JP2012123145A - 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 - Google Patents

Abstract

【課題】所望のギャップに正確に設定できる波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置を提供すること。
【解決手段】第１基板に設けられた第１電極と、可動部５２２を有する第２基板５２に設けられ、第１電極と対向する第２電極５６２と、第１電極から第１基板の外周縁に向かって延出して設けられた第１電極線と、第２電極５６２から第２基板５２の外周縁に向かって延出して設けられた第２電極線５６２Ａと、第１電極線と対向し、第２電極５６２と絶縁されて設けられた第１対向電極線５６２Ｂと、第１電極線及び第１対向電極線５６２Ｂを導通する第１導通部とを備え、第２電極線５６２Ａと第１対向電極線５６２Ｂとは、第２基板５２の厚み方向から見た平面視において、可動部５２２の中心点を中心とした仮想円の中心点を通り、仮想円を等角度間隔に分割する方向に延出して形成される。
【選択図】図３

Description

本発明は、波長可変干渉フィルター、この波長可変干渉フィルターを備える光モジュール、及びこの光モジュールを備える光分析装置に関する。

従来、一対の基板の互いに対向する面に、それぞれミラーを対向配置した光フィルター（波長可変干渉フィルター）が知られている（例えば、特許文献１参照）。このような波長可変干渉フィルターでは、入射光を一対のミラー間で光を多重干渉させ、多重干渉により互いに強め合った特定波長の光を透過させる。

特許文献１の波長可変干渉フィルターでは、第１の基板と第２の基板とが対向配置されている。また、第１の基板の第２の基板に対向しない面には、円環状の溝部が形成されており、この溝部が形成されることで第１の基板の基板中心部に円柱状の可動部と、可動部と同軸で円環状に形成されるダイヤフラムとが形成される。そして、一対の基板間には、ダイヤフラムの第２の基板に対向する面及び第１の基板にリング状の電極が対向配置され、さらに、可動部の第２の基板に対向する面及び第２の基板にミラーが対向配置される。
このような構成により、一対の電極から基板の外周縁までそれぞれ延出した各電極線に電圧が印加されることで、一対の電極間に静電引力が発生する。この静電引力によりダイヤフラムが湾曲して、ミラーが形成された可動部が基板厚み方向に移動し、一対のミラー間のギャップを変更することが可能となる。これにより、波長可変干渉フィルターは、ギャップに応じた特定波長の光を透過させることが可能となる。

特開２０１０−２０４４５７号公報

特許文献１の波長可変干渉フィルターでは、第１の基板において、ダイヤフラムの第２の基板に対向する側の面には、電極から基板の外周縁まで延出した電極線が設けられている。電極線は、第１の基板に１本のみ形成されているため、ダイヤフラムのうち、この電極線が成膜された一部にだけ、電極線の膜応力が加わる。このため、ダイヤフラムの応力バランスが不均一となって、ダイヤフラムが撓むおそれがある。これにより、第１の基板の可動部が傾斜し、一対のミラーが互いに平行にならない可能性がある。
そこで、第１の基板におけるダイヤフラムの応力バランスを向上させるために、基板中心点を対称中心点として、前記電極線と点対称となる位置に、同一構成の電極線（撓み防止膜用電極線）を形成することが考えられる。
しかしながら、例えば、波長可変干渉フィルターを組み込むためのモジュールの配線状態等の構造的な制約などにより、第２の基板のうち、撓み防止用電極線に対向する位置に電極線を設けなければならない場合もある。このような場合、撓み防止用電極線と第２の基板の電極線との間で静電引力が発生するため、一対のミラーが互いに平行とならない可能性がある。これにより、一対のミラー間のギャップを所望のギャップに正確に設定することができないという課題がある。

本発明の目的は、所望のギャップに正確に設定できる波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置を提供することにある。

本発明の波長可変干渉フィルターは、第１基板と、前記第１基板に対向し、前記第１基板に向けて進退可能に移動する可動部を有する第２基板と、前記第１基板の前記第２基板に対向する面に設けられた第１反射膜と、前記可動部の前記第１基板に対向する面に設けられ、前記第１反射膜と所定の第１ギャップを介して対向する第２反射膜と、前記第１基板の前記第２基板に対向する面に設けられた第１電極と、前記第２基板の前記第１基板に対向する面に設けられ、前記第１電極と所定の第２ギャップを介して対向する第２電極と、前記第１基板に設けられて、前記第１電極から前記第１基板の外周縁に向かって延出して設けられた第１電極線と、前記第２基板に設けられて、前記第２電極から前記第２基板の外周縁に向かって延出して設けられた第２電極線と、前記第２基板に設けられて、前記第１電極線と対向し、前記第２電極と絶縁されて設けられた第１対向電極線と、前記第１電極線及び前記第１対向電極線を導通する第１導通部と、を備え、前記第２電極線と前記第１対向電極線とは、第２基板の厚み方向から見る平面視において、前記可動部の中心点を中心とした仮想円の前記中心点を通り、前記仮想円を等角度間隔に分割する方向に延出して形成されることを特徴とする。

本発明によれば、第１基板に向けて進退可能に移動する可動部を有する第２基板は、第２電極から第２基板の外周縁に向かって延出して設けられた第２電極線と、第１電極線に対向し、第２電極と絶縁されて設けられた第１対向電極線とを備える。そして、第２電極線と第１対向電極線とは、平面視において、可動部の中心点を中心とした仮想円の中心点を通り、仮想円を等角度間隔に分割する方向に延出して形成される。
例えば、第２電極線と第１対向電極線とが１８０度間隔に形成される場合は、第２電極線及び第１対向電極線が可動部の中心点を中心として点対称に設けられることとなり、第２電極線と第１対向電極線とが９０度間隔に形成される場合は、第２電極線及び第１対向電極線が可動部の中心点を通る対称軸を中心として線対称に設けられることとなる。
これにより、第２電極線と第１対向電極線とにより、第２基板の応力バランスが均一に保たれ、上述したように、第２基板に第２電極線のみが成膜された場合の膜応力により、第２基板の可動部が傾くことを防止でき、一対の反射膜を互いに平行に維持できる。
さらに、互いに対向する第１電極線及び第１対向電極線が第１導通部で導通される。これにより、第１電極線及び第１対向電極線は電位差が０となるので、第１電極線と第１対向電極線との間で静電引力が発生することを防止でき、第１電極と第２電極との間でのみ静電引力を発生させることができる。
従って、一対の反射膜を互いに平行に維持でき、所望のギャップに正確に設定できる。

本発明の波長可変干渉フィルターでは、前記第２基板は、前記可動部を前記第２基板の厚み方向に移動可能に保持する連結保持部を有し、前記連結保持部には、前記第２電極線及び前記第１対向電極線が形成され、前記第２電極線及び前記第１対向電極線の前記連結保持部に形成された形成領域における形状は、同一形状に形成されることが好ましい。

ところで、連結保持部は、可動部を第２基板の厚み方向に移動可能に保持する部分であるため、撓みが生じやすいように形成される。
本発明によれば、第２電極線及び第１対向電極線が連結保持部に形成された形成領域における形状は、同一形状に形成される。これにより、第２基板において、連結保持部の応力バランスが均一に保たれるので、例えば、連結保持部に第２電極線のみが成膜された場合の膜応力により、可動部が傾くことを確実に防止でき、一対の反射膜を互いに平行に維持できる。

本発明の波長可変干渉フィルターでは、前記第１基板に設けられて、前記第２電極線と対向し、前記第１電極と絶縁されて設けられた第２対向電極線と、前記第２電極線及び前記第２対向電極線を導通する第２導通部とを備え、前記第１電極線と前記第２対向電極線とは、第１基板の厚み方向から見る平面視において、前記第１反射膜の中心点を中心とした仮想円の前記中心点を通り、前記仮想円を等角度間隔に分割する方向に延出して形成されることが好ましい。

ところで、第１基板の厚み寸法が小さい場合には、第１電極線の膜応力により、第１基板が撓み、第１反射膜の形成面が水平とならず、一対の反射膜を互いに平行に維持できないおそれがある。
そこで、本発明によれば、第１基板には、平面視における第１反射膜の中心点を中心とした仮想円の中心点を通り、仮想円を等角度間隔に分割する方向に、第１電極線と、第２電極線に対向する第２対向電極線とが延出して形成される。これにより、第１電極線のみが成膜された場合の膜応力により、第１基板に生じる撓みを防止でき、一対の反射膜をより平行に維持できる。
さらに、互いに対向する第２電極線及び第２対向電極線が第２導通部で導通される。これにより、第２電極線及び第２対向電極線は電位差が０となるので、第２電極線と第２対向電極線との間で静電引力が発生することを防止でき、第１電極と第２電極との間でのみ静電引力を発生させることができる。従って、一対の反射膜をより平行に維持でき、所望のギャップに正確に設定できる。

本発明の光モジュールは、上述の波長可変干渉フィルターと、前記波長可変干渉フィルターを透過した検査対象光を受光する受光部とを備えることを特徴とする。

本発明によれば、上述した発明と同様に、一対の反射膜をより平行に維持できるため、波長可変干渉フィルターを印加電圧に応じた所望のギャップに正確に設定できる。従って、光モジュールは、受光部により精度の高い測定をすることができる。

本発明の光分析装置は、上述の光モジュールと、前記光モジュールの前記受光部により受光された光に基づいて、前記検査対象光の光特性を分析する分析処理部とを備えることを特徴とする。

本発明によれば、上述した波長可変干渉フィルターを有する光モジュールを備えるので、精度の高い測定を実施でき、この測定結果に基づいて光分析処理を実施することで、正確な分光特性を測定可能な光分析装置を実現することができる。

本発明に係る一実施形態の測色装置の概略構成を示すブロック図。 前記実施形態のエタロンの第１基板の平面図。 前記実施形態のエタロンの第２基板の平面図。 前記実施形態のエタロンの断面図。 前記実施形態のエタロンの部分断面図。 前記実施形態のエタロンの部分断面図。 本発明に係る変形例のエタロンの第２基板の平面図。

以下、本発明に係る一実施形態を図面に基づいて説明する。
〔１．測色装置の概略構成〕
図１は、本実施形態の測色装置１（光分析装置）の概略構成を示すブロック図である。
測色装置１は、図１に示すように、検査対象Ａに光を射出する光源装置２と、測色センサー３（光モジュール）と、測色装置１の全体動作を制御する制御装置４とを備える。そして、この測色装置１は、光源装置２から射出される光を検査対象Ａにて反射させ、反射された検査対象光を測色センサー３にて受光し、測色センサー３から出力される検出信号に基づいて、検査対象光の色度、すなわち検査対象Ａの色を分析して測定する装置である。

〔２．光源装置の構成〕
光源装置２は、光源２１、複数のレンズ２２（図１には１つのみ記載）を備え、検査対象Ａに対して白色光を射出する。また、複数のレンズ２２には、コリメーターレンズが含まれてもよく、この場合、光源装置２は、光源２１から射出された白色光をコリメーターレンズにより平行光とし、図示しない投射レンズから検査対象Ａに向かって射出する。なお、本実施形態では、光源装置２を備える測色装置１を例示するが、例えば検査対象Ａが液晶パネルなどの発光部材である場合、光源装置２が設けられない構成としてもよい。

〔３．測色センサーの構成〕
測色センサー３は、図１に示すように、エタロン５（波長可変干渉フィルター）と、エタロン５を透過する光を受光する受光素子３１（受光部）と、エタロン５で透過させる光の波長を可変する電圧制御部６とを備える。また、測色センサー３は、エタロン５に対向する位置に、検査対象Ａで反射された反射光（検査対象光）を、内部に導光する図示しない入射光学レンズを備えている。そして、この測色センサー３は、エタロン５により、入射光学レンズから入射した検査対象光のうち、所定波長の光を分光し、分光した光を受光素子３１にて受光する。
受光素子３１は、複数の光電交換素子により構成されており、受光量に応じた電気信号を生成する。そして、受光素子３１は、制御装置４に接続されており、生成した電気信号を受光信号として制御装置４に出力する。

（３−１．エタロンの構成）
図２は、エタロン５の第１基板５１の平面図であり、図３は、エタロン５の第２基板５２の平面図である。図４は、図２及び図３の矢視IV-IV線で示す位置でのエタロン５の断面図である。なお、図１では、エタロン５に検査対象光が図中下側から入射しているが、図４では、検査対象光が図中上側から入射するものとする。
第１基板５１及び第２基板５２は、図２及び図３に示すように、平面視正方形状の板状の光学部材であり、一辺が例えば１０ｍｍに形成されている。このエタロン５は、図４に示すように、検査対象光の入射側から第１基板５１及び第２基板５２を備え、これらの基板５１，５２が、プラズマ重合膜を用いたシロキサン接合などにより接合層５３を介して互いに接合されて一体的に構成される。これらの２枚の基板５１，５２は、それぞれ例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラスなどの各種ガラスや、水晶などにより形成されている。

また、第１基板５１と第２基板５２との間には、図４に示すように、固定ミラー５４（第１反射膜）、及び可動ミラー５５（第２反射膜）が設けられる。ここで、固定ミラー５４は、第２基板５２の第１基板５１に対向する面に形成され、可動ミラー５５は、第１基板５１の第２基板５２に対向する面に形成される。また、これらの固定ミラー５４及び可動ミラー５５は、ミラー間ギャップＧ１（第１ギャップ）を介して対向配置されている。
さらに、第１基板５１と第２基板５２との間には、各ミラー５４，５５の間のミラー間ギャップＧ１の寸法を調整するための静電アクチュエーター５６が設けられている。

（３−１−１．第１基板の構成）
第１基板５１は、厚みが例えば５００μｍのガラス基材をエッチングにより加工することで形成される。この第１基板５１には、図２及び図４に示すように、エッチングにより電極形成溝５１１及びミラー固定部５１２が形成される。

電極形成溝５１１には、ミラー固定部５１２の外周縁から、電極形成溝５１１の内周壁面までの間に、リング状の電極固定面５１１Ａが形成され、この電極固定面５１１Ａには、第１電極５６１が形成される。本発明に係る固定ミラー５４の中心点Ｃを中心とした仮想円は、リング状の第１電極５６１に相当する。
なお、第１電極５６１は、導電性を有し、第２基板５２の後述する第２電極５６２との間で電圧を印加することで、第１電極５６１及び第２電極５６２間に静電引力を発生させることが可能なものであれば、特に限定されないが、本実施形態では、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：酸化インジウムスズ）を用いるが、Ａｕ／Ｃｒなどの金属積層体を用いてもよい。また、第１電極５６１の上面には、図示を省略したが、第１電極５６１及び第２電極５６２の間の放電等によるリークを防止するために絶縁膜が形成される。この絶縁膜としては、ＳｉＯ_２やＴＥＯＳ（TetraEthoxySilane）などを用いることができ、特に第１基板５１を形成するガラス基板と同一光学特性を有するＳｉＯ_２が好ましい。絶縁膜として、ＳｉＯ_２を用いる場合、第１基板５１及び絶縁膜の間での光の反射等がないため、第１基板５１上に第１電極５６１を形成した後、第１基板５１の第２基板５２に対向する側の面の全面に絶縁膜を形成することができる。

ミラー固定部５１２は、図２に示すように、電極形成溝５１１と同軸上で、電極形成溝５１１よりも小さい径寸法となる略円柱状に形成され、第２基板５２に対向する側の面にミラー固定面５１２Ａを備えている。
そして、ミラー固定面５１２Ａには、直径が約３ｍｍで円形状のＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２系の誘電体多層膜により形成された固定ミラー５４が固定されている。なお、本実施形態では、固定ミラー５４として、ＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２系の誘電体多層膜のミラーを用いる例を示すが、分光可能な波長域として可視光全域をカバーできるＡｇ合金単層のミラーを用いる構成としてもよい。

第１電極５６１の外周縁の一部からは、図２に示す平面視において、第１基板５１の対角線に沿うように、左上方向、右上方向、及び右下方向に向かって、３本の第１電極線５６１Ａが延出して形成される。
また、第１電極５６１と絶縁されて、第１電極５６１の外周縁から離間した位置からは、図２に示す平面視において、第１基板５１の対角線に沿うように、左下方向に向かって、１本の第２対向電極線５６１Ｂが延出して形成される。
さらに、第１電極線５６１Ａ及び第２対向電極線５６１Ｂの先端には、第１電極パッド５６１Ｐが形成され、第１電極パッド５６１Ｐが電圧制御部６（図１参照）に接続される。そして、静電アクチュエーター５６を駆動時には、電圧制御部６（図１参照）により、第１電極パッド５６１Ｐに電圧が印加される。
以上のように、３本の第１電極線５６１Ａ及び１本の第２対向電極線５６１Ｂは、第１基板５１の対角線に沿って形成されるので、第１電極５６１の周方向において、等角度間隔（９０度間隔）で形成される。すなわち、３本の第１電極線５６１Ａ及び１本の第２対向電極線５６１Ｂは、第１基板５１の厚み方向に見る平面視（以下、エタロン平面視）で固定ミラー５４の中心点Ｃ（第１基板５１の基板中心点）を中心として点対称となるように形成される。これにより、第１電極線５６１Ａ及び第２対向電極線５６１Ｂを第１基板５１に成膜形成することで第１基板５１に生じる膜応力は、第１基板５１の面内において均一化され、ミラー固定面５１２Ａの傾きが抑制される。

ここで、第１基板５１において、電極形成溝５１１及びミラー固定部５１２が形成されていない部分が第１基板５１の接合面５１３となる。この接合面５１３には、図３に示すように、接合用の接合層５３が形成されている。この接合層５３には、主材料としてポリオルガノシロキサンが用いられたプラズマ重合膜などを用いることができる。

（３−１−２．第２基板の構成）
第２基板５２は、厚みが例えば２００μｍのガラス基材をエッチングにより加工することで形成される。この第２基板５２には、例えば平面視で基板中心点を中心とした円形の変位部５２１が形成される。この変位部５２１は、図３及び図４に示すように、第１基板５１に向けて進退可能に移動する円柱状の可動部５２２と同軸であり、エタロン平面視で円環状に形成されて可動部５２２を第２基板５２の厚み方向に移動可能に保持する連結保持部５２３を備える。

変位部５２１は、第２基板５２の形成素材である平板状のガラス基材をエッチングにより溝を形成することで形成される。すなわち、変位部５２１は、第２基板５２の第１基板５１に対向しない入射側面に、連結保持部５２３を形成するための円環状の円環溝部５２３Ａをエッチング形成することで形成されている。

可動部５２２は、連結保持部５２３よりも厚み寸法が大きく形成され、例えば、本実施形態では、第２基板５２の厚み寸法と同一寸法である２００μｍに形成されている。この可動部５２２の径寸法は、第１基板５１のミラー固定部５１２の径寸法よりも大きく形成されている。
可動部５２２の第１基板５１に対向する面には、第１基板５１のミラー固定面５１２Ａに平行な可動面５２２Ａを備え、この可動面５２２Ａには、固定ミラー５４と同一構成の可動ミラー５５と、リング状に形成され、第１電極５６１に対して所定の第２ギャップＧ２を介して対向する第１電極５６１と同一構成の第２電極５６２とが形成されている。本発明に係る可動部５２２の中心点Ｃを中心とした仮想円は、リング状の第２電極５６２に相当するものである。

連結保持部５２３は、可動部５２２の周囲を囲うダイヤフラムであり、厚み寸法が例えば５０μｍに形成されている。

第２電極５６２の外周縁の一部からは、図３に示すエタロン平面視において、第２基板５２の対角線に沿うように左下方向に向かって、連結保持部５２３を跨いで、１本の第２電極線５６２Ａが延出して形成される。すなわち、本発明に係る形成領域Ａｒは、第２電極線５６２Ａが連結保持部５２３に形成された領域（図３に示す斜線部分）である。
また、第２電極５６２と絶縁されて、第２電極５６２の外周縁から離間した位置からは、図４に示すエタロン平面視において、第２基板５２の対角線に沿うように左上方向、右上方向、及び右下方向に向かって、連結保持部５２３を跨いで、３本の第１対向電極線５６２Ｂが放射状に三方向に延出して形成される。すなわち、本発明に係る形成領域Ａｒは、第１対向電極線５６２Ｂが連結保持部５２３に形成された領域（図３に示す斜線部分）である。
この形成領域Ａｒにおいて、第１対向電極線５６２Ｂと第２電極線５６２Ａとは、長さ寸法、幅寸法、及び厚み寸法が同一となる同一形状に形成される。
そして、１本の第２電極線５６２Ａ及び３本の第１対向電極線５６２Ｂは、第２基板５１の対角線に沿って形成されるので、第２電極５６２の周方向において、等角度間隔（９０度間隔）で形成される。すなわち、１本の第２電極線５６２Ａ及び３本の第１対向電極線５６２Ｂは、エタロン平面視で可動部５２２の中心点Ｃ（第２基板５２の基板中心点）を中心として点対称となるように形成される。
以上のように、第２電極線５６２Ａ及び第１対向電極線５６２Ｂは、連結保持部５２３の形成領域Ａｒにおいて、同一形状に形成されることにより、第２電極線５６２Ａ及び第１対向電極線５６２Ｂの膜応力により生じる連結保持部５２３の応力バランスが均一となる。これにより、連結保持部５２３に生じる膜応力により可動部５２２が傾くことなく、可動面５２２Ａ及びミラー固定面５１２Ａが互いに平行となる。

第２電極線５６２Ａ及び第１対向電極線５６２Ｂの先端には、第２電極パッド５６２Ｐが形成され、第２電極パッド５６２Ｐが電圧制御部６（図１参照）に接続される。そして、静電アクチュエーター５６を駆動時には、電圧制御部６（図１参照）により、第２電極パッド５６２Ｐに電圧が印加される。

ここで、第２基板５２の第１基板５１に対向する面において、第１基板５１の接合面５１３と対向する領域が、第２基板５２における接合面５２４となる。この接合面５２４には、第１基板５１の接合面５１３と同様に、主材料としてポリオルガノシロキサンを用いた接合層５３が設けられている。

（３−１−３．電極線と対向電極線との導通構造）
図５は、図２及び図３のV-Ｃ線断面図であり、エタロン５の部分断面図である。
第１対向電極線５６２Ｂは、図５に示すように、第１電極線５６１Ａに対向配置され、第１電極線５６１Ａと第１導通部６１で導通接続されている。
第１導通部６１は、第１対向電極線５６２Ｂと第１電極線５６１Ａとに接着され、第１対向電極線５６２Ｂと第１電極線５６１Ａとを導通させるものである。この第１導通部６１は、導電性を有する材料で形成され、例えば、Ａｇペーストより形成される。

図６は、図２及び図３のVI-Ｃ線断面図であり、エタロン５の部分断面図である。
第２対向電極線５６１Ｂは、図６に示すように、第２電極線５６２Ａに対向配置され、第２電極線５６２Ａと第２導通部６２で導通接続されている。
第２導通部６２は、第２対向電極線５６１Ｂと第２電極線５６２Ａとに接着され、第２対向電極線５６１Ｂと第２電極線５６２Ａとを導通させるものである。
なお、第２導通部６２は、第１導通部６１と同じ材料で形成される。

以上のように、第２対向電極線５６１Ｂと第２電極線５６２Ａとが導通接続され、さらに、第１対向電極線５６２Ｂと第１電極線５６１Ａとが導通接続されるため、第２対向電極線５６１Ｂと第２電極線５６２Ａとの電位差、及び第１対向電極線５６２Ｂと第１電極線５６１Ａとの電位差が０となる。すなわち、第１電極５６１と第１対向電極線５６２Ｂとの間で静電引力の発生を防止でき、第１電極５６１と第２電極５６２との間でのみ静電引力が発生する。さらに、第２電極５６２と第２対向電極線５６１Ｂとの間で静電引力の発生を防止でき、第２電極５６２と第１電極５６１との間でのみ静電引力が発生する。
また、第１対向電極線５６２Ｂの第２電極５６２に最も近接する一端部５６２Ｂ１と、第２電極５６２との間の距離Ｌ、及び第２対向電極線５６１Ｂの第１電極５６１に最も近接する一端部５６１Ｂ１と、第１電極５６１との間の距離Ｌは、ぞれぞれ、約１ｍｍ程度である。これに対して、電極間の第２ギャップＧ２の寸法は、約１μｍ〜約２μｍであるため、電極間で静電引力が発生した場合でも、第１対向電極線５６２Ｂと第２電極５６２との間、及び第２対向電極線５６１Ｂと第１電極５６１との間で静電引力が発生することがない。なお、図５及び図６において、図示の都合上、上述した距離Ｌ、及び第２ギャップＧ２の寸法は、上述した寸法とは異なるものとなっている。

（３−２．電圧制御部の構成）
電圧制御部６は、制御装置４からの入力される制御信号に基づいて、静電アクチュエーター５６の第１電極５６１及び第２電極５６２に印加する電圧を制御する。

〔４．制御装置の構成〕
制御装置４は、測色装置１の全体動作を制御する。この制御装置４としては、例えば汎用パーソナルコンピューターや、携帯情報端末、その他、測色専用コンピューターなどを用いることができる。
そして、制御装置４は、図１に示すように、光源制御部４１、測色センサー制御部４２、及び測色処理部４３（分析処理部）などを備えて構成されている。

光源制御部４１は、光源装置２に接続されている。そして、光源制御部４１は、例えば利用者の設定入力に基づいて、光源装置２に所定の制御信号を出力し、光源装置２から所定の明るさの白色光を射出させる。
測色センサー制御部４２は、測色センサー３に接続されている。そして、測色センサー制御部４２は、例えば利用者の設定入力に基づいて、測色センサー３にて受光させる光の波長を設定し、この波長の光の受光量を検出する旨の制御信号を測色センサー３に出力する。これにより、測色センサー３の電圧制御部６は、制御信号に基づいて、利用者が所望する光の波長を透過させるよう、静電アクチュエーター５６への印加電圧を設定する。
測色処理部４３は、測色センサー制御部４２を制御して、エタロン５のミラー間ギャップを変動させて、エタロン５を透過する光の波長を変化させる。また、測色処理部４３は、受光素子３１から入力される受光信号に基づいて、エタロン５を透過した光の光量を取得する。そして、測色処理部４３は、上記により得られた各波長の光の受光量に基づいて、検査対象Ａにより反射された光の色度を算出する。

〔５．本実施形態の作用効果〕
上述の本実施形態に係るエタロン５によれば、以下の効果を奏する。
本実施形態によれば、第１基板５１に向けて進退可能に移動する可動部５２２を有する第２基板５２は、第２電極５６２から第２基板５２の外周縁まで延出して設けられた第２電極線５６２Ａと、第１電極線５６１Ａに対向し、第２電極５６２と絶縁されて設けられた第１対向電極線５６２Ｂとを備える。そして、第２電極線５６２Ａと第１対向電極線５６２Ｂとは、エタロン平面視において、可動部５２２の中心点Ｃを中心とした仮想円（第２電極５６２）の中心点Ｃを通り、仮想円を等角度間隔（９０度間隔）に分割する方向に延出して形成される。これにより、第２電極線５６２Ａと第１対向電極線５６２Ｂとにより、第２基板５２の応力バランスが均一に保たれ、上述したように、第２基板５２に第２電極線５６２Ａのみが成膜された場合の膜応力により、第２基板５２の可動部５２２が傾くことを防止でき、一対のミラー５４，５５を互いに平行に維持できる。
さらに、互いに対向する第１電極線５６１Ａ及び第１対向電極線５６２Ｂが第１導通部６１で導通される。これにより、第１電極線５６１Ａ及び第１対向電極線５６２Ｂは電位差が０となるので、第１電極線５６１Ａと第１対向電極線５６２Ｂとの間で静電引力が発生することを防止でき、第１電極５６１と第２電極５６２との間でのみ静電引力を発生させることができる。
従って、一対のミラー５４，５５を互いに平行に維持でき、所望のギャップＧ１に正確に設定できる。

また、第２電極線５６２Ａ及び第１対向電極線５６２Ｂが連結保持部５２３に形成された形成領域Ａｒにおける形状は、同一形状に形成される。これにより、第２基板５２において、連結保持部５２３の応力バランスが均一に保たれるので、例えば、連結保持部５２３に第２電極線５６２Ａのみが成膜された場合の膜応力により、可動部５２２が傾くことを確実に防止でき、一対のミラー５４，５５を互いに平行に維持できる。

さらに、第１基板５１では、エタロン平面視で固定ミラー５４の中心点Ｃを中心とした仮想円（第１電極５６１）の中心点Ｃを通り、第１電極線５６１Ａと、第２電極線５６２Ａに対向する第２対向電極線５６１Ｂとが仮想円を等角度間隔（９０度間隔）に分割する方向に延出して形成される。これにより、第１電極線５６１Ａのみが成膜された場合の膜応力により、第１基板５１に生じる撓みを防止でき、一対のミラー５４，５５をより平行に維持できる。
また、互いに対向する第２電極線５６２Ａ及び第２対向電極線５６１Ｂが第２導通部６２で導通される。これにより、第２電極線５６２Ａ及び第２対向電極線５６１Ｂは電位差が０となるので、第２電極線５６２Ａと第２対向電極線５６１Ｂとの間で静電引力が発生することを防止でき、第１電極５６１と第２電極５６２との間でのみ静電引力を発生させることができる。従って、一対のミラー５４，５５をより平行に維持でき、所望のギャップＧ１に正確に設定できる。

［実施形態の変形］
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
図７は、本発明の変形例に係るエタロン５Ａの第２基板５２Ａの平面図である。
前記実施形態では、第２基板５２に４本の電極線５６２Ａ，５６２Ｂが形成されていたが、本変形例では、第２基板５２Ａに３本の電極線５６２Ａ，５６２Ｂが形成されている。
具体的に、エタロン５Ａの第２基板５２Ａは、第２電極５６２から第２基板５２の外周縁に向けて延出して形成された１本の第２電極線５６２Ａと、第２電極５６２とは絶縁されて形成された２本の第１対向電極線５６２Ｂとを備える。そして、第２電極線５６２Ａと、第１対向電極線５６２Ｂとは、エタロン平面視における基板中心点を中心とした仮想円の周方向において、１２０度間隔で形成されている。
また、電極線の本数についても前記実施形態及び前記変形例の本数に限定されるものではなく、例えば、１本の第２電極線と、１本の第１対向電極線とがエタロン平面視における可動部の中心点を中心とした仮想円の中心点を通り、仮想円を等角度間隔に分割する方向に延出して形成されていればよい。

前記実施形態では、可動面５２２Ａに第２電極５６２が形成されていたが、この第２電極５６２が連結保持部５２３の第１基板５１に対向する面に形成されていてもよい。

前記実施形態では、第１基板５１に第２対向電極線５６１Ｂを設けていたが、第２対向電極線５６１Ｂを設けない構成であってもよい。この場合には、第１電極線５６１Ａを第１基板５１に成膜形成する際に生じる膜応力によって、第１基板５１が撓まない程度に、第１基板５１の厚み寸法を大きくすればよい。
前記実施形態では、各基板５１，５２に４本の各電極線５６１Ａ，５６１Ｂ，５６２Ａ，５６２Ｂを各基板５１，５２の対角線に沿ってそれぞれ形成していたが、第１電極線５６１Ａと第２対向電極線５６１Ｂ、及び第２電極線５６２Ａと第１対向電極線５６２Ｂは、エタロン平面視で可動部５２２の中心点を中心として点対称となるように、形成されていればよい。

前記実施形態において、接合面５１３，５２４は、接合層５３により接合されるとしたが、これに限られない。例えば、接合層５３が形成されず、接合面５１３，５２４を活性化し、活性化された接合面５１３，５２４を重ね合わせて加圧することにより接合する、いわゆる常温活性化接合により接合させる構成などとしてもよく、いかなる接合方法を用いてもよい。

前記実施形態では、本発明の光モジュールとして、測色センサー３を例示し、光分析装置として、測色センサー３を備えた測色装置１を例示したが、これに限定されるものではない。例えば、センサー内部にガスを流入させ、入射光のうちガスにて吸収された光を検出するガスセンサーを本発明の光モジュールとして用いてもよく、このようなガスセンサーによりセンサー内に流入されたガスを分析、判別するガス検出装置を本発明の光分析装置としてもよい。さらに、光分析装置は、このような光モジュールを備えた分光カメラ、分光分析器などであってもよい。
また、各波長の光の強度を経時的に変化させることで、各波長の光でデータを伝送させることも可能であり、この場合、光モジュールに設けられたエタロン５により特定波長の光を分光し、受光部で受光させることで、特定波長の光により伝送されるデータを抽出することができ、このようなデータ抽出用光モジュールを備えた光分析装置により、各波長の光のデータを処理することで、光通信を実施することもできる。

１…測色装置（光分析装置）、３…測色センサー（光モジュール）、５，５Ａ…エタロン（波長可変干渉フィルター）、３１…受光部、４３…測色処理部（分析処理部）、５１…第１基板、５２，５２Ａ…第２基板、５４…固定ミラー（第１反射膜）、５５…可動ミラー（第２反射膜）、６１…第１導通部、６２…第２導通部、５２２…可動部、５２３…連結保持部、５６１…第１電極、５６２…第２電極、５６１Ａ…第１電極線、５６１Ｂ…第２対向電極線、５６２Ａ…第２電極線、５６２Ｂ…第１対向電極線、Ａｒ…形成領域、Ｇ１…ミラー間ギャップ（第１ギャップ）、Ｇ２…第２ギャップ。

Claims (5)

1. 第１基板と、
   前記第１基板に対向し、前記第１基板に向けて進退可能に移動する可動部を有する第２基板と、
   前記第１基板の前記第２基板に対向する面に設けられた第１反射膜と、
   前記可動部の前記第１基板に対向する面に設けられ、前記第１反射膜と所定の第１ギャップを介して対向する第２反射膜と、
   前記第１基板の前記第２基板に対向する面に設けられた第１電極と、
   前記第２基板の前記第１基板に対向する面に設けられ、前記第１電極と所定の第２ギャップを介して対向する第２電極と、
   前記第１基板に設けられて、前記第１電極から前記第１基板の外周縁に向かって延出して設けられた第１電極線と、
   前記第２基板に設けられて、前記第２電極から前記第２基板の外周縁に向かって延出して設けられた第２電極線と、
   前記第２基板に設けられて、前記第１電極線と対向し、前記第２電極と絶縁されて設けられた第１対向電極線と、
   前記第１電極線及び前記第１対向電極線を導通する第１導通部と、を備え、
   前記第２電極線と前記第１対向電極線とは、第２基板の厚み方向から見る平面視において、前記可動部の中心点を中心とした仮想円の前記中心点を通り、前記仮想円を等角度間隔に分割する方向に延出して形成される
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
2. 請求項１に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記第２基板は、前記可動部を前記第２基板の厚み方向に移動可能に保持する連結保持部を有し、
   前記連結保持部には、前記第２電極線及び前記第１対向電極線が形成され、
   前記第２電極線及び前記第１対向電極線の前記連結保持部に形成された形成領域における形状は、同一形状に形成される
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
3. 請求項１または請求項２に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記第１基板に設けられて、前記第２電極線と対向し、前記第１電極と絶縁されて設けられた第２対向電極線と、
   前記第２電極線及び前記第２対向電極線を導通する第２導通部とを備え、
   前記第１電極線と前記第２対向電極線とは、第１基板の厚み方向から見る平面視において、前記第１反射膜の中心点を中心とした仮想円の前記中心点を通り、前記仮想円を等角度間隔に分割する方向に延出して形成される
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
4. 請求項１から請求項３のいずれかに記載の波長可変干渉フィルターと、
   前記波長可変干渉フィルターを透過した検査対象光を受光する受光部とを備える
   ことを特徴とする光モジュール。
5. 請求項４に記載の光モジュールと、
   前記光モジュールの前記受光部により受光された光に基づいて、前記検査対象光の光特性を分析する分析処理部とを備える
   ことを特徴とする光分析装置。

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