JP2012149338A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012149338A5
JP2012149338A5 JP2011205736A JP2011205736A JP2012149338A5 JP 2012149338 A5 JP2012149338 A5 JP 2012149338A5 JP 2011205736 A JP2011205736 A JP 2011205736A JP 2011205736 A JP2011205736 A JP 2011205736A JP 2012149338 A5 JP2012149338 A5 JP 2012149338A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnet
magnetic pole
plate
yoke plate
yoke
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011205736A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5873276B2 (ja
JP2012149338A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2011205736A priority Critical patent/JP5873276B2/ja
Priority claimed from JP2011205736A external-priority patent/JP5873276B2/ja
Priority to US13/328,793 priority patent/US9058962B2/en
Publication of JP2012149338A publication Critical patent/JP2012149338A/ja
Publication of JP2012149338A5 publication Critical patent/JP2012149338A5/ja
Priority to US14/696,909 priority patent/US9911526B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5873276B2 publication Critical patent/JP5873276B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

JP2011205736A 2010-12-27 2011-09-21 磁石ユニットおよびマグネトロンスパッタリング装置 Active JP5873276B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011205736A JP5873276B2 (ja) 2010-12-27 2011-09-21 磁石ユニットおよびマグネトロンスパッタリング装置
US13/328,793 US9058962B2 (en) 2010-12-27 2011-12-16 Magnet unit and magnetron sputtering apparatus
US14/696,909 US9911526B2 (en) 2010-12-27 2015-04-27 Magnet unit and magnetron sputtering apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010291235 2010-12-27
JP2010291235 2010-12-27
JP2011205736A JP5873276B2 (ja) 2010-12-27 2011-09-21 磁石ユニットおよびマグネトロンスパッタリング装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012149338A JP2012149338A (ja) 2012-08-09
JP2012149338A5 true JP2012149338A5 (enExample) 2014-12-18
JP5873276B2 JP5873276B2 (ja) 2016-03-01

Family

ID=46315361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011205736A Active JP5873276B2 (ja) 2010-12-27 2011-09-21 磁石ユニットおよびマグネトロンスパッタリング装置

Country Status (2)

Country Link
US (2) US9058962B2 (enExample)
JP (1) JP5873276B2 (enExample)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140109427A (ko) * 2012-01-30 2014-09-15 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 자기회로
US20150034476A1 (en) * 2013-07-08 2015-02-05 Veeco Instruments, Inc. Deposition of thick magnetizable films for magnetic devices
US10091594B2 (en) 2014-07-29 2018-10-02 Cochlear Limited Bone conduction magnetic retention system
US9583244B2 (en) * 2014-09-30 2017-02-28 Nichia Corporation Bonded magnet, bonded magnet component, and bonded magnet production method
US10130807B2 (en) 2015-06-12 2018-11-20 Cochlear Limited Magnet management MRI compatibility
US20160381473A1 (en) 2015-06-26 2016-12-29 Johan Gustafsson Magnetic retention device
US10917730B2 (en) * 2015-09-14 2021-02-09 Cochlear Limited Retention magnet system for medical device
CN115944849A (zh) 2019-09-27 2023-04-11 科利耳有限公司 用于医用植入物系统的多极磁体

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63317671A (ja) 1987-06-19 1988-12-26 Shinku Kikai Kogyo Kk スパッタリング方法および装置
JPH04175242A (ja) 1990-11-06 1992-06-23 Asahi Glass Co Ltd 無アルカリガラス
JPH05148642A (ja) * 1991-11-28 1993-06-15 Hitachi Ltd マグネトロンスパツタ装置
JPH11158625A (ja) * 1997-11-25 1999-06-15 Sony Corp マグネトロンスパッタ成膜装置
JP3803520B2 (ja) * 1999-02-22 2006-08-02 忠弘 大見 マグネット回転スパッタ装置
JP2001348863A (ja) 2000-06-05 2001-12-21 Nobumasa Noro 矢板用取付金物
JP2001348663A (ja) 2000-06-08 2001-12-18 Sony Corp スパッタリング装置
JP4175242B2 (ja) 2003-11-07 2008-11-05 松下電器産業株式会社 マグネトロンスパッタ装置および方法
US8500975B2 (en) * 2004-01-07 2013-08-06 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for sputtering onto large flat panels
EP1710829A1 (de) * 2005-04-05 2006-10-11 Applied Films GmbH & Co. KG Magnetanordnung für ein Planar-Magnetron
AU2006300441A1 (en) * 2005-10-07 2007-04-19 Tohoku University Magnetron sputtering apparatus
JP5342240B2 (ja) * 2005-12-22 2013-11-13 テル・ソーラー・アクチェンゲゼルシャフト 少なくとも１つのスパッタコーティングされた基板を製造する方法およびスパッタソース
US20080296142A1 (en) * 2007-05-29 2008-12-04 Hien-Minh Huu Le Swinging magnets to improve target utilization
JP4314318B2 (ja) 2007-10-31 2009-08-12 キヤノンアネルバ株式会社 マグネトロンユニット、マグネトロンスパッタリング装置及び電子デバイスの製造方法
JP2009299184A (ja) * 2008-05-12 2009-12-24 Canon Anelva Corp 磁場発生装置、磁場発生方法、スパッタ装置及びデバイスの製造方法
JP5730077B2 (ja) 2010-06-03 2015-06-03 キヤノンアネルバ株式会社 磁石ユニットおよびマグネトロンスパッタリング装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012149338A5 (enExample)
JP2014504707A5 (enExample)
JP2014523323A5 (enExample)
JP2013149722A5 (enExample)
JP2011202217A5 (enExample)
TW201818434A (zh) 磁性薄膜沉積腔室及薄膜沉積裝置
WO2013130936A3 (en) Magnetic gears, and related systems and methods
SE531984C2 (sv) Rotoranordning för en ensidig transversalflödesmaskin med flödeskoncentration
TW201315828A (zh) 平面磁控濺射陰極
JP5873276B2 (ja) 磁石ユニットおよびマグネトロンスパッタリング装置
JP2010512620A5 (enExample)
JP2012012700A5 (enExample)
EP2763285A3 (en) Permanent magnet embedded type rotor for rotating electrical machine and rotating electrical machine having permanent magnet embedded type rotor
TWI607106B (zh) 磁控濺鍍用磁場產生裝置
JP2011047765A5 (enExample)
JP2008156735A5 (enExample)
JP5865321B2 (ja) 棒磁石
US20160211735A1 (en) Vibration motor
JP2015017304A5 (enExample)
JP2016188618A5 (enExample)
JP5140383B2 (ja) スパッタリング装置
KR20100099938A (ko) 마그네트 기어
JP2013093925A5 (enExample)
JP5781408B2 (ja) マグネトロンスパッタカソード
CN204289364U (zh) 一种用于大口径平行束离子源的磁场装置