JP2012091353A - 撥水膜の形成方法、撥水膜、インクジェットヘッドのノズルプレート - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材上に、常温大気圧下でガスである原料を用いて、Si−O結合を主として、Siに疎水性置換基を直接接合された薄膜を形成する薄膜形成工程と、前記薄膜形成工程で得られた薄膜に励起光を照射し、前記疎水性置換基は残存させて前記薄膜にOH基を有するようにする照射工程と、該照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤を塗布する塗布工程と、を有するように形成する。または、基材上に、Si−O結合を主として、Siに疎水性置換基を直接接合された薄膜を塗布して焼成することで形成する薄膜形成工程と、前記照射工程と、前記塗布工程と、を有するように形成する。
【選択図】図4
Description
まず、本発明の撥水膜の製造方法により製造された撥水膜を適用した例として、ノズルプレート、および、ノズルプレートを備えるインクジェット記録装置について説明する。
給紙部112は、記録媒体124を処理液付与部114に供給する機構であり、当該給紙部112には、枚葉紙である記録媒体124が積層されている。給紙部112には、給紙トレイ150が設けられ、この給紙トレイ150から記録媒体124が一枚ずつ処理液付与部114に給紙される。
処理液付与部114は、記録媒体124の記録面に処理液を付与する機構である。処理液は、描画部116で付与されるインク中の色材(本例では顔料)を凝集させる色材凝集剤を含んでおり、この処理液とインクとが接触することによって、インクは色材と溶媒との分離が促進される。
描画部116は、描画ドラム(第2の搬送体)170、用紙抑えローラ174、及びインクジェットヘッド172M,172K,172C,172Yを備えている。描画ドラム170は、処理液ドラム154と同様に、その外周面に爪形状の保持手段(グリッパー)171を備える。描画ドラム170に固定された記録媒体124は、記録面が外側を向くようにして搬送され、この記録面にインクジェットヘッド172M,172K,172C,172Yからインクが付与される。
乾燥部118は、色材凝集作用により分離された溶媒に含まれる水分を乾燥させる機構であり、図1に示すように、乾燥ドラム176、及び溶媒乾燥装置178を備えている。
定着部120は、定着ドラム184、ハロゲンヒータ186、定着ローラ188、及びインラインセンサ190で構成される。定着ドラム184は、処理液ドラム154と同様に、その外周面に爪形状の保持手段(グリッパー)185を備え、この保持手段185によって記録媒体124の先端を保持できるようになっている。
図1に示すように、定着部120に続いて排出部122が設けられている。排出部122は、排出トレイ192を備えており、この排出トレイ192と定着部120の定着ドラム184との間に、これらに対接するように渡し胴194、搬送ベルト196、張架ローラ198が設けられている。記録媒体124は、渡し胴194により搬送ベルト196に送られ、排出トレイ192に排出される。
次に、インクジェットヘッド172M、172K、172C、172Yの構造について説明する。なお、各インクジェットヘッド172M、172K、172C、172Yの構造は共通しているので、以下では、これらを代表して符号250によってヘッドを示すものとする。
次に、上述した撥水膜262の製造方法について説明する。
上記薄膜を形成する基材の材質は、シリコン、ガラス、金属、セラミック、高分子フィルムの何れかであることが好ましい。本発明は、シリコン、ガラス、金属、セラミック、高分子フィルムの何れであっても、強固で再現性の良い安価な撥水膜を形成することができる。
薄膜形成工程で得られた薄膜に、励起光を照射し、疎水性置換基は残存させてOH基を有するようにする。即ち、励起光で親水化する。
照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤を塗布する。
(サンプル1)
cat−CVD法によりSiOC膜の作製を行った。
塗布法によりSiOC膜の作製を行った。
Claims (8)
- 基材上に、常温大気圧下でガスである原料を用いて、Si−O結合を主として、Siに疎水性置換基を直接接合された薄膜を形成する薄膜形成工程と、
前記薄膜形成工程で得られた薄膜に励起光を照射し、前記疎水性置換基は残存させて前記薄膜にOH基を有するようにする照射工程と、
該照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤を塗布する塗布工程と、を有することを特徴する撥水膜の形成方法。 - 薄膜形成工程は、cat−CVD又はプラズマCVDで行うことを特徴とする請求項1に記載の撥水膜の形成方法。
- 基材上に、Si−O結合を主として、Siに疎水性置換基を直接接合された薄膜を塗布して焼成することで形成する薄膜形成工程と、
前記薄膜形成工程で得られた薄膜に励起光を照射し、前記疎水性置換基は残存させて前記薄膜にOH基を有するようにする照射工程と、
該照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤を塗布する塗布工程と、を有することを特徴する撥水膜の形成方法。 - 前記疎水性置換基は、メチル基であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1に記載の撥水膜の形成方法。
- 前記基材の材質は、シリコン、ガラス、金属、セラミック、高分子フィルムの何れかであることを特徴とする請求項1〜4の何れか1に記載の撥水膜の形成方法。
- 前記励起光は、紫外線又はプラズマであることを特徴とする請求1〜5の何れか1に記載の撥水膜の形成方法。
- 請求項1〜6の何れか1に記載の撥水膜の形成方法により形成されたことを特徴とする撥水膜。
- 前記撥水膜が形成されたことを特徴とする請求項7に記載のインクジェットヘッドのノズルプレート。
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