JP2012124308A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012124308A5
JP2012124308A5 JP2010273529A JP2010273529A JP2012124308A5 JP 2012124308 A5 JP2012124308 A5 JP 2012124308A5 JP 2010273529 A JP2010273529 A JP 2010273529A JP 2010273529 A JP2010273529 A JP 2010273529A JP 2012124308 A5 JP2012124308 A5 JP 2012124308A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
developing
developer
cleaning
transport mechanism
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010273529A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2012124308A (ja
JP5449116B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2010273529A priority Critical patent/JP5449116B2/ja
Priority claimed from JP2010273529A external-priority patent/JP5449116B2/ja
Priority to KR1020110130164A priority patent/KR20120064038A/ko
Publication of JP2012124308A publication Critical patent/JP2012124308A/ja
Publication of JP2012124308A5 publication Critical patent/JP2012124308A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5449116B2 publication Critical patent/JP5449116B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2010273529A 2010-12-08 2010-12-08 現像装置、これを備える現像塗布システム、および現像方法 Expired - Fee Related JP5449116B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010273529A JP5449116B2 (ja) 2010-12-08 2010-12-08 現像装置、これを備える現像塗布システム、および現像方法
KR1020110130164A KR20120064038A (ko) 2010-12-08 2011-12-07 현상 장치, 이를 구비하는 현상 도포 시스템 및 현상 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010273529A JP5449116B2 (ja) 2010-12-08 2010-12-08 現像装置、これを備える現像塗布システム、および現像方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012124308A JP2012124308A (ja) 2012-06-28
JP2012124308A5 true JP2012124308A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2012-12-06
JP5449116B2 JP5449116B2 (ja) 2014-03-19

Family

ID=46505462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010273529A Expired - Fee Related JP5449116B2 (ja) 2010-12-08 2010-12-08 現像装置、これを備える現像塗布システム、および現像方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5449116B2 (enrdf_load_stackoverflow)
KR (1) KR20120064038A (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6418531B2 (ja) * 2015-03-05 2018-11-07 新電元工業株式会社 レジスト現像装置、レジスト現像方法及び半導体装置の製造方法
JP7058550B2 (ja) * 2018-05-16 2022-04-22 東京エレクトロン株式会社 現像処理装置および現像処理方法
JP7023190B2 (ja) * 2018-06-15 2022-02-21 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置および基板処理方法
CN110794656A (zh) * 2018-08-03 2020-02-14 夏普株式会社 抗蚀膜形成基板的制造方法及其所涉及的工序管理系统

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3704064B2 (ja) * 2001-07-05 2005-10-05 東京エレクトロン株式会社 液処理装置および液処理方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104966685B (zh) 涂布、显影装置
CN102540770B (zh) 显影方法、显影装置及具备该显影装置的涂敷显影处理系统
JP2004273984A (ja) 基板処理方法および基板処理装置
JP2009004728A (ja) 基板処理装置
JP2012124308A5 (enrdf_load_stackoverflow)
TW201041066A (en) Substrate processing apparatus
JP2011124313A (ja) 基板処理システム、基板処理装置、基板処理方法及び基板処理プログラムを記録した記録媒体
JP3851462B2 (ja) 基板処理装置
TW201703864A (zh) 噴灑蝕刻裝置
JP5449116B2 (ja) 現像装置、これを備える現像塗布システム、および現像方法
JP5908078B2 (ja) 薬液処理装置
KR101387613B1 (ko) 디스플레이 기판 세정장치
JP3987362B2 (ja) 基板処理装置
TWI635554B (zh) 基板處理方法
JP2018006616A (ja) 基板処理装置
JP6789026B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
CN210052015U (zh) 一种全自动洗片机的清洗装置
TW512399B (en) Coating apparatus
JP6360404B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2010199455A (ja) 基板材の表面処理装置
JP6047359B2 (ja) 基板洗浄装置
JP4846008B2 (ja) 現像処理装置及び現像処理方法
JP2006255590A (ja) 基板処理装置
JP4365192B2 (ja) 搬送式基板処理装置
JP2005064312A (ja) 基板処理方法および基板処理装置