続する上下の各接続用タイバー18は、幅が一定の帯状を呈している。
尚、前記メッキ用電極6、配線部8、連絡配線9、接続導体9j、表面導体10〜12、メッキ用タイバー15、接続用タイバー18、裏面導体19、スルーホール導体tdは、例えば、WあるいはMoからなる。
また、前記メッキ用タイバー15は、追って前記セラミック層s2となるグリーンシートの表面に、W粉末などを含む導電性ペーストを、前記パターンに倣って印刷した後、常法により積層・焼成することで、容易に形成されたものである。
多数個取り配線基板1bは、図4〜図6に示すように、表面2および裏面3を有し且つ3層のセラミック層s1〜s3を積層してなり、厚み方向に沿った平面視で長方形を呈する複数の配線基板pを互いに離隔しつつ縦横に沿って配列した製品領域Paと、上記と同じセラミック層s1〜s3を積層してなり、上記製品領域Paの外周に沿って位置し且つ平面視が矩形枠状の耳部5と、該耳部5のうち、図4で左右一対の耳辺5の外側面4に一対ずつ形成した前記同様のメッキ用電極6と、を含んでいる。
尚、セラミック層s1〜s3も、例えばアルミナを主成分としている。
個々の配線基板pにおいて、キャビティ23の底面に露出する最下層のセラミック層s3の表面には、一対の接続端子24が形成され、該接続端子24は、図6に示すように、セラミック層s3の裏面3に形成された一対の裏面導体29と、該セラミック層s3を貫通するスルーホール導体tdを介して個別に導通可能とされている。更に、配線基板pごとにおける一対の裏面導体29は、セラミック層s1〜s3を貫通するスルーホール導体tdを介して、表面2側の導体枠20と個別に導通可能とされている。
尚、図5,図6中の破線で示す切断予定面cfは、平面視で個々の配線基板pにおける導体枠20における四辺の外側辺に沿っている。
また、前記導体枠20、配線線21、接続配線22、接続端子24、メッキ用タイバー25、接続用タイバー28、裏面導体29、スルーホール導体tdは、例えば、WあるいはMoからなる。
更に、前記メッキ用タイバー25は、追って前記セラミック層s1となるグリーンシートの表面に、W粉末などを含む導電性ペーストを、前記パターンに倣って印刷した後、常法により積層・焼成することで、容易に形成されている。
加えて、切断予定面cfに沿って個片化された後の配線基板pにおいて、導体枠20は、キャビティ23の開口部を閉塞する金属製の蓋板とのロウ付けに活用され、且つ一対の接続端子23を含む回路におけるアースを兼ねるものでもある。
従って、メッキ用電極6、メッキ用タイバー25、接続配線22、および接続線21を介してメッキ電流が、製品領域Paのどの位置における配線基板pに対しても、比較的均一に流されるため、配線基板pごとの導体枠20、接続端子24、裏面導体29の表面に、Niメッキ被膜やAuメッキ被膜が近似した厚みで被覆した多数個取り配線基板1bとされている。
多数個取り配線基板1cは、図7に示すように、前記導体枠20、接続端子24、キャビティ23などを含む複数の配線基板pを縦横に配列した前記同様の製品領域Paと、その外側に位置する前記同様の耳部5とを備えている。該多数個取り配線基板1cが前記配線基板1bと相違するのは、左右の耳辺(耳部)5の表面2に形成されたメッキ用タイバー25が、該耳辺5の外側面4に設けたメッキ用電極6の中央部と直に接続し且つ該メッキ用電極6に近接する位置26から、上記メッキ用電極6より最も離れた位置27に向かって、幅がテーパ状(漸次的)25tに広くなるように形成されていることである。
また、上下の耳辺5の表面2に、上記位置27に隣接する位置の幅が狭く且つ各耳辺5の中央部に向かって幅がテーパ状(漸次的)28tに広くなったメッキ用タイバー28bが形成されていること、および図7の縦方向に沿って、上記メッキ用タイバー28bと、製品領域Pa内の外周側に位置する配線基板pごとの導体枠20との間を接続する接続配線22j、および縦方向に隣接する配線基板pごとの導体枠20,20間を接続する接続線21iとを更に形成したことも、前記配線基板1bとの相違点である。
尚、前記多数個取り配線基板1bにおいても、前記接続用タイバー28に替えて、メッキ用タイバー28bあるいは段階的に幅が変化するメッキ用タイバーを設け、更に前記接続配線22jおよび接続線21iを追加した形態としても良い。
また、前記多数個取り配線基板1aにおいても、前記接続用タイバー18に替えて、メッキ用タイバー28bあるいは段階的に幅が変化するメッキ用タイバーを設け、更に縦方向に沿った接続配線および接続線を追加した形態としても良い。
更に、前記多数個取り配線基板1a,1bの接続用タイバー18,28と配線基板pごとの間に、縦方向に沿った接続配線(22j)および接続線(21i)を追加した形態としても良い。
多数個取り配線基板1dは、図8に示すように、前記セラミック層s1,s2間における左右一対の耳辺5に、メッキ用電極6に近接する位置16から該メッキ用電極6より離れた位置17に向かって、階段状(段階的)15sに広くなっているメッキ用タイバー15を個別に形成したものであり、前記多数個取り配線基板1aと同様な効果を奏することが可能である。
図9は、前記多数個取り配線基板1dの応用形態1eを示す部分平面図である。
多数個取り配線基板1eは、図9に示すように、幅が階段状(段階的)15sに変化する左右一対の前記メッキ用タイバー15に加え、上下の耳辺5に、前記位置17に隣接する位置の幅が狭く且つ各耳辺5の中央部に向かって幅が階段状(段階的)18sに広くなるメッキ用タイバー18bが形成されると共に、および図9の縦方向に沿って、上記メッキ用タイバー18bと、製品領域Pa内の外周側に位置する配線基板pごとの配線部8との間を接続する接続配線9k、および縦方向に隣接する配線基板pごとの配線部8,8間を接続する接続線9iを更に追加して形成している。
尚、前記多数個取り配線基板1aにおいても、前記接続用タイバー18に替えて、メッキ用タイバー18bあるいは漸次的に幅が変化するメッキ用タイバーを設け、更に縦方向に沿った接続配線および接続線を追加した形態としても良い。
多数個取り配線基板1fは、図10に示すように、前記導体枠20、接続端子24、キャビティ23などを含む複数の配線基板pを縦横に配列した前記同様の製品領域Paと、その外側に位置する前記同様の耳部5とを備え、対向する一対の耳辺5には、メッキ用タイバー25の幅が、該耳辺5の外側面4に設けたメッキ用電極6の中央部と接続線14を介して接続し且つ該メッキ用電極6に近接する位置26から、上記メッキ用電極6より最も離れた位置27に向かって、テーパ状(漸次的)25tに広くなるように形成されている。
更に、多数個取り配線基板1fでは、図11に示すように、メッキ用タイバー25の厚みが、前記メッキ用電極6に近接する位置26から、該メッキ用電極6より最も離れた位置27vに向かって、テーパ状(漸次的)25tvに外向きに厚くされている。また、隣接する一対のメッキ用電極6,6間においても、メッキ用タイバー25の厚みが、前記メッキ用電極6に近接する位置26から、各メッキ用電極6より最も離れた位置27vに向かって、テーパ状(漸次的)25tvに厚くなっている。
多数個取り配線基板1gは、図12に示すように、前記同様の製品領域Paと耳部5とを備え、対向する一対の耳辺5には、メッキ用タイバー25の幅が、該耳辺5の外側面4に設けたメッキ用電極6の中央部と接続線14を介して接続し且つ該メッキ用電極6に近接する位置26から、上記メッキ用電極6より最も離れた位置27に向かって、階段状(段階的)25sに広くなるように形成されている。更に、多数個取り配線基板1gでは、図12に示すように、メッキ用タイバー25の厚みが、前記メッキ用電極6に近接する位置26から、該メッキ用電極6より最も離れた位置27vに向かって、階段状(段階的)25svに外向きに厚くされている。また、隣接する一対のメッキ用電極6,6間においても、メッキ用タイバー25の厚みが、前記メッキ用電極6に近接する位置26から、各メッキ用電極6より最も離れた位置27vに向かって、階段状(段階的)25svに厚くなっている。尚、前記メッキ用タイバー25の幅と厚みとは、前記位置26,27間の同じ位置で段階的に広くなり且つ厚くしたが、幅と厚みとの変化が前記同様であれば、前記位置26,27間の異なる位置で変化させても良い。
尚、配線基板1f,1gにおけるメッキ用タイバー25の厚みは、セラミック層s1の内部に向かって漸次的または段階的に厚くなるような形態にしても良い。
また、前記多数個取り配線基板1a,1d,1eについても、前記メッキ用タイバー15の厚みを、前記位置16,17間において幅の拡がる変化と同様に変化させることで、製品領域Pa内のどの位置の配線基板pであっても、各メッキ用電極6との距離の差を、一層均一化することが可能である。
例えば、絶縁層は、前記アルミナ以外の高温焼成セラミック、あるいは低温焼成セラミックの一種であるガラス−セラミック、更には、エポキシなどの樹脂からなるものとしても良い。このうち、ガラス−セラミックやエポキシ系樹脂を用いた場合、前記メッキ用電極6、導体部8、メッキ用タイバー15,25、導体枠20などの導体は、Cu、Ag、Cu合金、あるいはAg合金が適用される。
また、前記メッキ用電極6は、耳部5の同じ耳辺5に1個のみ設けたり、あるいは3個以上を併設した形態としても良い。
更に、前記メッキ用電極6は、耳部5における四辺の耳辺5ごとに、1個以上を同数あるいは異なる数にして形成しても良い。かかる形態では、四辺の耳辺5ごとに、前記メッキ用タイバー15,25が配設される。
また、前記メッキ用タイバー15は、複数の絶縁層のうち、最上層の絶縁層の表面に配設しても良く、前記メッキ用タイバー25は、複数の絶縁層の間に配設しても良い。
また、前記「段階的」には、メッキ用電極に近接する位置から該メッキ用電極から離れた位置に向かって、傾斜した複数の斜辺を介して幅が段階的に順次拡がる形態も含まれる。
更に、前記多数個取り配線基板1a〜1gにおいて、製品領域Paと耳部5との境界や、配線基板p,p間の境界に破線で示す仮想の切断予定面cfを配置した形態では、かかる切断予定面cfに沿ってシンター(剪断)加工することで、各配線基板pが個片化される。
加えて、前記多数個取り配線基板1a〜1gにおいて、前記切断予定面cfに替えて、表面2に開口する断面ほぼV字形の分割溝を形成したり、表面2と裏面3との双方に断面ほぼV字形の分割溝を一対対称に形成し、該分割溝に沿って曲げ加工することで、各配線基板pを個片化するようにしても良い。
5………………………………耳部/耳辺
6………………………………メッキ用電極
8………………………………配線部(導体部分)
9j,9i,22,22j…接続配線
15,25……………………メッキ用タイバー
16,26……………………メッキ用電極に近接する位置
17,27……………………メッキ用電極から離れた位置
20……………………………導体枠(導体部分)
Pa……………………………製品領域
p………………………………配線基板
s1〜s3……………………セラミック層(絶縁層)
15t,25t,25tv…テーパ状(漸次的)
15s,25s,25sv…階段状(段階的)
Claims (6)
- 複数の絶縁層を積層してなり、厚み方向に沿った平面視で矩形を呈する複数の配線基板を縦横に沿って配列した製品領域と、
上記同様に絶縁層を積層してなり、上記製品領域の外周に沿って位置し且つ平面視が矩形枠状である耳部と、
上記耳部の外側面に形成したメッキ用電極と、
上記耳部に形成され、上記メッキ用電極と、上記製品領域内の最外側に位置する複数の配線基板の導体部分から延びた接続配線ごと、との間を導通するメッキ用タイバーとを含み、
上記メッキ用タイバーの幅は、上記メッキ用電極に近接する位置から該メッキ用電極から離れた位置に向かって広くなっている、
ことを特徴とする多数個取り配線基板。 - 前記メッキ用タイバーの幅は、前記メッキ用電極に近接する位置から該メッキ用電極から離れた位置に向かって、漸次的に広くなっているか、または段階的に広くなっている、
ことを特徴とする請求項1に記載の多数個取り配線基板。 - 前記メッキ用電極は、前記耳部の外側面に複数個が形成され、隣接する2つのメッキ用電極の間を接続する前記メッキ用タイバーの幅は、各メッキ用電極に近接する位置で最も狭く、且つ各メッキ用電極から最も離れた位置で最も広い、
ことを特徴とする請求項1または2に記載の多数個取り配線基板。 - 前記耳部のうち、少なくとも平面視で対向する一対の耳辺ごとに複数のメッキ用電極が形成され、耳辺ごとで隣接する2つのメッキ用電極の間を接続する前記メッキ用タイバーの幅は、各メッキ用電極に近接する位置で最も狭く、且つ各メッキ用電極から最も離れた位置で最も広い、
ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の多数個取り配線基板。 - 前記メッキ用タイバーの厚みは、前記メッキ用電極に近接する位置から該メッキ用電極から離れた位置に向かって厚くなっている、
ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の多数個取り配線基板。 - 前記メッキ用タイバーの厚みは、前記メッキ用電極に近接する位置から該メッキ用電極から離れた位置に向かって、漸次的に広くなっているか、または段階的に厚くなっている、
ことを特徴とする請求項請求項5に記載の多数個取り配線基板。
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