JP2012091353A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012091353A5 JP2012091353A5 JP2010238987A JP2010238987A JP2012091353A5 JP 2012091353 A5 JP2012091353 A5 JP 2012091353A5 JP 2010238987 A JP2010238987 A JP 2010238987A JP 2010238987 A JP2010238987 A JP 2010238987A JP 2012091353 A5 JP2012091353 A5 JP 2012091353A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- forming
- forming step
- hydrophobic substituent
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
本発明は、前記目的を達成するために、基材上に、常温大気圧下でガスである原料を用いて、Ｓｉ−Ｏ結合を主として、Ｓｉに疎水性置換基を直接接合された薄膜を形成する薄膜形成工程と、前記薄膜形成工程で得られた薄膜に励起光を照射し、前記疎水性置換基は残存させて前記薄膜にＯＨ基を有するようにする照射工程と、該照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤により有機膜を形成する有機膜形成工程と、を有することを特徴とする撥水膜の形成方法を提供する。なお、薄膜形成工程は、常温大気圧下でガスである原料を用いる場合、ｃａｔ−ＣＶＤ又はプラズマＣＶＤで行うことが好ましい。
また、本発明は、前記目的を達成するために、基材上に、Ｓｉ−Ｏ結合を主として、Ｓｉに疎水性置換基を直接接合された薄膜を塗布して焼成することで形成する薄膜形成工程と、前記薄膜形成工程で得られた薄膜に励起光を照射し、前記疎水性置換基は残存させて前記薄膜にＯＨ基を有するようにする照射工程と、該照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤により有機膜を形成する有機膜形成工程と、を有することを特徴とする撥水膜の形成方法を提供する。
Claims (2)
- 基材上に、常温大気圧下でガスである原料を用いて、Ｓｉ−Ｏ結合を主として、Ｓｉに疎水性置換基を直接接合された薄膜を形成する薄膜形成工程と、
前記薄膜形成工程で得られた薄膜に励起光を照射し、前記疎水性置換基は残存させて前記薄膜にＯＨ基を有するようにする照射工程と、
該照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤により有機膜を形成する有機膜形成工程と、を有することを特徴とする撥水膜の形成方法。 - 基材上に、Ｓｉ−Ｏ結合を主として、Ｓｉに疎水性置換基を直接接合された薄膜を塗布して焼成することで形成する薄膜形成工程と、
前記薄膜形成工程で得られた薄膜に励起光を照射し、前記疎水性置換基は残存させて前記薄膜にＯＨ基を有するようにする照射工程と、
該照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤により有機膜を形成する有機膜形成工程と、を有することを特徴とする撥水膜の形成方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010238987A JP5818340B2 (ja) | 2010-10-25 | 2010-10-25 | 撥水膜の形成方法 |
| US13/279,612 US20120098889A1 (en) | 2010-10-25 | 2011-10-24 | Method of forming water repelling film, water repelling film, and nozzle plate of inkjet head |
| CN201110330981.2A CN102555326B (zh) | 2010-10-25 | 2011-10-25 | 防水膜的形成方法、防水膜、喷墨头的喷嘴板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010238987A JP5818340B2 (ja) | 2010-10-25 | 2010-10-25 | 撥水膜の形成方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012091353A JP2012091353A (ja) | 2012-05-17 |
| JP2012091353A5 true JP2012091353A5 (ja) | 2012-07-19 |
| JP5818340B2 JP5818340B2 (ja) | 2015-11-18 |
Family
ID=45972665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010238987A Expired - Fee Related JP5818340B2 (ja) | 2010-10-25 | 2010-10-25 | 撥水膜の形成方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20120098889A1 (ja) |
| JP (1) | JP5818340B2 (ja) |
| CN (1) | CN102555326B (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103553359B (zh) * | 2013-10-23 | 2015-11-18 | 傅逸承 | 以烟灰为模板廉价构建透明超疏水自清洁纳米涂层的方法 |
| JP6522322B2 (ja) * | 2013-12-12 | 2019-05-29 | 株式会社トクヤマ | ナノインプリント用レプリカ金型の製造方法 |
| CN104434131A (zh) * | 2014-10-16 | 2015-03-25 | 苏州康磁医疗科技有限公司 | 一种基于石英晶振片具有优异生物相容性的葡萄糖敏感薄膜的制备方法及其应用 |
| JP6547278B2 (ja) * | 2014-11-04 | 2019-07-24 | 日本ゼオン株式会社 | 撥水性フィルムの製造方法 |
| JP6995540B2 (ja) * | 2017-09-14 | 2022-02-04 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッド及びインクジェットプリンタ |
| JP2019051636A (ja) * | 2017-09-14 | 2019-04-04 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッド及びインクジェットプリンタ |
| JP6991806B2 (ja) * | 2017-09-14 | 2022-01-13 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッド及びインクジェットプリンタ |
| JP7242933B2 (ja) * | 2017-09-14 | 2023-03-20 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッド及びインクジェットプリンタ |
| JP2019077103A (ja) * | 2017-10-25 | 2019-05-23 | 東芝テック株式会社 | インクジェットヘッド及びインクジェットプリンタ |
| CN108944051B (zh) * | 2017-11-20 | 2019-08-09 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 喷嘴的表面处理方法 |
| JP6956850B2 (ja) * | 2018-03-16 | 2021-11-02 | 日鉄ステンレス株式会社 | クリヤ塗装ステンレス鋼板 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH089631B2 (ja) * | 1987-07-16 | 1996-01-31 | 日本カ−ボン株式会社 | ジメチルジアルコキシシランの製造方法 |
| JPH09180268A (ja) * | 1995-12-28 | 1997-07-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光ディスクの製造方法及びその製造装置 |
| KR100479000B1 (ko) * | 1996-05-15 | 2005-08-01 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 박막디바이스,액정패널및전자기기및박막디바이스의제조방법 |
| EP1033744A3 (en) * | 1999-02-26 | 2009-07-15 | Applied Materials, Inc. | Improved dry photolithography process for deep ultraviolet exposure |
| US6689479B2 (en) * | 2001-08-28 | 2004-02-10 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Anti-reflection film, and silica layer |
| JP3631236B2 (ja) * | 2002-07-12 | 2005-03-23 | 東京応化工業株式会社 | シリカ系有機被膜の製造方法 |
| JP4447846B2 (ja) * | 2003-02-28 | 2010-04-07 | 宇部日東化成株式会社 | 多孔質シリカ系薄膜の製造方法 |
| JP4293035B2 (ja) * | 2003-05-07 | 2009-07-08 | セイコーエプソン株式会社 | 撥液膜被覆部材、液体噴出装置の構成部材、液体噴出ヘッドのノズルプレート、液体噴出ヘッドおよび液体噴出装置 |
| JP4496805B2 (ja) * | 2004-03-02 | 2010-07-07 | セイコーエプソン株式会社 | 成膜方法および膜 |
| JP2006289838A (ja) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Seiko Epson Corp | 撥液性部材、ノズルプレート及びそれを用いた液体噴射ヘッドならびに液体噴射装置 |
| WO2007105801A1 (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Canon Kabushiki Kaisha | 液体吐出ヘッド基体、その基体を用いた液体吐出ヘッドおよびそれらの製造方法 |
| JP2009029068A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Konica Minolta Holdings Inc | 液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法及び液体吐出ヘッド用ノズルプレート |
| JP2009190299A (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Seiko Epson Corp | 接合基材、接合基材の製造方法、接合体の製造方法及び液滴吐出装置 |
| JP2009292917A (ja) * | 2008-06-04 | 2009-12-17 | Seiko Epson Corp | 接合方法および接合体 |
| JP4608629B2 (ja) * | 2008-07-18 | 2011-01-12 | セイコーエプソン株式会社 | ノズルプレート、ノズルプレートの製造方法、液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法および液滴吐出装置 |
| JP2010030048A (ja) * | 2008-07-24 | 2010-02-12 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出ヘッドの製造方法 |
| JP4674619B2 (ja) * | 2008-07-29 | 2011-04-20 | セイコーエプソン株式会社 | ノズルプレート、ノズルプレートの製造方法、液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置 |
-
2010
- 2010-10-25 JP JP2010238987A patent/JP5818340B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-10-24 US US13/279,612 patent/US20120098889A1/en not_active Abandoned
- 2011-10-25 CN CN201110330981.2A patent/CN102555326B/zh not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2012091353A5 (ja) | ||
| ATE484609T1 (de) | Verfahren zur herstellung einer funktionsschicht | |
| CA2929917C (en) | Coating method for surfaces in chemical installations | |
| JP2013532223A5 (ja) | ||
| WO2013003428A3 (en) | Structure integrated by vacuum pressure forming or vacuum forming, and manufacturing method thereof | |
| WO2007046560A3 (en) | Inorganic substrate with a thin silica type glass layer, method of manufacturing the aforementioned substrate, coating agent, and a semiconductor device | |
| WO2011159922A3 (en) | Graphene films and methods of making thereof | |
| BR112014006126A2 (pt) | artigo abrasivo e método de formação | |
| ATE510795T1 (de) | Verfahren zur herstellung eines elektromechanischen mems-bauteils in einem einkristallinen material | |
| EP2360213A4 (en) | ANTI-SOIL COATING COMPOSITION, ANTI-SOIL COATING FILM FORMED BY MEANS OF THE COMPOSITION, COATED FILM-COATED ARTICLE ON THE SURFACE, AND ANTI-SOFTENING TREATMENT METHOD FOR FORMING THE COATING FILM | |
| JP2013532222A5 (ja) | ||
| EP2294250A4 (en) | ANTIKORROSIVE HYBRID SOL GEL FILM ON METAL SUBSTRATES AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF | |
| WO2014007901A3 (en) | Hybrid thermal barrier coating | |
| MX337222B (es) | Mejora de adhesion de revestimientos organicos en vidrio. | |
| UA100712C2 (ru) | СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ эмалированной стальной подложки | |
| MY158750A (en) | Method for producing siliceous film and polysilazane coating treatment liquid used therefor | |
| WO2014064057A3 (en) | Method for preparing a substantially clean monolayer of a two-dimensional material | |
| WO2014140846A3 (en) | Inorganic composite coatings comprising novel functionalized acrylics | |
| JP2017117941A5 (ja) | ||
| TW201129636A (en) | Silicon layers formed from polymer-modified liquid silane formulations | |
| ATE523612T1 (de) | Verfahren zur herstellung einer funktionsschicht | |
| WO2014105350A3 (en) | Coatings for enhancing glass strength | |
| WO2013169425A3 (en) | Strengthening glass containers | |
| FI20105789L (fi) | Termisesti ruiskutettu täysin amorfinen oksidipinnoite | |
| JP2017117943A5 (ja) |