JP2012096465A - セルロースエステル光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 液晶表示装置（ＬＣＤ）あるいは有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレー等の各種の表示装置に用いられるセルロースエステル光学フィルムの製造方法について、置換度分布の狭いセルロースエステルを使用することにより、コントラストが良好な広幅のセルロースエステルフィルムを高生産で製造することができる、セルロースエステル光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 溶液流延製膜法によるセルロースエステル光学フィルムの製造方法は、セルロースエステル樹脂材料がセルロースアシレートで、かつ分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅が０．０３以下であり、支持体上から剥離後のウェブの搬送速度が１００〜１５０ｍ／ｓであることを特徴とする。
【選択図】 図１

Description

本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）あるいは有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレー等の各種の表示装置に用いられるセルロースエステル光学フィルムの製造方法に関するものである。

近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）は種々のところに使用されるに伴って、ＬＣＤに使用される液晶表示素子すなわち偏光板についても高生産性化（生産量増大）が求められている。そして、これらの表示装置に用いられる光学フィルムについても、さらなる低コスト化および高精度化が要望されている。

セルロースエステル光学フィルムは、溶液流延製膜法または溶融流延製膜法により製造するが、一般に、溶液流延製膜法の方が、溶融流延製膜法よりも平面性の高い良好なフィルムを製造することができるため、溶液流延製膜法が広く採用されている。

ところで、光学フィルムの原料としては、セルロースの水酸基を、アシル基、特に炭素原子数が２〜４のアシル基で置換したセルロースエステルが使用されている。セルロースのエステル化プロセスの概要は、セルロース粉砕工程→活性化工程→エステル化工程、熟成工程→抽出工程（後処理化工程）であるが、従来、セルロースエステルの置換度分布をそろえるには、下記の特許文献１〜３に記載のように、熟成工程・抽出工程の条件を制御して行っていた。

特開２００５−１４８１１０号公報 特開２００５−２８１６４５号公報 特開２００９−０２０２６０号公報

しかしながら、熟成工程・抽出工程の条件を制御するだけで、置換度分布をそろえたセルロースエステルでは、高搬送速度（高ＣＳ）で、リタデーション・ムラが生じ、コントラストのバラツキが生じるという問題があった。また、セルロースエステルの低置換度成分がエタノールを保持（トラップ）し、溶媒が抜けにくくなるため、乾燥ムラが発生して、リタデーション・ムラができ、これは、高ＣＳになることで、問題が顕在化した。また、剥離後のウェブの高延伸により、フィルムのリタデーション・ムラも悪くなるという問題があった。

本発明の目的は、上記の従来技術の問題を解決し、置換度分布の狭いセルロースエステルを使用することにより、コントラストが良好な広幅のセルロースエステルを高生産で製造することができる、セルロースエステル光学フィルムの製造方法を提供することにある。

上記の目的を達成するために、請求項１の発明は、セルロースエステル樹脂フィルム原料を溶剤に溶解したドープ（樹脂溶液）を濾過して調製し、流延ダイからドープを、回転駆動金属製エンドレスベルトまたは回転ドラム（支持体）上に流延し、支持体上に流延膜（以下、ウェブともいう）を形成し、支持体上からウェブを剥離し、剥離後のウェブを延伸後、乾燥させたのち、フィルムを巻き取る溶液流延製膜法によるセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、
セルロースエステル樹脂材料がセルロースアシレートで、かつ分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅が０．０３以下であり、支持体上から剥離後のウェブの搬送速度が１００〜１５０ｍ／ｓであることを特徴としている。

請求項２の発明は、請求項１に記載のセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、セルロースエステル樹脂材料として、重量平均分子量（Ｍｗ）を数平均分子量（Ｍｎ）で徐した分子量分布：Ｍｗ／Ｍｎが１．０〜１．５であるセルロースアシレートを用いることを特徴としている。

請求項３の発明は、請求項１または２に記載のセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、剥離後のウェブを延伸する際の延伸倍率が、１．０〜１．５であることを特徴としている。

請求項４の発明は、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載のセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、セルロースエステル樹脂フィルム原料に、可塑剤が１〜１０重量％含まれていることを特徴としている。

請求項５の発明は、請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載のセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、セルロースエステル樹脂フィルム原料のドープ濾過時の温度が、４０〜６０℃の範囲であることを特徴としている。

請求項６の発明は、請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載のセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、剥離後のウェブを延伸する際の延伸温度が、１２０〜１８０℃の範囲であることを特徴としている。

請求項１の発明は、溶液流延製膜法によるセルロースエステル光学フィルムの製造方法において、セルロースエステル樹脂材料がセルロースアシレートで、かつ分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅が０．０３以下であり、支持体上から剥離後のウェブの搬送速度が１００〜１５０ｍ／ｓであるもので、請求項１に記載の発明によれば、置換度分布の狭いセルロースエステルを使用することにより、コントラストが良好な広幅のセルロースエステルを高生産で製造することができるという効果を奏する。

請求項２の発明は、請求項１に記載のセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、セルロースエステル樹脂材料として、重量平均分子量（Ｍｗ）を数平均分子量（Ｍｎ）で徐した分子量分布：Ｍｗ／Ｍｎが１．０〜１．５であるセルロースアシレートを用いるもので、請求項２に記載の発明によれば、分子量にばらつきがないために、リタデーション・ムラがなく、コントラストが良好な広幅のセルロースエステルを高生産で製造することができるという効果を奏する。

請求項３の発明は、請求項１または２に記載のセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、剥離後のウェブを延伸する際の延伸倍率が、１．０〜１．５であるもので、請求項３に記載の発明によれば、いわゆるボイドの発生が少なく、リタデーション・ムラがなく、コントラストが良好な広幅のセルロースエステルを高生産で製造することができるという効果を奏する。

請求項４の発明は、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載のセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、セルロースエステル樹脂フィルム原料に、可塑剤が１〜１０重量％含まれているもので、請求項４に記載の発明によれば、いわゆるボイドの発生やブリードアウトの発生が少なく、コントラストが良好な広幅のセルロースエステルを高生産で製造することができるという効果を奏する。

請求項５の発明は、請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載のセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、セルロースエステル樹脂フィルム原料のドープ濾過時の温度が、４０〜６０℃の範囲であるもので、請求項５に記載の発明によれば、異物の混入や泡の巻き込みが少なく、コントラストが良好な広幅のセルロースエステルを高生産で製造することができるという効果を奏する。

請求項６の発明は、請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載のセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、剥離後のウェブを延伸する際の延伸温度が、１２０〜１８０℃の範囲であるもので、請求項６に記載の発明によれば、フィルムのひずみが生じることなく、またフィルムのたるみが生じることなく、リタデーション・ムラの発生が少なく、コントラストが良好な広幅のセルロースエステルを高生産で製造することができるという効果を奏する。

本発明の溶液流延製膜方法による光学フィルムの製造方法を実施する装置の例を示すフローシートである。

つぎに、本発明の実施の形態を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明のセルロースエステル光学フィルムの製造方法は、セルロースエステル樹脂フィルム原料を溶剤に溶解したドープ（樹脂溶液）を濾過して調製し、流延ダイからドープを、回転駆動金属製エンドレスベルトまたは回転ドラム（支持体）上に流延し、支持体上に流延膜（以下、ウェブともいう）を形成し、支持体上からウェブを剥離し、剥離後のウェブを延伸後、乾燥させたのち、フィルムを巻き取る溶液流延製膜法によるセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、セルロースエステル樹脂材料がセルロースアシレートで、かつ分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅が０．０３以下であり、支持体上から剥離後のウェブの搬送速度が１００〜１５０ｍ／ｓであることを特徴としている。

ここで、セルロースアシレートの分子間置換度分布を狭める方法としては、セルロースのエステル化プロセスのセルロース粉砕工程において、メカノケミカル粉砕工程とし、均一なセルロースエステルを得る方法などがあげられる。

セルロースエステル樹脂材料の分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅は、０．０３以下であり、０．０１〜０．０３の範囲が好ましい。

以下、本発明によるセルロースエステル光学フィルムの製造方法を、順に説明する。

本発明のセルロースエステル光学フィルムの製造方法において用いるセルロースエステルは、セルロース由来の水酸基がアシル基などで置換されたセルロースエステルである。例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートなどのセルロースアシレートや、脂肪族ポリエステルグラフト側鎖を有するセルロースアセテートなどが挙げられる。中でも、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、脂肪族ポリエステルグラフト側鎖を有するセルロースアセテートが好ましい。本発明の効果を阻害しない範囲であれば、その他の置換基が含まれていてもよい。

本発明に用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。また、それらから得られたセルロースエステルは、それぞれ任意の割合で混合使用することができる。

本発明に用いられるセルロースエステル樹脂材料は、セルロースアシレートで、かつ分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅が０．０３以下である。

セルロースアセテートの（平均）アセチル置換度は、２．６４〜２．９６であることが好ましい。アセチル置換度は、手塚（Ｔｅｚｕｋａ，Ｃａｒｂｏｎｙｄｒ．Ｒｅｓ．２７３，８３（１９９５））の方法に従いＮＭＲで測定できる。すなわち、セルロースアセテート試料の遊離水酸基をピリジン中で無水プロピオン酸によりプロピオニル化する。得られた試料を重クロロホルムに溶解し、炭素１３のスペクトルを測定する。アセチル基の炭素シグナルは１６９〜１７１ｐｐｍの領域に高磁場から２位、３位、６位の順序で、そして、プロピオニル基のカルボニル炭素のシグナルは、１７２〜１７４ｐｐｍの領域に同じ順序で現れる。それぞれ対応する位置でのアセチルとプロピオニルの存在比から、元のセルロースアセテートにおける酢化度を求めることができる。

セルロースアセテートの平均置換度を求める最も一般的な方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）における酢化度の測定方法である。ＡＳＴＭに従い求めた酢化度（結合酢酸量）を、次式で置換度に換算してもよい。

ＤＳ＝１６２×ＡＶ×０．０１／（６０−４２×ＡＶ×０．０１）
上記式において、ＤＳはアセチル置換度であり、ＡＶは酢化度（％）である。なお、換算して得られる置換度の値は、前記のＮＭＲ測定値との間に若干の誤差が生じることが普通である。換算値とＮＭＲ測定値とが異なる場合は、ＮＭＲ測定値を採用する。また、ＮＭＲ測定の具体的方法によって値が相違する場合は、上記手塚の方法によるＮＭＲ測定値を採用する。

アセチル置換度が均一なセルロースアセテートとは、分子間置換度分布曲線の最大ピークが０．０３０未満の半値幅を有するか、あるいは、分子間置換度分布曲線の最大ピークが下記式で定義されるＹよりも小さい値の半値幅を有するセルロースアセテートであることを意味する。

Ｙ＝−０．１７８８Ｘ＋０．５７８８
上記式において、Ｘは、セルロースアセテートのアセチル置換度である。セルロースアセテートは、分子間置換度分布曲線の最大ピークが０．０３０未満かつ上記式で定義されるＹよりも小さい値の半値幅を有することが最も好ましい。

セルロースアセテートの分子間置換度分布曲線は、逆相ＨＰＬＣにおけるセルロースアセテートの溶出曲線を得て、溶出曲線の横軸（溶出時間）をアセチル置換度（０〜３）に換算することにより得ることができる。逆相ＨＰＬＣの処理条件は、以下の通りである。

溶媒組成：クロロホルム／メタノール（９／１、ｖ／ｖ）：メタノール／水（８／１、ｖ／ｖ）＝２０：８０からクロロホルム／メタノール（９／１、ｖ／ｖ）１００へ２８分間のリニアグラジエント
カラム：ノバパックフェニル３．９×１５０ｍｍ（Ｗａｔｅｒｓ製）
カラム温度：３０℃
流速：０．７ｍｌ／分
試料濃度：２ｍｇ／ｍｌ
注入量：２０μｌ
検出器：エバポレイティブ光散乱検出器（ＥＬＳＤ−ＭＫ−III、Ｖａｒｅｘ製）
ドリフトチューブ温度：８０℃
ガス流量：２．１ＳＬＰＭ
溶出曲線を分子間置換度分布曲線に変換する際には、４種以上の置換度の異なる試料を用いて、同じ測定条件で溶出時間を測定し、溶出時間（Ｔ）から置換度（ＤＳ）を求める換算式を得る。すなわち、溶出時間（Ｔ）と置換度（ＤＳ）との関係から、最小二乗法によりキャリブレーションカーブの関数（通常は、下記の２次式）を求める。

ＤＳ＝ａＴ²＋ｂＴ＋ｃ
上記式において、ＤＳはアセチル置換度であり、Ｔは溶出時間であり、ａ、ｂ及びｃは変換式の係数である。

セルロースアセテートの分子間置換度分布曲線の半値幅については、特開２００５−１４８１１０号公報に詳しい記載がある。

本発明のセルロースエステル光学フィルムの製造方法において用いるセルロースエステルの数平均分子量は、６００００〜３０００００の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。さらに７００００〜２０００００が好ましい。

本発明に用いられるセルロースアシレート樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。測定条件は以下の通りである。

溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工株式会社製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所株式会社製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー株式会社製）Ｍｗ＝２，８００，０００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

本発明のセルロースエステル光学フィルムの製造方法においては、セルロースエステル樹脂材料として、重量平均分子量（Ｍｗ）を数平均分子量（Ｍｎ）で徐した分子量分布：Ｍｗ／Ｍｎが１．０〜１．５であるセルロースアシレートを用いるのが好ましい。

ここで、セルロースエステル樹脂材料の分子量分布：Ｍｗ／Ｍｎは、１．０が最小値であり、また、セルロースエステル樹脂材料の分子量分布：Ｍｗ／Ｍｎが１．５を超えると、分子量にばらつきが多く、リタデーション・ムラが発生するので、好ましくない。

本発明によるセルロースエステル光学フィルムの製造方法において、上記セルロースエステル樹脂材料に対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒という。

良溶媒の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類の他、メチルセロソルブ、ジメチルイミダゾリノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ジメチルスルフォキシド、スルホラン、ニトロエタン、塩化メチレン、アセト酢酸メチルなどが挙げられるが、１，３−ジオキソラン、ＴＨＦ、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチル、及び塩化メチレンが好ましい。

ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０重量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。これらは、ドープを支持体に流延した後、溶媒が蒸発し始めてアルコールの比率が多くなることで、ウェブをゲル化させ、ウェブを丈夫にして、支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステル樹脂材料の溶解を促進したりする役割もある。

炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルを挙げることができる。これらのうち、ドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、かつ毒性がないことなどからエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は、単独ではセルロースエステル樹脂材料に対して溶解性を有しておらず、貧溶媒という。

このような条件を満たす好ましい高分子化合物であるセルロースエステル樹脂材料を高濃度に溶解する溶剤として好ましい溶剤は、塩化メチレン：エチルアルコールの比が９５：５〜８０：２０の混合溶剤である。あるいは、酢酸メチル：エチルアルコール６０：４０〜９５：５の混合溶媒も好ましく用いられる。

これらの有機溶媒は、ドープ中の全溶媒に対し５０重量％以上であることが好ましい。

本発明において、セルロースエステル光学フィルムを製造するための樹脂溶液（ドープ）は、主材としてセルロースエステル樹脂と溶媒とを含み、これに、フィルムに加工性・柔軟性・防湿性を付与する可塑剤、フィルムに滑り性を付与する微粒子（マット剤）、紫外線吸収機能を付与する紫外線吸収剤、フィルムの劣化を防止する酸化防止剤等を含むものである。

本発明において使用する可塑剤としては、特に限定はないが、フィルムにヘイズを発生させたり、フィルムからブリードアウトあるいは揮発しないように、セルロースエステル等の樹脂と、水素結合などによって相互作用可能である官能基を有していることが好ましい。

このような官能基としては、水酸基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、カルボン酸残基、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、スルホン酸残基、ホスホニル基、ホスホン酸残基等が挙げられるが、好ましくはカルボニル基、エステル基、ホスホニル基である。

このような可塑剤の例として、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、カルボン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤などを好ましく用いることができるが、特に好ましくは多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等の非リン酸エステル系可塑剤である。

多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。

ここで、好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

好ましい多価アルコールの例としては、アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。

また、多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。

好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることがさらに好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させると、セルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。

好ましい脂肪族モノカルボン酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。

多価アルコールエステルの分子量は、特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが、さらに好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では、小さい方が好ましい。

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。

グリコレート系可塑剤は、特に限定されないが、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するグリコレート系可塑剤を、好ましく用いることができる。好ましいグリコレート系可塑剤としては、例えばブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等を用いることができる。

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等を用いることができる。 これらの可塑剤は、単独あるいは２種以上混合して用いることができる。

可塑剤の使用量は、１〜１０重量％が好ましい。５〜８重量％がさらに好ましい。可塑剤の使用量が、セルロースエステルに対して１重量％未満では、いわゆるボイドの発生があり、リタデーションが劣化するので、好ましくなく、１０重量％を越えると、フィルムから可塑剤がブリードアウトし、リタデーションが劣化して、フィルムの物性が劣化するため、好ましくない。

本発明のセルロースエステル光学フィルムの製造方法においては、セルロースエステル光学フィルムに滑り性を付与するために、マット剤等の微粒子を添加するのが好ましい。微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。

ここで、本発明で用いられる微粒子としては、無機化合物または有機化合物が挙げられ、無機化合物の微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、クレイ、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、及びリン酸カルシウム等の金属酸化物、水酸化物、ケイ酸塩、リン酸塩、炭酸酸塩、珪酸カルシウム、チタン酸カリウム、硼酸アルミニウム、塩基性硫酸マグネシウム、ガラスファイバーなどが挙げられる。また、有機化合物の微粒子としては、例えば、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂等の微粒子を挙げることができる。

微粒子を樹脂中に分散させる方法としては、ボールミル、サンドミル、ダイノミル等の分散機によるものが挙げられ、メディアレス分散としては、超音波型、遠心型、高圧型等が挙げられるが、本発明では、高圧型分散装置での分散あるいは、混練機を使用した分散が好ましい。

無機化合物の微粒子の例としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫等の微粒子が挙げられる。この中では、ケイ素原子を含有する化合物の微粒子であることが好ましく、特に二酸化ケイ素微粒子が好ましい。二酸化ケイ素微粒子としては、例えばアエロジル株式会社製のＡＥＲＯＳＩＬ ２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２，Ｒ８０５、ＯＸ５０、ＴＴ６００などが挙げられる。

有機化合物の微粒子の例としては、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フッ素化合物樹脂、ウレタン樹脂等の微粒子が挙げられる。

微粒子の１次粒径は、特に限定されないが、最終的にフィルム中での平均粒径は、０．０５〜５．０μｍ程度が好ましい。さらに好ましくは、０．１〜１．０μｍである。

微粒子の平均粒径は、セルロースエステルフィルムを電子顕微鏡や光学顕微鏡で観察した際に、フィルムの観察場所における、微粒子の長軸方向の長さの平均値を指す。フィルム中で観察される微粒子であれば、１次微粒子であっても、１次微粒子が凝集した２次微粒子であってもよいが、通常観察される多くは２次微粒子である。

ここで、微粒子の平均粒径が、５μｍを超えた場合は、ヘイズの劣化等が見られたり、異物として巻状態での故障を発生する原因にもなる。また、微粒子の平均粒径が、０．０５μｍ未満の場合は、フィルムに滑り性を付与するのが難しくなる。

上記の微粒子は、セルロースエステルに対して、０．０４〜０．５重量％添加して使用される。好ましくは、０．０５〜０．３重量％、さらに好ましくは０．０５〜０．２５重量％添加して使用される。微粒子の添加量が０．０４重量％以下では、フィルム表面粗さが平滑になりすぎて、摩擦係数の上昇によりブロッキングを発生する。微粒子の添加量が０．５重量％を超えると、フィルム表面の摩擦係数が下がりすぎて、巻き取り時に巻きズレが発生したり、フィルムの透明度が低く、ヘイズが高くなるため、液晶表示装置用フィルムとしての価値を持たなくなるので、上記の範囲が必須である。

微粒子の分散は、微粒子と溶剤を混合した組成物を高圧分散装置で処理することが好ましい。本発明で用いる高圧分散装置は、微粒子と溶剤を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。

高圧分散装置で処理することにより、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９８０Ｎ／ｃｍ^２以上であることが好ましい。さらに好ましくは、装置内部の最大圧力条件が１９６０Ｎ／ｃｍ^２以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／ｓｅｃ以上に達するもの、伝熱速度が１００ｋｃａｌ／ｈｒ以上に達するものが、好ましい。

上記のような高圧分散装置としては、例えばMicrofluidics Corporation社製の超高圧ホモジナイザー（商品名マイクロフルイダイザー）あるいはナノマイザー社製ナノマイザーが挙げられ、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモゲナイザーなどが挙げられる。

本発明において、微粒子は、低級アルコール類を２５〜１００重量％含有する溶剤中で分散した後、セルロースエステルを溶剤に溶解したドープと混合し、該混合液をエンドレスベルト上に流延するのが好ましい。

ここで、低級アルコールの含有比率としては、好ましくは５０〜１００重量％、さらに好ましくは７５〜１００重量％である。

また、低級アルコール類の例としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。

低級アルコール以外の溶剤としては、特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

微粒子は、溶媒中で１〜３０重量％の濃度で分散される。これ以上の濃度で分散すると、粘度が急激に上昇し、好ましくない。分散液中の微粒子の濃度としては、好ましく、５〜２５重量％、さらに好ましくは、１０〜２０重量％である。

フィルムの紫外線吸収機能は、液晶の劣化防止の観点から、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルムなどの各種光学フィルムに付与されていることが好ましい。このような紫外線吸収機能は、紫外線を吸収する材料をセルロースエステル中に含ませても良く、セルロースエステルからなるフィルム上に紫外線吸収機能のある層を設けてもよい。

本発明において、使用し得る紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。

紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。

本発明において、有用な紫外線吸収剤の具体例としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。

また、紫外線吸収剤の市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６（何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を、好ましく使用できる。

また、本発明において使用し得る紫外線吸収剤であるベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されない。

本発明において、これらの紫外線吸収剤の配合量は、セルロースエステル（セルロースエステル）に対して、０．０１〜１０重量％の範囲が好ましく、さらに０．１〜５重量％が好ましい。紫外線吸収剤の使用量が少なすぎると、紫外線吸収効果が不充分の場合があり、紫外線吸収剤の多すぎると、フィルムの透明性が劣化する場合があるので、好ましくない。紫外線吸収剤は熱安定性の高いものが好ましい。

また、本発明のセルロースエステル光学フィルムの製造方法に用いることのできる紫外線吸収剤は、特開平６−１４８４３０号公報及び特開２００２−４７３５７号公報に記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）を好ましく用いることができる。とりわけ特開平６−１４８４３０号公報に記載の一般式（１）、あるいは一般式（２）、あるいは特開２００２−４７３５７号公報に記載の一般式（３）、（７）で表わされる高分子紫外線吸収剤が、好ましく用いられる。

酸化防止剤は、一般に、劣化防止剤ともいわれるが、セルロースエステル光学フィルムとしてのセルロースエステルフィルム中に含有させるのが好ましい。すなわち、液晶画像表示装置などが高湿高温の状態に置かれた場合には、セルロースエステル光学フィルムとしてのセルロースエステルフィルムの劣化が起こる場合がある。酸化防止剤は、例えばフィルム中の残留溶媒中のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸などによりフィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、フィルム中に含有させるのが好ましい。

このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることができる。特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。

これらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して重量割合で１ｐｐｍ〜１．０重量％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍがさらに好ましい。

ところで、セルロースエステルの溶解は、図示しない溶解釜中での撹拌溶解方法、加熱溶解方法、超音波溶解方法等の手段が、通常用いられ、加圧下で、溶剤の常圧での沸点以上でかつ溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱し、攪拌しながら溶解する方法が、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため、より好ましい。また、特開平９−９５５３８号公報記載の冷却溶解方法、あるいはまた特開平１１−２１３７９号公報記載の高圧下で溶解する方法なども用いてもよい。

セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤、あるいは膨潤させた後、さらに良溶剤と混合して溶解する方法も好ましく用いられる。このとき、セルロースエステルを貧溶媒と混合して湿潤あるいは膨潤させる装置と、良溶剤と混合して溶解する装置を別々に分けても良い。

セルロースエステルの溶解に用いる加圧容器の種類は、特に問うところではなく、所定の圧力に耐えることができ、加圧下で加熱、攪拌ができればよい。加圧容器には、その他、圧力計、温度計などの計器類を適宜配設する。加圧は窒素ガスなどの不活性気体を圧入する方法や、加熱による溶剤の蒸気圧の上昇によって行なってもよい。加熱は外部から行なうことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。

溶剤を添加しての加熱温度は、使用する溶剤の沸点以上で、２種類以上の混合溶剤の場合は、沸点が低い方の溶剤の沸点以上の温度に加温しかつ該溶剤が沸騰しない範囲の温度が好ましい。加熱温度が高すぎると、必要とされる圧力が大きくなり、生産性が悪くなる。好ましい加熱温度の範囲は２０〜１２０℃であり、３０〜１００℃がさらに好ましい。また圧力は、設定温度で、溶剤が沸騰しないように調整される。

セルロースエステルの溶解後は、冷却しながら容器から取り出すか、または容器からポンプ等で抜き出して、熱交換器などで冷却し、得られたポリマーのドープを製膜に供するが、このときの冷却温度は、常温まで冷却してもよい。

図１は、本発明の溶液流延製膜方法によるセルロースエステル光学フィルムの製造方法を実施する装置を例示するフローシートである。

同図を参照すると、まずドープ溶解釜１において例えばセルロースエステル樹脂溶液（ドープ）を調製する。セルロースエステル樹脂溶液（ドープ）には、上記の可塑剤、微粒子、紫外線吸収剤、酸化防止剤等が含まれている。

原料セルロースエステルと溶剤の混合物は、撹拌機を有するドープ溶解釜１で溶解し、このとき、撹拌翼の周速は少なくとも０．５ｍ／秒以上で、かつ３０分以上撹拌して溶解することが好ましい。

その後、ドープを送液ポンプ２の作動により濾過器３に導いて濾過する。

本発明において、セルロースエステル樹脂溶液（ドープ）の濾過は、ドープを、これの主たる溶剤の１気圧における沸点以上の温度で濾過を施す。

好ましい温度範囲は４０〜６０℃であり、４５〜５５℃の範囲であることがさらに好ましい。ここで、セルロースエステル樹脂溶液（ドープ）の濾過温度が、４０℃未満であれば、例えばフィルタープレス等の濾過器により異物が充分にとれず、異物の混入により、コントラストが劣化するので、好ましくない。また、濾過温度が、６０℃を超えると、フィルムに泡の巻き込みが生じ、コントラストが劣化するので、好ましくない。

濾過器３では、ドープを、例えば９０％捕集粒子径が微粒子の平均粒子径の１０倍〜１００倍の濾材で、濾過する。

本発明において、濾過の際のドープの流量が、１０〜８０ｋｇ／（ｈｒ・ｍ^２）、好ましくは２０〜６０ｋｇ／（ｈｒ・ｍ^２）であることが好ましい。

本発明において、濾過に使用する濾材は、絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると、濾過材の目詰まりが発生しやすく、濾材の交換を頻繁に行なわなければならず、生産性を低下させるという問題点ある。

このため、本発明において、セルロースエステルドープに使用する濾材は、絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下のものが好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの範囲が、より好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの範囲の濾材がさらに好ましい。

濾材の材質には、特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック繊維製の濾材やステンレス繊維等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。

濾圧は、３５００ｋＰａ以下であることが好ましく、３０００ｋＰａ以下が、より好ましく、２５００ｋＰａ以下であることがさらに好ましい。なお、濾圧は、濾過流量と濾過面積を適宜選択することで、コントロールできる。

濾過後のドープは、流延ダイ４に導入し、溶液流延製膜法によりセルロースエステル光学フィルムを作製する。

本発明においては、上記のようにして作製した流延用ドープを、流延ダイ４によって例えばステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる支持体５上に流延する。

流延ダイ４としては、ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。

また、支持体５には、ステンレス鋼製の回転駆動エンドレスベルトもしくはステンレス鋼製の回転駆動ドラムを鏡面仕上げした支持体が使用される。支持体５の温度は、一般的な温度範囲０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、流延することができるが、５〜３０℃の支持体５上に流延する方が、ドープをゲル化させ、剥離限界時間をあげられるため、好ましく、５〜１５℃の支持体５上に流延することが、さらに好ましい。ここで、剥離限界時間とは、透明で平面性の良好なフィルムを連続的に得られる流延速度の限界において、流延されたドープが支持体５上にある時間をいう。剥離限界時間は、短い方が生産性に優れていて、好ましい。

支持体５上の乾燥工程では、流延したドープを一旦ゲル化させた後、流延から剥離ロール６によって剥離するまでの時間を１００％としたとき、流延から３０％以内にドープ温度を４０〜７０℃にすることで、溶剤の蒸発を促進し、それだけ早く支持体５上から剥離することができ、さらに剥離強度が増すため好ましく、３０％以内にドープ温度を５５〜７０℃にすることがより好ましい。その後、この温度を２０％以上維持することが好ましく、さらにこの温度を４０％以上維持することが好ましい。

支持体５上での乾燥は、ウェブ１０を、残留溶媒量６０〜１５０％で支持体５から剥離ロール６によって剥離することが、支持体５からの剥離強度が小さくなるため好ましく、残留溶媒量８０〜１２０％がより好ましい。剥離するときのドープの温度は０〜３０℃にすることが剥離時のベース強度をあげることができ、剥離時のベース破断を防止できるため好ましく、５〜２０℃がより好ましい。

溶液流延製膜法によるセルロースエステル光学フィルムの製造において、残留溶媒量は、次式で表わされる。

残留溶媒量（重量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍはウェブ（フィルム）の任意時点での重量、Ｎは重量Ｍのものを１１５℃で１時間加熱処理したときのフィルム重量である。

フィルム乾燥工程においては、支持体５より剥離ロール６によって剥離したフィルムをさらに乾燥し、残留溶媒量を３重量％以下、好ましくは１重量％以下、より好ましくは０．５重量％以下であることが、寸法安定性が良好なフィルムを得る上で好ましい。

本発明においては、支持体上から剥離後のウェブ１０の搬送速度が１００〜１５０ｍ／ｓであることを特徴としている。ここで、剥離後のウェブ１０の搬送速度が、１００ｍ／ｓ未満であれば、生産性の観点から、好ましくない。また、剥離後のウェブ１０の搬送速度が、１５０ｍ／ｓを超えると、リタデーションムラが顕在化するので、好ましくない。

本発明においては、剥離後のウェブ１０を、クリップ若しくはピンでウェブ１０の両端を把持して搬送するテンター装置７を用いて、幅手方向に１．０１〜２．００倍、好ましくは１．１〜２．００倍延伸する。

また、剥離後のウェブを延伸する際の延伸温度は、１２０〜１８０℃の範囲であるのが好ましい。ここで、延伸温度が１２０℃未満であれば、フィルムにひずみが生じて、コントラストが劣化するので、好ましくない。また、延伸温度が１８０℃を超えると、フィルムにたるみが生じて、リタデーション・ムラが発生するので、好ましくない。

テンター装置７による延伸工程の後には、乾燥装置８を設けることが好ましい。乾燥装置８内では、側面から見て千鳥配置せられた複数の搬送ロールによってウェブ１０が蛇行せられ、その間にウェブ（またはフィルム）１０が乾燥せられるものである。また、乾燥装置８でのフィルム搬送張力は、ドープの物性、剥離時及びフィルム搬送工程での残留溶媒量、乾燥装置８での温度等に影響を受けるが、３０〜２５０Ｎ／ｍが好ましく、６０〜１５０Ｎ／ｍがさらに好ましい。８０〜１２０Ｎ／ｍが最も好ましい。

なお、ウェブ（またはフィルム）１０を乾燥させる手段は、特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行なう。簡便さの点から熱風で乾燥するのが好ましく、例えば乾燥装置の底の前寄り部分から吹込まれ、乾燥装置の天井の後寄り部分から排出せられる温風によって乾燥される。乾燥温度は４０〜１６０℃が好ましく、５０〜１６０℃が平面性、寸法安定性を良くするためさらに好ましい。

これら流延から乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。この場合、乾燥雰囲気を溶媒の爆発限界濃度を考慮して実施することは勿論のことである。

乾燥工程では、ウェブ（またはフィルム）１０に含有される可塑剤が蒸発し、ロールや壁面においてコンデンスする現象を抑制する対策として、単位時間当たり供給風量に対して特定量以上の新鮮なガスを流入させることが好ましい。そして、供給する新鮮ガスの量は、全供給風量の５〜５０％に設定することが好ましい。

乾燥終了後、巻き取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。

上記の搬送乾燥工程を終えたフィルムに対し、巻取工程に導入する前段において、エンボス加工装置によりフィルムにエンボスを形成する加工が行なわれる。エンボス加工装置としては、特開昭６３−７４８５０号公報に記載されている装置が利用できる。

乾燥が終了したウェブ１０を、フィルムとして巻取り装置９によって巻き取り、セルロースエステル光学フィルムの元巻を得る工程である。乾燥終了後のフィルムの残留溶媒量は、０．５重量％以下、好ましくは０．１重量％以下とすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。

フィルムの巻き取り方法は、一般に使用されているワインダーを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の張力をコントロールする方法があり、それらを使い分ければよい。

本発明において、セルロースエステル光学フィルムは、含水率としては０．１〜５％が好ましく、０．３〜４％がより好ましく、０．５〜２％であることがさらに好ましい。

本発明において、セルロースエステル光学フィルムは、透過率が９０％以上であることが望ましく、さらに好ましくは９２％以上であり、さらに好ましくは９３％以上である。

また、本発明の方法により製造されたセルロースエステル光学フィルムは、３枚重ねた場合のヘイズが、０．３〜２．０であるもので、本発明のセルロースエステル光学フィルムによれば、フィルムのヘイズが非常に低いものであり、透明性、平面性に優れた光学特性を有するものである。

ここで、セルロースエステル光学フィルムのヘイズの測定は、例えば、ＪＩＳ Ｋ６７１４に規定される方法に従って、ヘイズ・メーター（１００１ＤＰ型、日本電色工業株式会社製）を用いて測定すれば、良い。

本発明のセルロースエステル光学フィルムでは、下記式で定義される面内リタデーション（Ｒｏ）が、温度２３℃、湿度５５％ＲＨの条件下で３０〜３００ｎｍ、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）が、温度２３℃、湿度５５％ＲＨの条件下で７０〜４００ｎｍであることが好ましい。

Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、Ｒｏはフィルム面内リタデーション値、Ｒｔはフィルム厚み方向リタデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。

なお、リタデーション値Ｒｏ、Ｒｔは、自動複屈折率計を用いて測定することができる。例えば、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器株式会社製）を用いて、温度２３℃、湿度５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍで求めることができる。

以上のようにして得られた幅手方向に延伸された熱可塑性樹脂フィルムは、延伸により分子が配向されて、一定の大きさのリタデーションを持つ。リタデーションのバラツキは小さいほど好ましく、通常１５ｎｍ以内、好ましくは１０ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下である。

本発明の方法により製造されたセルロースエステル光学フィルムの膜厚は、使用目的によって異なるが、液晶表示装置の薄型化とフィルム強度の観点から、仕上がりフィルムとして１０〜１５０μｍの範囲に調整するのが好ましく、さらに２０〜１００μｍの範囲の範囲に調整するのがより好ましく、特に２５〜８０μｍの範囲の範囲に調整するのが好ましい。

ここで、偏光板は、上記の本発明により製造されたセルロースエステル光学フィルムよりなる偏光板用保護フィルムを、少なくとも一方の面に有するものである。

また、液晶表示装置は、上記の偏光板を、液晶セルの少なくとも一方の面に有するものである。

本発明により作製されたセルロースエステル光学フィルムを用いた偏光板を、液晶セルの少なくとも一方の面に有する液晶表示装置は、表示品質が非常に優れているものである。

以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。

実施例１
本発明の溶液流延製膜法によるセルロースエステル光学フィルムの製造方法により、図１に示す溶液流延製膜装置を用いて、セルローストリアセテートフィルムをつぎのようにして製造した。

（ドープの調製）
まず、セルローストリアセテートフィルム材料として、綿花リンターを用い、セルロースのエステル化プロセスのセルロース粉砕工程において、メカノケミカル粉砕工程（石臼式粉砕機に投入し４０℃、３０分間粉砕）とし、均一なセルローストリアセテートを得た。セルローストリアセテートの分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅は、０．０３であった。

セルローストリアセテート（ＴＡＣ） １００重量部
分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅は０．０３、
分子量分布：Ｍｗ／Ｍｎは１．５
可塑剤 １．０重量部
トリフェニルホスフェート／ビフェニルジフェニルホスフェート
＝１０／３
微粒子 ０．１１重量部
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル株式会社製）
紫外線吸収剤 １重量部
チヌビン３２６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
溶媒：酢酸メチル／エタノール＝５／１ ５５０重量部
上記の材料を、順次、ドープ溶解釜１に導入し、釜内温度を２０℃から８０℃まで昇温した後、温度を８０℃に保ったままで３時間攪拌を行なって、セルローストリアセテートを完全に溶解した。その後、攪拌を停止し、液温を５５℃まで下げた後、直ちに連結した配管を経て送液ポンプ２を介して濾過器３に送液し、ドープを、温度４０℃で、濾過を施した。このとき、セルロースの濾材を用いて濾過を行なった。

上記のように濾過したドープを、温水を循環して４０℃に保温した流延ダイ４を通して、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる支持体５上に流延した。

そして、６０℃の乾燥風で乾燥し、流延後６０秒に、１０℃に冷却されたステンレス支持体５からウェブ１０を剥離した。剥離後のウェブ１０の搬送速度を１００ｍ／ｓとした。ついで、剥離後のウェブ１０を、延伸温度１２０℃で、テンターで横方向（ＴＤ）及び縦方向（ＭＤ）に各々１．２倍及び１．０５倍に延伸し、１００℃で乾燥し、残存溶媒量が３％の時に幅把持を解放し、さらに、多数のロールで搬送させながら１３０℃の乾燥ゾーンで乾燥を終了させ、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ８μｍのナーリング加工を施して、膜厚６０μｍのセルロースエステルフィルムを作製した。

また、ウェブ１０中の残留溶媒量が１００重量％になるまで支持体５上で乾燥させた後、剥離ロール６によりウェブ１０を支持体５から剥離した。

ついで、ウェブ１０を、テンター７に導入して、ウェブ１０両端をクリップではさみ、幅手方向に１．１倍延伸した。その後、ウェブ１０を千鳥状に配置した搬送ロールを具備する乾燥装置８で１００℃の乾燥風にて乾燥させ、巻取り機９によりセルローストリアセテートフィルムを巻き取り、最終的に厚さ８０μｍのセルローストリアセテートフィルムを作製した。

実施例２〜６
実施例１の場合と同様に実施するが、セルローストリアセテートの分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅、および支持体上から剥離後のウェブの搬送速度を、下記の表１に示すように、それぞれ変更した以外は、実施例１の場合と同様にして製膜を行ない、各種セルローストリアセテートフィルムを作製した。

比較例１〜６
比較のために、実施例１の場合と同様に実施するが、セルローストリアセテートの分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅、または支持体上から剥離後のウェブの搬送速度を、下記の表１に示すように、本発明の範囲外であるものにそれぞれ変更した以外は、実施例１の場合と同様にして製膜を行ない、比較用の各種セルローストリアセテートフィルムを作製した。

実施例７〜１９
実施例１の場合と同様に実施するが、下記の表１に示すように、実施例７では、セルローストリアセテートの分子量分布：Ｍｗ／Ｍｎを変更した。実施例８と９では、ウェブの延伸倍率をそれぞれ変更した。実施例１０〜１２では、可塑剤の配合量をそれぞれ変更した。実施例１３〜１５では、ドープの濾過温度をそれぞれ変更した。実施例１６〜１９では、ウェブの延伸温度をそれぞれ変更した。それ以外は、実施例１の場合と同様にして製膜を行ない、各種セルローストリアセテートフィルムを作製した。

＜輝点異物の評価＞
つぎに、上記実施例１〜１９および比較例１〜５で作製したセルローストリアセテートフィルムについて、フィルムの輝点異物をまず、直交状態（クロスニコル）に二枚の偏光板を配置して透過光を遮断し、二枚の偏光板の間に測定担体であるセルロースエステルフィルムを挿入する。次いで、その片側から白色光を照射し、反対側より５０倍の光学顕微鏡で観察すると異物が存在する部分から光が漏れて、スポット状に光って見え、フィルムの輝点異物を下記の基準でランク分けした。得られた結果を下記の表１に示した。

◎：２０個以下／２５０ｍｍ^２
○：２１〜４０個／２５０ｍｍ^２
△：４１〜８０個／２５０ｍｍ^２
×：８１個以上／２５０ｍｍ^２
＜リタデーション・ムラの評価＞
つぎに、上記実施例１〜１９および比較例１〜５で作製したセルローストリアセテートフィルムについて、フィルムのリタデーション・ムラを偏光顕微鏡で評価し、フィルムのリタデーション・ムラを下記の基準でランク分けした。得られた結果を下記の表１に示した。

◎：光学フィルムとして使用するのに非常に優良である
○：光学フィルムとして使用するのに優良である
△：光学フィルムとして使用するのに問題は無い
×：光学フィルムとして使用するのに問題がある
＜生産性の評価＞
つぎに、上記実施例１〜１９および比較例１〜５で作製したセルローストリアセテートフィルムについて、フィルムの生産性を、フィルムの生産速度で評価し、フィルムの生産性を下記の基準でランク分けした。得られた結果を下記の表１に示した。

◎：１５００００ｍ^２／日 以上
○：５００００ｍ^２／日 以上、１５００００ｍ^２／日 未満
×：５００００ｍ^２／日 未満

上記表１の結果から明らかなように、本発明の実施例１〜１９で作製したセルローストリアセテートフィルムによれば、フィルムの輝点異物およびリタデーション・ムラの発生がなく、かつコントラストが優れており、またフィルムの生産性が優れているものであった。

これに対し、比較例１で作製したセルローストリアセテートフィルムは、フィルムの生産性が劣るものであり、また比較例２で作製したセルローストリアセテートフィルムは、フィルムのリタデーション・ムラの発生があり、かつフコントラストが劣るものであり、比較例３と５で作製したセルローストリアセテートフィルムは、フィルムの輝点異物およびリタデーション・ムラの発生があり、かつフィルムのコントラストが劣るものであり、比較例４で作製したセルローストリアセテートフィルムは、フィルムの輝点異物およびリタデーション・ムラの発生があり、フィルムの生産性が劣るものであった。

実施例２０〜２５
実施例１〜６の場合と同様に実施するが、セルローストリアセテートを溶解する溶媒を、下記のドープ組成に示すように、メチレンクロライドおよびエタノールに変更した以外は、実施例１〜６の場合と同様にして製膜を行ない、各種セルローストリアセテートフィルムを作製した。

（ドープ組成）
セルローストリアセテート（ＴＡＣ） １００重量部
分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅は０．０３、
分子量分布：Ｍｗ／Ｍｎは１．５
可塑剤 １．０重量部
トリフェニルホスフェート／ビフェニルジフェニルホスフェート
＝１０／３
微粒子 ０．１１重量部
アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル株式会社製）
紫外線吸収剤 １重量部
チヌビン３２６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
溶媒：メチレンクロライド ４１８重量部
エタノール ２３重量部
上記の材料を、順次、ドープ溶解釜１に導入し、釜内温度を２０℃から８０℃まで昇温した後、温度を８０℃に保ったままで３時間攪拌を行なって、セルローストリアセテートを完全に溶解した。その後、攪拌を停止し、液温を５０℃まで下げた後、直ちに連結した配管を経て送液ポンプ２を介して濾過器３に送液し、ドープを、温度４０℃で、濾過を施した。このとき、セルロースの濾材を用いて濾過を行なった。

上記のように濾過したドープを、温水を循環して３０℃に保温した流延ダイ４を通して、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる支持体５上に流延し、以下、上記実施例１〜６の場合と同様にして製膜を行ない、各種セルローストリアセテートフィルムを作製した。

＜フィルムの評価＞
つぎに、上記実施例２０〜２５で作製したセルローストリアセテートフィルムについて、上記実施例１〜６の場合と同様に、フィルムの輝点異物、リタデーション・ムラ、およびフィルムの生産性を評価し、得られた結果を下記の表２に示した。

上記表２の結果から明らかなように、本発明の実施例２０〜２５で作製したセルローストリアセテートフィルムによれば、フィルムの輝点異物およびリタデーション・ムラの発生がなく、かつフィルムのコントラストが優れており、またフィルムの生産性が優れているものであった。

１：流延ダイ
２：送液ポンプ
３：濾過器
４：流延ダイ
５： エンドレスベルト支持体
６：剥離ロール
７：テンター装置
８：乾燥装置
９：巻取り機
１０：ウェブ

Claims (6)

1. セルロースエステル樹脂フィルム原料を溶剤に溶解したドープ（樹脂溶液）を濾過して調製し、流延ダイからドープを、回転駆動金属製エンドレスベルトまたは回転ドラム（支持体）上に流延し、支持体上に流延膜（以下、ウェブともいう）を形成し、支持体上からウェブを剥離し、剥離後のウェブを延伸後、乾燥させたのち、フィルムを巻き取る溶液流延製膜法によるセルロースエステル光学フィルムの製造方法であって、
   セルロースエステル樹脂材料がセルロースアシレートで、かつ分子間置換度分布曲線の最大ピークの半値幅が０．０３以下であり、支持体上から剥離後のウェブの搬送速度が１００〜１５０ｍ／ｓであることを特徴とする、セルロースエステル光学フィルムの製造方法。
2. セルロースエステル樹脂材料として、重量平均分子量（Ｍｗ）を数平均分子量（Ｍｎ）で徐した分子量分布：Ｍｗ／Ｍｎが１．０〜２．０であるセルロースアシレートを用いることを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
3. 剥離後のウェブを延伸する際の延伸倍率が、１．０〜１．５であることを特徴とする、請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
4. セルロースエステル樹脂フィルム原料に、可塑剤が１〜１０重量％含まれていることを特徴とする、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
5. セルロースエステル樹脂フィルム原料のドープ濾過時の温度が、４０〜６０℃の範囲であることを特徴とする、請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
6. 剥離後のウェブを延伸する際の延伸温度が、１２０〜１８０℃の範囲であることを特徴とする、請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。

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