JP2012107016A5

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Info

Publication number: JP2012107016A5
Application number: JP2011282571A
Authority: JP
Filing date: 2011-12-26
Publication date: 2012-07-19
Anticipated expiration: 2026-11-06

Claims

メタンを芳香族炭化水素を含む高級炭化水素に転換する方法であって、
（ａ）メタンを含む供給原料と、反応ゾーンにある脱水環化触媒とを、メタンを芳香族炭化水素に転換する条件で接触させる工程と；
（ｂ）触媒の第１部分を反応ゾーンから加熱ゾーンへ移送する工程と；
（ｃ）加熱ゾーンにある触媒の第１部分を、炭化水素を含む補助燃料源を燃焼させて生成させた燃焼ガスを前記触媒の第１部分に接触させることにより加熱する工程であって、前記補助燃料源に含まれる前記炭化水素を酸素が不足した雰囲気下で燃焼させて合成ガスを生成させる工程と；
（ｄ）前記合成ガスを追加の炭化水素生成物及び／又は燃料に転換する工程と；
（ｅ）加熱された触媒の第１部分を、反応ゾーンへ返送する工程と；
（ｆ）触媒の第２部分を前記反応ゾーンから、前記加熱ゾーンと分離された再生ゾーンへ移送する工程と；
（ｇ）前記触媒の第２部分を、前記再生ゾーンにおいて前記触媒の第２部分からコークスの少なくとも一部を除去できる条件下で再生ガスに接触させる工程と；
（ｈ）再生された前記触媒の第２部分を反応ゾーンへ返送する工程とを備える方法。
前記加熱工程（ｃ）で、前記触媒の第１部分を、前記補助燃料源に直接接触させる、請求項１に記載の方法。
前記補助燃料源を前記加熱ゾーンと分離された燃焼ゾーンで燃焼させて、前記燃焼ゾーンで発生した燃焼ガスを前記加熱ゾーンに供給する、請求項１に記載の方法。
前記補助燃料源にさらに水素が含まれる、請求項１に記載の方法。
前記補助燃料源にメタンが含まれる、請求項１に記載の方法。
前記加熱ゾーンが細長く、加熱ゾーンの長さ方向に沿って互いに離間した複数の場所で、前記触媒の第１部分に熱が加えられる、請求項１に記載の方法。
全ての補助燃料が前記加熱ゾーンの一端に供給され、加熱ゾーンの互いに離間した前記複数の場所に酸素含有ガスが段階的に供給される、請求項６に記載の方法。
前記補助燃料を燃焼させるために必要な全ての酸素含有ガスが加熱ゾーンの一端に供給され、加熱ゾーンの互いに離間した前記複数の場所に、前記補助燃料が段階的に供給される、請求項６に記載の方法。
高温燃焼ガスを加熱ゾーンと分離した燃焼ゾーンで発生させ、加熱ゾーンの互いに離間した前記複数の場所に供給する、請求項６に記載の方法。
前記加熱ゾーンが上昇流反応器であり、前記触媒の第１部分が前記上昇流反応器内を上昇する、請求項１に記載の方法。
前記触媒の第１部分が前記加熱ゾーンに入るときの温度が５００℃から９００℃であり、前記加熱ゾーンを出るときの温度が８００℃から１０００℃である、請求項１に記載の方法。
前記燃焼ガスの温度が１３００℃未満である、請求項１に記載の方法。
さらに、前記触媒の第１部分をストリッピング工程に送り、前記触媒からコークス、及び／又は重質炭化水素の少なくとも一部を除去する、請求項１に記載の方法。
前記ストリッピング工程において、前記触媒の第１部分をスチーム、水素、及び／又は、ＣＯ_２と接触させる、請求項１３に記載の方法。
前記ストリッピング工程を前記加熱工程（ｃ）の後に行う、請求項１３に記載の方法。
さらに、加熱された前記触媒の第１部分をメタンに接触させ、触媒に吸収された水及び／又は酸素の少なくとも一部を除去する、請求項１に記載の方法。
前記触媒が金属成分を含有し、前記加熱された触媒の第１部分を浸炭工程で処理する、請求項１に記載の方法。
前記浸炭工程において、前記加熱された触媒の第１部分を、炭化水素、ＣＯ_２、ＣＯのいずれかと、及び任意にＨ_２と接触させる、請求項１７に記載の方法。
前記再生ゾーンの温度が前記反応ゾーンの温度より低い、請求項１に記載の方法。
前記再生ゾーンの温度が４００℃から７００℃である、請求項１９に記載の方法。
所定時間内に加熱ゾーンへ移送される触媒の重量と、同一の所定時間内に再生ゾーンへ移送される触媒の重量の比が５：１から１００：１の範囲である、請求項１に記載の方法。
前記再生ガスが酸素を含有する、請求項１に記載の方法。
前記再生ガスがさらに二酸化炭素、及び／又は、窒素を含有し、再生ガス中の酸素濃度が１０ｗｔ％未満である、請求項２２に記載の方法。
前記再生ゾーンが上昇流または移動床である、請求項１に記載の方法。
再生された前記触媒の第２部分を、さらにメタンまたは水素と接触させ、触媒に吸着された水、及び／又は酸素の少なくとも一部を除去する、請求項１に記載の方法。
前記触媒が金属成分を含有し、前記再生された触媒の第２部分を浸炭工程で処理する、請求項１に記載の方法。
前記浸炭工程において、前記加熱された触媒の第２の部分を、炭化水素、ＣＯ_２及びＣＯのいずれかと、及び任意にＨ_２と接触させる、請求項２６に記載の方法。
前記供給原料を、前記反応ゾーンにおいて前記脱水環化触媒の移動床に接触させる、請求項１に記載の方法。
前記供給原料の流れ方向が前記脱水環化触媒の移動方向に対し向流である、請求項２８に記載の方法。
前記供給原料を、前記反応ゾーンにおいて前記脱水環化触媒の１以上の流動床に接触させる、請求項１に記載の方法。
前記移送工程（ｂ）及び（ｆ）、並びに前記返送工程（ｅ）及び（ｈ）を連続的に行う、請求項１に記載の方法
前記反応ゾーンが垂直に設置された沈降床反応器で構成され、前記供給原料が反応器の底部またはその近傍に供給され、加熱された触媒の第１部分と再生された触媒の第２部分が反応器の頂部、またはその近傍に送り返される、請求項１に記載の方法。
触媒の第１部分と触媒の第２部分が、前記工程（ｂ）及び（ｅ）において、反応器の底部またはその近傍から抜き出される、請求項３２に記載の方法。
前記反応ゾーンが連続して配列された複数の流動床反応器で構成され、加熱された触媒の第1部分が連続する反応器の最初の反応器に供給され、一番最後の反応器に供給される供給原料に対し向流となる方向に動く、請求項１に記載の方法。